RU2015116810A - Поворотное устройство позиционирования - Google Patents

Поворотное устройство позиционирования Download PDF

Info

Publication number
RU2015116810A
RU2015116810A RU2015116810A RU2015116810A RU2015116810A RU 2015116810 A RU2015116810 A RU 2015116810A RU 2015116810 A RU2015116810 A RU 2015116810A RU 2015116810 A RU2015116810 A RU 2015116810A RU 2015116810 A RU2015116810 A RU 2015116810A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
levitation
positioning device
anchors
rotary positioning
magnetic circuit
Prior art date
Application number
RU2015116810A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2642907C2 (ru
Inventor
ЛИВЕНОГЕН Анне Йоханнес Вильхельмус ВАН
Георго Зорз АНГЕЛИС
Юстус Бьорн ПОСТ
Original Assignee
Конинклейке Филипс Н.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Конинклейке Филипс Н.В. filed Critical Конинклейке Филипс Н.В.
Publication of RU2015116810A publication Critical patent/RU2015116810A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2642907C2 publication Critical patent/RU2642907C2/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H02N15/00—Holding or levitation devices using magnetic attraction or repulsion, not otherwise provided for
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68792—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the construction of the shaft
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K41/00—Propulsion systems in which a rigid body is moved along a path due to dynamo-electric interaction between the body and a magnetic field travelling along the path
    • H02K41/02—Linear motors; Sectional motors
    • H02K41/03—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors
    • H02K41/031—Synchronous motors; Motors moving step by step; Reluctance motors of the permanent magnet type
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K7/00—Arrangements for handling mechanical energy structurally associated with dynamo-electric machines, e.g. structural association with mechanical driving motors or auxiliary dynamo-electric machines
    • H02K7/08—Structural association with bearings
    • H02K7/09—Structural association with bearings with magnetic bearings
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K2201/00—Specific aspects not provided for in the other groups of this subclass relating to the magnetic circuits
    • H02K2201/18—Machines moving with multiple degrees of freedom

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Control Of Linear Motors (AREA)

Abstract

1. Поворотное устройство (100, 100', 100") позиционирования, содержащее:- кольцевой магнитопровод (110), генерирующий магнитное поле по кольцевому воздушному зазору (113),- по меньшей мере три якоря (120, 121, 122), каждый включающий в себя множество катушек (1201, 1202, 1203), по меньшей мере частично расположенных в кольцевом воздушном зазоре (113), и каждый выполнен с возможностью генерирования силы левитации в ортогональном кольцевому магнитопроводу направлении левитации и движущей силы в направлении приведения в движение вдоль кольцевого магнитопровода, причем упомянутые якоря расположены в различных угловых положениях вдоль упомянутого кольцевого магнитопровода, и- контроллер (140) для подачи токов на упомянутые якоря для индивидуального управления генерированием силы левитации и/или движущей силы посредством упомянутых якорей для осуществления вращательного движения и/или движения качания, и/или поступательного движения упомянутого кольцевого магнитопровода.2. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, в котором упомянутые якоря (120, 121, 122) расположены на равных угловых расстояниях.3. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, содержащее три якоря (120, 121, 122), расположенные на угловых расстояниях практически 120°.4. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, в котором каждая из катушек (1201, 1201, 1202) якорей (120, 121, 122) содержит левитационные витки (413, 414), которые расположены практически параллельно направлению приведения в движение и ортогонально направлению левитации, и приводные витки (411, 412), которые расположены практически параллельно направлению левитации и практически ортогонально направлению приведения в движение.5. Поворотное устройство позиционирования по п. 4, в котором каждая из катушек (1201, 1201, 1202)

Claims (11)

