RU2014123221A - Псевдоморфный переключатель свч - Google Patents

Псевдоморфный переключатель свч Download PDF

Info

Publication number
RU2014123221A
RU2014123221A RU2014123221/08A RU2014123221A RU2014123221A RU 2014123221 A RU2014123221 A RU 2014123221A RU 2014123221/08 A RU2014123221/08 A RU 2014123221/08A RU 2014123221 A RU2014123221 A RU 2014123221A RU 2014123221 A RU2014123221 A RU 2014123221A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
gan
channel
buffer layer
dielectric layer
Prior art date
Application number
RU2014123221/08A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2574809C2 (ru
Inventor
Грачик Хачатурович Аветисян
Алексей Сергеевич Адонин
Юрий Владимирович Колковский
Вадим Минхатович Миннебаев
Original Assignee
Открытое акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Пульсар"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Пульсар" filed Critical Открытое акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Пульсар"
Priority to RU2014123221/08A priority Critical patent/RU2574809C2/ru
Priority claimed from RU2014123221/08A external-priority patent/RU2574809C2/ru
Publication of RU2014123221A publication Critical patent/RU2014123221A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2574809C2 publication Critical patent/RU2574809C2/ru

Links

Landscapes

  • Inorganic Insulating Materials (AREA)

Abstract

1. Переключатель СВЧ, содержащий подложку из сапфира, на которой последовательно размещены: буферный слой AlN, буферный слой из GaN, буферный слой из нелегированного GaN i-типа проводимости, кроме того, переключатель СВЧ содержит двумерный электронный газ высокой плотности, который служит нижней обкладкой конденсатора, сглаживающий слой из нитрида галлия, поверх которого нанесен слой диэлектрика из двуокиси гафния, металлические электроды полосковой формы, которые образуют верхнюю обкладку конденсатора, и два конденсатора, образующих двойные ВЧ-ключи, отличающийся тем, что на буферном слое из нелегированного GaN i-типа проводимости последовательно размещены сверхрешетка из AlGaN/GaN, буферный слой из GaN, сильнолегированный слой n-типа проводимости из AlGaN, спейсер из AlGaN, сглаживающий слой, канал из InGaN, сглаживающий дополнительный слой из GaN, слой диэлектрика из двуокиси гафния и дополнительный слой диэлектрика, при этом переключатель выполнен с минимальным количеством глубоких электронных ловушек DX, а канал выполнен упруго-напряженным псевдоморфным с концентрацией InGa 15-25%, а двумерный электронный газ образован между каналом и слоем из AlGaN.2. Переключатель по п. 1, отличающийся тем, что канал выполнен из InGaN с шириной запрещенной зоны 5,35 эВ.3. Переключатель по п. 1, отличающийся тем, что канал выполнен с критической толщиной 7-16 нм.4. Переключатель по п. 1, отличающийся тем, что дополнительный слой из диэлектрика выполнен из AlO, или ZrO, или LaO, или YO.

Claims (4)

1. Переключатель СВЧ, содержащий подложку из сапфира, на которой последовательно размещены: буферный слой AlN, буферный слой из GaN, буферный слой из нелегированного GaN i-типа проводимости, кроме того, переключатель СВЧ содержит двумерный электронный газ высокой плотности, который служит нижней обкладкой конденсатора, сглаживающий слой из нитрида галлия, поверх которого нанесен слой диэлектрика из двуокиси гафния, металлические электроды полосковой формы, которые образуют верхнюю обкладку конденсатора, и два конденсатора, образующих двойные ВЧ-ключи, отличающийся тем, что на буферном слое из нелегированного GaN i-типа проводимости последовательно размещены сверхрешетка из AlXGa1-XN/GaN, буферный слой из GaN, сильнолегированный слой n-типа проводимости из AlXGa1-XN, спейсер из AlXGa1-XN, сглаживающий слой, канал из InXGa1-XN, сглаживающий дополнительный слой из GaN, слой диэлектрика из двуокиси гафния и дополнительный слой диэлектрика, при этом переключатель выполнен с минимальным количеством глубоких электронных ловушек DX, а канал выполнен упруго-напряженным псевдоморфным с концентрацией InGa 15-25%, а двумерный электронный газ образован между каналом и слоем из AlXGa1-XN.
2. Переключатель по п. 1, отличающийся тем, что канал выполнен из In0,17Ga0,83N с шириной запрещенной зоны 5,35 эВ.
3. Переключатель по п. 1, отличающийся тем, что канал выполнен с критической толщиной 7-16 нм.
4. Переключатель по п. 1, отличающийся тем, что дополнительный слой из диэлектрика выполнен из Al2O3, или ZrO2, или La2O3, или Y2O3.
RU2014123221/08A 2014-06-09 Псевдоморфный переключатель свч RU2574809C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014123221/08A RU2574809C2 (ru) 2014-06-09 Псевдоморфный переключатель свч

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014123221/08A RU2574809C2 (ru) 2014-06-09 Псевдоморфный переключатель свч

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2014123221A true RU2014123221A (ru) 2015-12-20
RU2574809C2 RU2574809C2 (ru) 2016-02-10

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9412856B2 (en) Semiconductor device
CN102130158B (zh) 阶梯型凹槽栅高电子迁移率晶体管
RU2017143211A (ru) Транзистор с высокой подвижностью электронов на основе соединений нитрида алюминия-галлия/нитрида галлия
CN104064594A (zh) 半导体器件及其制造方法、电源装置和高频放大器
JP2015529019A5 (ru)
EP2913853A3 (en) Semiconductor device
CN102709321A (zh) 增强型开关器件及其制造方法
EP2713402A3 (en) Normally-off high electron mobility transistor
EP4092756A3 (en) High electron mobility transistor and manufacturing method thereof
JP2011114269A (ja) 半導体装置
US9647102B2 (en) Field effect transistor
JP2014107566A5 (ru)
CN105514157A (zh) 一种GaN基双异质结HEMT器件及其制作方法
JP2013008836A (ja) 窒化物半導体装置
CN105870165A (zh) 一种势垒层组分渐变的InAlN/GaN HEMT器件
CN205666237U (zh) 一种势垒层组分渐变的InAlN/GaN HEMT器件
RU2014123221A (ru) Псевдоморфный переключатель свч
RU2014102628A (ru) Мощный переключатель свч
Li et al. Normally-off AlGaN/AlN/GaN HEMT with a composite recessed gate
TWI790291B (zh) 半導體功率元件
RU2014123220A (ru) Мощный псевдоморфный переключатель свч
RU2014124856A (ru) Мощный переключатель свч
Hsu et al. Recessed-gate AlGaN/GaN MIS-FETs with dual 2DEG channels
TW201342596A (zh) 三族氮化物高電子遷移率電晶體
KR101331650B1 (ko) 반도체 소자