RU107657U1 - FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE - Google Patents

FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE Download PDF

Info

Publication number
RU107657U1
RU107657U1 RU2011107955/07U RU2011107955U RU107657U1 RU 107657 U1 RU107657 U1 RU 107657U1 RU 2011107955/07 U RU2011107955/07 U RU 2011107955/07U RU 2011107955 U RU2011107955 U RU 2011107955U RU 107657 U1 RU107657 U1 RU 107657U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasma
hollow cathode
diameter
electronic source
cathode
Prior art date
Application number
RU2011107955/07U
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Юрий Георгиевич Юшков
Александр Владимирович Медовник
Виктор Алексеевич Бурдовицин
Ефим Михайлович Окс
Original Assignee
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) filed Critical Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР)
Priority to RU2011107955/07U priority Critical patent/RU107657U1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU107657U1 publication Critical patent/RU107657U1/en

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Форвакуумный плазменный электронный источник, включающий в себя цилиндрический полый катод, плоский анод с отверстием, перекрытым сеткой, ускоряющий электрод, отличающийся тем, что на стенке полого катода, противоположной его апертуре, аксиально симметрично размещают металлический цилиндр, диаметр d и длина l которого связаны с диаметром D и глубиной L полого катода соотношениями ! и . A forevacuum plasma electronic source including a cylindrical hollow cathode, a flat anode with a hole covered by a grid, an accelerating electrode, characterized in that a metal cylinder with a diameter d and a length l of which are connected with diameter D and depth L of the hollow cathode ratios! and.

Description

Полезная модель относится к области плазменной техники и может быть применена при разработке электронно-лучевых устройств и использована в электронно-лучевой технологии, экспериментальной физике, плазмохимической технологии.The utility model relates to the field of plasma technology and can be applied in the development of electron-beam devices and used in electron-beam technology, experimental physics, and plasma-chemical technology.

Известны устройства, предназначенные для генерации электронных пучков путем эмиссии электронов из газоразрядной плазмы (а/с СССР №№835264, 1455928). В этих устройствах плазма создается путем инициирования разряда в газе. Разряд, т.е. ток в газе, поддерживается напряжением, прикладываемым между электродами разрядной системы. Плазменная эмиссионная граница создается в пределах отверстия, выполняемого в одном из электродов разрядной системы. В электронном источнике с плазменным катодом (а/с СССР №1455928), включающем полый катод, цилиндрический анод, плоский катод-отражатель, расположенный напротив полого катода, фокусирующую систему, эмиссионное отверстие устроено в центре плоского катода-отражателя. Ускоряющее напряжение прикладывается между катодом-отражателем и ускоряющим электродом-экстрактором. Указанная электронная пушка позволяет получать остросфокусированный пучок электронов с энергией 20-40 кэВ при давлении газа в ускоряющем промежутке 1,3*10-3 Па÷1,3*10-2 Пa. Инициирование разряда при подаче напряжения между полым катодом и анодом обеспечивается перепадом давления в эмиссионном отверстии за счет напуска газа в катодную полость. При генерации пучков электронов в таком электронном источнике распределение плотности тока по сечению электронного пучка всегда имеет максимум на оси, поскольку концентрация плазмы в разрядной системе на оси максимальная. Изменение конфигурации электродов ускоряющей системы не позволяет добиться получения равномерного по сечению пучка распределения плотности тока. Кроме того, указанный источник оказывается неработоспособным в области форвакуумных давлений, т.е. в диапазоне 5-20 Па.Known devices designed to generate electron beams by emission of electrons from a gas discharge plasma (a / c of the USSR No. 835264, 1455928). In these devices, plasma is created by initiating a discharge in a gas. Discharge, i.e. the current in the gas is supported by the voltage applied between the electrodes of the discharge system. A plasma emission boundary is created within a hole made in one of the electrodes of the discharge system. In an electronic source with a plasma cathode (a / c USSR No. 1455928), including a hollow cathode, a cylindrical anode, a flat reflector cathode located opposite the hollow cathode, a focusing system, the emission hole is located in the center of the flat reflector cathode. An accelerating voltage is applied between the cathode-reflector and the accelerating electrode-extractor. The indicated electron gun makes it possible to obtain a sharply focused electron beam with an energy of 20-40 keV at a gas pressure in the accelerating gap of 1.3 * 10 -3 Pa ÷ 1.3 * 10 -2 Pa. The discharge is initiated when a voltage is applied between the hollow cathode and the anode due to the pressure drop in the emission hole due to gas inlet into the cathode cavity. When generating electron beams in such an electronic source, the distribution of current density over the cross section of the electron beam always has a maximum on the axis, since the plasma concentration in the discharge system on the axis is maximum. Changing the configuration of the electrodes of the accelerating system does not allow obtaining a uniform distribution of the current density over the beam cross section. In addition, the specified source is inoperative in the field of fore-vacuum pressures, i.e. in the range of 5-20 Pa.