1. Поворотное устройство (100, 100', 100") позиционирования, содержащее:
- кольцевой магнитопровод (110), генерирующий магнитное поле по кольцевому воздушному зазору (113),
- по меньшей мере три якоря (120, 121, 122), каждый включающий в себя множество катушек (1201, 1202, 1203), по меньшей мере частично расположенных в кольцевом воздушном зазоре (113), и каждый выполнен с возможностью генерирования силы левитации в ортогональном кольцевому магнитопроводу направлении левитации и движущей силы в направлении приведения в движение вдоль кольцевого магнитопровода, причем упомянутые якоря расположены в различных угловых положениях вдоль упомянутого кольцевого магнитопровода, и
- контроллер (140) для подачи токов на упомянутые якоря для индивидуального управления генерированием силы левитации и/или движущей силы посредством упомянутых якорей для осуществления вращательного движения и/или движения качания, и/или поступательного движения упомянутого кольцевого магнитопровода.
2. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, в котором упомянутые якоря (120, 121, 122) расположены на равных угловых расстояниях.
3. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, содержащее три якоря (120, 121, 122), расположенные на угловых расстояниях практически 120°.
4. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, в котором каждая из катушек (1201, 1201, 1202) якорей (120, 121, 122) содержит левитационные витки (413, 414), которые расположены практически параллельно направлению приведения в движение и ортогонально направлению левитации, и приводные витки (411, 412), которые расположены практически параллельно направлению левитации и практически ортогонально направлению приведения в движение.
5. Поворотное устройство позиционирования по п. 4, в котором каждая из катушек (1201, 1201, 1202) якорей (120, 121, 122) содержит:
- первый комплект левитационных витков, которые расположены внутри магнитного поля,
- второй комплект левитационных витков, которые расположены вне магнитного поля, и
- противоположный комплект приводных витков, которые расположены практически внутри магнитного поля.
6. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, в котором контроллер (140) выполнен с возможностью подачи тока возбуждения на катушку для генерирования движущей силы и подачи на ту же катушку тока левитации, наложенного на ток возбуждения и сдвинутого по фазе относительно него, для генерирования силы левитации.
7. Поворотное устройство позиционирования по п. 6, в котором контроллер (140) выполнен с возможностью обеспечения фазового сдвига тока левитации относительно тока возбуждения таким образом, чтобы сила левитации была по меньшей мере практически развязана с движущей силой.
8. Поворотное устройство позиционирования по п. 6, в котором контроллер (140) выполнен с возможностью обеспечения фазового сдвига тока левитации относительно тока возбуждения на 90°.
9. Поворотное устройство позиционирования по п. 1, дополнительно содержащее компенсатор (170) силы тяжести.
10. Поворотное устройство позиционирования по п. 9, в котором упомянутый компенсатор (170) силы тяжести расположен в центре магнитопровода (110).
11. Поворотное устройство позиционирования по п. 10, в котором упомянутый компенсатор (170) силы тяжести содержит первый магнит (171), неподвижно установленный на магнитопроводе (110), и противоположный первому магниту (171) второй магнит (172).
RU2015116810A 2012-10-05 2013-10-05 Поворотное устройство позиционирования RU2642907C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261710087P 2012-10-05 2012-10-05
US61/710,087 2012-10-05
PCT/IB2013/059138 WO2014054034A2 (en) 2012-10-05 2013-10-05 Rotary positioning device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2015116810A true RU2015116810A (ru) 2016-11-27
RU2642907C2 RU2642907C2 (ru) 2018-01-29

Family

ID=49765597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015116810A RU2642907C2 (ru) 2012-10-05 2013-10-05 Поворотное устройство позиционирования

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9356539B2 (ru)
EP (1) EP2904635B1 (ru)
JP (1) JP5872744B2 (ru)
CN (1) CN104603924B (ru)
BR (1) BR112015004409A2 (ru)
RU (1) RU2642907C2 (ru)
WO (1) WO2014054034A2 (ru)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105988304B (zh) * 2015-02-28 2018-10-16 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种可调磁浮力重力补偿器
US9979259B2 (en) * 2015-08-27 2018-05-22 Apple Inc. Electromagnetic levitator
WO2017119002A1 (en) * 2016-01-04 2017-07-13 Thomas Renjith Magnetic levitation mounted and controlled payload on a curved surface
CN108110942B (zh) * 2018-01-04 2023-10-27 中国科学院电工研究所 一种磁悬浮机械储能系统
US20200203209A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 Xia Tai Xin Semiconductor (Qing Dao) Ltd. Apparatus and system for wafer spin process
JP2022011045A (ja) * 2020-06-29 2022-01-17 キヤノン株式会社 搬送装置、基板処理装置、および物品製造方法
CN111726038B (zh) * 2020-07-24 2021-05-28 河北腾云信息技术有限公司 托举式磁悬浮装置
CN113471112B (zh) * 2021-07-16 2024-02-20 上海隐冠半导体技术有限公司 磁浮重力补偿装置和微动台
NL2031971B1 (en) * 2022-05-24 2023-12-07 Mi Partners B V Gravity compensator

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5216308A (en) * 1989-05-25 1993-06-01 Avcon-Advanced Controls Technology, Inc. Magnetic bearing structure providing radial, axial and moment load bearing support for a rotatable shaft
US5757181A (en) * 1992-06-22 1998-05-26 Durakool Incorporated Electronic circuit for automatically compensating for errors in a sensor with an analog output signal
US5638303A (en) * 1995-06-28 1997-06-10 Mcdonnell Douglas Corporation Non-contacting isolated stabilized microgravity platform system
US5818137A (en) * 1995-10-26 1998-10-06 Satcon Technology, Inc. Integrated magnetic levitation and rotation system
JPH10521A (ja) * 1996-06-07 1998-01-06 Nikon Corp 支持装置
US6054784A (en) 1997-12-29 2000-04-25 Asm Lithography B.V. Positioning device having three coil systems mutually enclosing angles of 120° and lithographic device comprising such a positioning device
JP3923696B2 (ja) * 1999-07-19 2007-06-06 株式会社荏原製作所 基板回転装置
JP2001230305A (ja) * 2000-02-18 2001-08-24 Canon Inc 支持装置
FR2811664B1 (fr) 2000-07-17 2002-09-13 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation d'un compose polyaromatique
US6770146B2 (en) * 2001-02-02 2004-08-03 Mattson Technology, Inc. Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers
US6864601B2 (en) * 2001-03-01 2005-03-08 Nikon Corporation Electric motors with reduced stray magnetic fields
AT413162B (de) * 2001-09-26 2005-11-15 Sez Ag Ringförmige aufnahmevorrichtung für einen rotierenden träger zur aufnahme eines scheibenförmigen gegenstandes wie eines halbleiterwafers
JP4136363B2 (ja) * 2001-11-29 2008-08-20 キヤノン株式会社 位置決め装置及びそれを用いた露光装置
KR101129119B1 (ko) 2003-09-12 2012-03-26 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광학 요소의 조작을 위한 장치
US7185590B2 (en) 2004-03-08 2007-03-06 National Taiwan University Planar maglev positioning system
EP1927180B1 (en) 2005-08-29 2015-11-04 Koninklijke Philips N.V. Ironless magnetic linear motors having levitating and transversal force capacities
JP4814731B2 (ja) * 2006-08-30 2011-11-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ 基板保持装置、検査または処理の装置、基板保持方法、検査または処理の方法および検査装置
WO2008134796A1 (en) * 2007-05-03 2008-11-13 In Motion Technologies Pty Ltd Rotor magnet positioning device
US8008884B2 (en) * 2007-07-17 2011-08-30 Brooks Automation, Inc. Substrate processing apparatus with motors integral to chamber walls
TW200929838A (en) * 2007-10-12 2009-07-01 Koninkl Philips Electronics Nv Commutation current generator for magnetic motors
CN101290476B (zh) 2008-05-20 2010-06-09 上海微电子装备有限公司 六自由度微动台
US8801497B2 (en) * 2009-04-30 2014-08-12 Rdc Holdings, Llc Array of abrasive members with resilient support
TW201108478A (en) * 2009-08-25 2011-03-01 Largan Precision Co Ltd Actuator
CN101741289B (zh) 2009-12-24 2012-09-05 哈尔滨工业大学 短行程多自由度磁悬浮平面电机
CN101908497B (zh) * 2010-07-14 2013-04-10 哈尔滨工业大学 一种应用于高洁净度环境下的双臂传输机器人
CN102060116B (zh) * 2010-11-23 2015-04-22 上海骏图电子科技有限公司 一种塑封贴片二极管的后道包装测试设备

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014054034A3 (en) 2014-11-27
RU2642907C2 (ru) 2018-01-29
EP2904635B1 (en) 2016-06-08
BR112015004409A2 (pt) 2017-07-04
US9356539B2 (en) 2016-05-31
CN104603924A (zh) 2015-05-06
JP2016501003A (ja) 2016-01-14
JP5872744B2 (ja) 2016-03-01
CN104603924B (zh) 2017-06-20
US20150236621A1 (en) 2015-08-20
EP2904635A2 (en) 2015-08-12
WO2014054034A2 (en) 2014-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2015116810A (ru) Поворотное устройство позиционирования
WO2007113651A3 (en) Motor and electric power supply control apparatus for the motor
MX2012011410A (es) Sistema generador de energia electrica que utiliza balance de fuerza magnetica.
WO2011049298A3 (ko) 선형 전동기
EP2503677A3 (en) Reciprocal vibration type power generator equipped with inner columnar and outer annular magnetic motion block
JP2012038732A5 (ru)
RU2012137168A (ru) Электромагнитное устройство
MY165056A (en) Power generator
JP2007263680A5 (ru)
WO2012165895A3 (ko) 회전형 자가발전장치
TWI652883B (zh) Magnetic power generator
RU2014100905A (ru) Магнитная опора с вращающимся полем
JP2009159753A5 (ru)
RU2012105222A (ru) Магнитный генератор
JP6340218B2 (ja) リニアモータ
TWM564862U (zh) Magnetic power generator
RU2012115216A (ru) Синхронный электродвигатель
WO2015060669A3 (ko) 조류 발전장치
RU2010101858A (ru) Способ стабилизации напряжения генератора при изменении скорости вращения ротора
CN104038013B (zh) 三相三单元永磁式循轨摩擦振动执行器
WO2013030479A3 (fr) Machine electrique tournante
JP2013207966A (ja) アクチュエータ
WO2012165989A3 (en) Low speed electric generator
RU2012104292A (ru) Магнитный генератор
RU2009110060A (ru) Ферромагнитный термодинамический мотор-генератор

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20191006