Наиболее близким по технической сущности к предполагаемому изобретению является плазменный электронный источник (патент России №2215383), содержащий полый катод, анод с эмиссионным отверстием, ускоряющий электрод, диск из термостойкого неорганического диэлектрика. Указанный источник позволяет получать в форвакууме электронные пучки сечением не более 1 см2 в отсутствие напуска газа в катодную полость. Однако и в данном источнике распределение плотности тока по сечению электронного пучка - неоднородное, что обусловлено большей концентрацией плазмы на оси катодной полости при горении разряда и соответственно более высокой плотностью тока на оси пучка.The closest in technical essence to the alleged invention is a plasma electronic source (Russian patent No. 2215383) containing a hollow cathode, an anode with an emission hole, an accelerating electrode, a disk of a heat-resistant inorganic dielectric. The specified source allows you to get in the forevacuum electron beams with a cross section of not more than 1 cm 2 in the absence of gas inlet into the cathode cavity. However, in this source, the distribution of the current density over the cross section of the electron beam is inhomogeneous, which is due to a higher plasma concentration on the axis of the cathode cavity during discharge burning and, correspondingly, a higher current density on the beam axis.

Целью настоящего полезной модели является увеличение площади поперечного сечения электронного пучка при обеспечении однородного распределения плотности тока по сечению. Поставленная цель достигается тем, что в известном форвакуумном источнике, содержащем цилиндрический полый катод, сеточный анод и сеточный ускоряющий электрод, на стенке полого катода, противоположной его апертуре, аксиально симметрично размещают металлический цилиндр. Диаметр цилиндра d и его длина l связаны с диаметром D глубиной L полого катода соотношениями и . Размещение цилиндра таких размеров изменяет характер радиального распределения плотности плазмы в вблизи сеточного анода, что в свою очередь обеспечивает выравнивание распределения плотности тока по сечению извлеченного из источника широкоапертурного электронного пучка. Указанные соотношения важны для достижения цели изобретения. Если d и l металлического цилиндра меньше D/5 и L/2, соответственно, то радиальное распределение плотности тока в пучке имеет максимум на оси. Наоборот, при условии и распределение плотности тока по диаметру пучка приобретает вид двугорбой кривой. Т.е. на оси пучка имеет место минимум плотности тока.The purpose of this utility model is to increase the cross-sectional area of the electron beam while ensuring a uniform distribution of current density over the cross section. This goal is achieved by the fact that in a known forevacuum source containing a cylindrical hollow cathode, a grid anode and a grid accelerating electrode, a metal cylinder is axially symmetrically placed on the wall of the hollow cathode opposite its aperture. The cylinder diameter d and its length l are related to the diameter D by the depth L of the hollow cathode by the relations and . Placing a cylinder of such dimensions changes the nature of the radial distribution of the plasma density in the vicinity of the grid anode, which in turn ensures that the current density distribution is aligned over the cross section of the wide-aperture electron beam extracted from the source. These ratios are important to achieve the objective of the invention. If d and l of the metal cylinder are less than D / 5 and L / 2, respectively, then the radial distribution of the current density in the beam has a maximum on the axis. On the contrary, provided and the distribution of current density over the beam diameter takes the form of a two-hump curve. Those. a minimum of current density takes place on the axis of the beam.

Схема предлагаемого источника электронов представлена на Фиг.1. Выполненный из меди катод 1 содержит цилиндрическую полость ø 93 мм и высотой 70 мм. Сеточный анод 3 выполнен в виде двух наложенных друг на друга сеток из нержавеющей стали, размер ячейки сетки каждой из которых 0,3×0,3 мм, а геометрическая прозрачность 60%. Сеточный анод 3 закреплен на фланце 4. Собранный узел полого катода установлен на изоляторе 5. Плоскопараллельный ускоряющий промежуток образован двумя сетчатыми электродами: анодом 3 и экстрактором 6. Расстояние между этими электродами во всех экспериментах оставалось неизменным и составляло 25 мм. Сетка экстрактора 6 (2.5×2.5 мм, 70%) также изготовлена из нержавеющей стали. Изоляторы 5 и 7 разрядного и высоковольтного промежутков выполнены из капролона. Диаметр и высота изоляторов равны соответственно 100 и 70 мм для разрядного и 146 и 40 мм для ускоряющего промежутков.A diagram of the proposed electron source is shown in FIG. The cathode 1 made of copper contains a cylindrical cavity ø 93 mm and a height of 70 mm. The grid anode 3 is made in the form of two superimposed stainless steel grids, the mesh cell size of each of which is 0.3 × 0.3 mm, and the geometric transparency is 60%. The grid anode 3 is mounted on the flange 4. The assembled hollow cathode assembly is mounted on the insulator 5. The plane-parallel accelerating gap is formed by two grid electrodes: anode 3 and extractor 6. The distance between these electrodes remained unchanged in all experiments and was 25 mm. The grid of the extractor 6 (2.5 × 2.5 mm, 70%) is also made of stainless steel. Insulators 5 and 7 of the discharge and high-voltage gaps are made of caprolon. The diameter and height of the insulators are respectively 100 and 70 mm for the discharge and 146 and 40 mm for the accelerating gaps.

Новым элементом по сравнению с прототипом является медный цилиндр 2 диаметром 19 мм и длиной 50 мм, размещенный на стенке 1 полого катода.A new element compared to the prototype is a copper cylinder 2 with a diameter of 19 mm and a length of 50 mm, placed on the wall 1 of the hollow cathode.

Источник работает следующим образом. По достижении в вакуумной камере давления 5-10 Па к ускоряющему промежутку прикладывают постоянное напряжение 5-15 кВ. После этого на разрядный промежуток подают импульсы напряжения амплитудой 4 кВ и длительностью 200 мкс. Формирующаяся в полом катоде плазма становится источником электронов, которые извлекаются из плазмы через сетчатый анод, ускоряются постоянным напряжением и формируются в пучок. Размещение в катодной полости металлического цилиндра позволяет выровнять радиальное распределение плотности плазмы вблизи сетчатого анода. Это обеспечивает получение равномерного распределения плотности тока по сечению электронного пучка, как это следует из результатов, представленных на Фиг.2, если диаметр цилиндра d и его длина l связаны с диаметром D и глубиной L полого катода соотношениями и .The source works as follows. Upon reaching a pressure of 5-10 Pa in the vacuum chamber, a constant voltage of 5-15 kV is applied to the accelerating gap. After that, voltage pulses with an amplitude of 4 kV and a duration of 200 μs are supplied to the discharge gap. The plasma formed in the hollow cathode becomes a source of electrons that are extracted from the plasma through the mesh anode, are accelerated by a constant voltage and are formed into a beam. Placing a metal cylinder in the cathode cavity makes it possible to equalize the radial distribution of plasma density near the mesh anode. This ensures a uniform distribution of current density over the cross section of the electron beam, as follows from the results presented in Figure 2, if the cylinder diameter d and its length l are related to the diameter D and the depth L of the hollow cathode by the relations and .

Предлагаемый электронный источник позволяет получать однородный по сечению электронный пучок в области давлений до 10 Па при ускоряющем напряжении не меньшем, чем у наиболее близкого аналога, что расширяет возможные области применения электронных пучков в технологии обработки материалов. В частности, предлагаемый источник может быть использован для электронно-лучевого нагрева, плавления или испарения поверхности как проводящего, так непроводящего материала.The proposed electronic source makes it possible to obtain an electron beam uniform in cross section in the pressure range up to 10 Pa with an accelerating voltage not less than that of the closest analogue, which expands the possible applications of electron beams in material processing technology. In particular, the proposed source can be used for electron beam heating, melting or evaporation of the surface of both conductive and non-conductive material.

Claims (1)

Форвакуумный плазменный электронный источник, включающий в себя цилиндрический полый катод, плоский анод с отверстием, перекрытым сеткой, ускоряющий электрод, отличающийся тем, что на стенке полого катода, противоположной его апертуре, аксиально симметрично размещают металлический цилиндр, диаметр d и длина l которого связаны с диаметром D и глубиной L полого катода соотношениямиA forevacuum plasma electronic source including a cylindrical hollow cathode, a flat anode with a hole covered by a grid, an accelerating electrode, characterized in that a metal cylinder with a diameter d and a length l of which are connected with diameter D and depth L of the hollow cathode relations
Figure 00000001
и
Figure 00000002
.
Figure 00000003
Figure 00000001
and
Figure 00000002
.
Figure 00000003
RU2011107955/07U 2011-03-01 2011-03-01 FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE RU107657U1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011107955/07U RU107657U1 (en) 2011-03-01 2011-03-01 FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011107955/07U RU107657U1 (en) 2011-03-01 2011-03-01 FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU107657U1 true RU107657U1 (en) 2011-08-20

Family

ID=44756164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011107955/07U RU107657U1 (en) 2011-03-01 2011-03-01 FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU107657U1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2758497C1 (en) * 2021-02-24 2021-10-29 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Accelerating gap of a pulsed forevacuum electron source based on an arc discharge
RU2759425C1 (en) * 2020-11-27 2021-11-12 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Plasma emitter of a pulse forevacuum electron source based on an arc discharge
RU209138U1 (en) * 2021-05-25 2022-02-02 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Fore-vacuum plasma source of a pulsed electron beam based on a contracted arc discharge

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2759425C1 (en) * 2020-11-27 2021-11-12 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Plasma emitter of a pulse forevacuum electron source based on an arc discharge
RU2758497C1 (en) * 2021-02-24 2021-10-29 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Accelerating gap of a pulsed forevacuum electron source based on an arc discharge
RU209138U1 (en) * 2021-05-25 2022-02-02 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники» Fore-vacuum plasma source of a pulsed electron beam based on a contracted arc discharge

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Klimov et al. Forevacuum plasma source of continuous electron beam
RU134697U1 (en) HIGH-FREQUENCY RADIATION GENERATOR BASED ON A Hollow Cathode Discharge
RU107657U1 (en) FORVACUMUM PLASMA ELECTRONIC SOURCE
JP5186599B2 (en) Electron gun, vacuum processing equipment
Vorobyov et al. Investigation of the stability of the electron source with a multi-aperture plasma emitter generating a large cross-section electron beam
Burdovitsin et al. A plasma-cathode electron source for focused-beam generation in the fore-pump pressure range
RU2446504C1 (en) High-current electron gun
Yushkov et al. A forevacuum plasma source of pulsed electron beams
Koval et al. Formation of high intensity ion beams with ballistic focusing
RU2654494C1 (en) Vacuum spark discharger
RU2306683C1 (en) Plasma electron source
US20070114475A1 (en) Ion generator
RU134728U1 (en) FORWARE SOURCE OF PULSE ELECTRON BEAM
Lu et al. Design and experimental study of high-voltage pulsed penning discharge source with grid electrode
Maszl et al. Observations of self-organized luminous patterns on the anode of a direct-current glow discharge at higher pressures
RU2215383C1 (en) Plasma electron source
Gushenets et al. Effect of the enhanced breakdown strength in plasma-filled optical system of electron beam formation
RU2454046C1 (en) Plasma electron emitter
RU170782U1 (en) VACUUM DISCHARGE
RU121813U1 (en) DEVICE FOR MODIFICATION OF SOLID SURFACE
RU159300U1 (en) ELECTRONIC SOURCE WITH PLASMA EMITTER
RU2654493C1 (en) Vacuum arrester
RU2237942C1 (en) Heavy-current electron gun
RU130135U1 (en) PULSE METALLO-CERAMIC X-RAY TUBE
Bugaev et al. Enhanced electric breakdown strength in an electron-optical system

Legal Events

Date Code Title Description
QB1K Licence on use of utility model

Free format text: LICENCE

Effective date: 20121114

MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20160302