RU2014112883A - METHOD OF MICROWAVE TREATMENT OF DIELECTRIC MATERIALS (OPTIONS) - Google Patents

METHOD OF MICROWAVE TREATMENT OF DIELECTRIC MATERIALS (OPTIONS) Download PDF

Info

Publication number
RU2014112883A
RU2014112883A RU2014112883/06A RU2014112883A RU2014112883A RU 2014112883 A RU2014112883 A RU 2014112883A RU 2014112883/06 A RU2014112883/06 A RU 2014112883/06A RU 2014112883 A RU2014112883 A RU 2014112883A RU 2014112883 A RU2014112883 A RU 2014112883A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
microwave
dielectric
dielectric material
irradiated
emitter
Prior art date
Application number
RU2014112883/06A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2570293C2 (en
Inventor
Светлана Николаевна Лаптева
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова" filed Critical Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова"
Priority to RU2014112883/06A priority Critical patent/RU2570293C2/en
Publication of RU2014112883A publication Critical patent/RU2014112883A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2570293C2 publication Critical patent/RU2570293C2/en

Links

Landscapes

  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Abstract

1. Способ СВЧ-обработки диэлектрических материалов, состоящий в том, что диэлектрический материал с известной диэлектрической проницаемостью (ε) и тангенсом угла диэлектрических потерь (tg δ) помещают в металлическую камеру, облучают СВЧ-излучением, отличающийся тем, что СВЧ-излучатель размещают с противоположной стороны перпендикулярно обрабатываемой поверхности диэлектрического материала, который облучают СВЧ-излучением подачей электромагнитных волн перпендикулярно его поверхности, механически устанавливают размеры h СВЧ-излучателя, и компенсируют реактивную составляющую входного сопротивления.2. Способ СВЧ-обработки диэлектрических материалов, состоящий в том, что диэлектрический материал с неизвестной диэлектрической проницаемостью (ε) и тангенсом угла потерь (tg δ) помещают в металлическую камеру, облучают СВЧ-излучением, отличающийся тем, что СВЧ-излучатель размещают с противоположной стороны перпендикулярно обрабатываемой поверхности диэлектрического материала, который облучают СВЧ-излучением подачей электромагнитных волн перпендикулярно его поверхности, определяют положение сечения волноводной линии, в котором входное сопротивление равно волновому, СВЧ-излучатель располагают на расстоянии, кратном целому числу длин полуволн от найденного расстояния l между СВЧ-излучателем и границей раздела обрабатываемой поверхности диэлектрического материала и свободного пространства.1. The method of microwave processing of dielectric materials, which consists in the fact that a dielectric material with a known dielectric constant (ε) and dielectric loss tangent (tan δ) are placed in a metal chamber, irradiated with microwave radiation, characterized in that the microwave emitter is placed on the opposite side of the surface of the dielectric material perpendicular to the surface that is irradiated with microwave radiation by applying electromagnetic waves perpendicular to its surface, the dimensions h of the microwave emitter are mechanically set I, and compensate for the reactive component of the input resistance. 2. The method of microwave processing of dielectric materials, which consists in the fact that a dielectric material with an unknown dielectric constant (ε) and a loss tangent (tan δ) are placed in a metal chamber, irradiated with microwave radiation, characterized in that the microwave emitter is placed on the opposite side perpendicular to the treated surface of the dielectric material, which is irradiated with microwave radiation by the supply of electromagnetic waves perpendicular to its surface, determine the position of the section of the waveguide line in which the input the resistance is equal to the wave, the microwave emitter is located at a distance multiple of an integer half-wavelength from the found distance l between the microwave emitter and the interface of the treated surface of the dielectric material and free space.

Claims (2)

1. Способ СВЧ-обработки диэлектрических материалов, состоящий в том, что диэлектрический материал с известной диэлектрической проницаемостью (ε) и тангенсом угла диэлектрических потерь (tg δ) помещают в металлическую камеру, облучают СВЧ-излучением, отличающийся тем, что СВЧ-излучатель размещают с противоположной стороны перпендикулярно обрабатываемой поверхности диэлектрического материала, который облучают СВЧ-излучением подачей электромагнитных волн перпендикулярно его поверхности, механически устанавливают размеры h СВЧ-излучателя, и компенсируют реактивную составляющую входного сопротивления.1. The method of microwave processing of dielectric materials, which consists in the fact that a dielectric material with a known dielectric constant (ε) and dielectric loss tangent (tan δ) are placed in a metal chamber, irradiated with microwave radiation, characterized in that the microwave emitter is placed on the opposite side of the surface of the dielectric material perpendicular to the surface that is irradiated with microwave radiation by applying electromagnetic waves perpendicular to its surface, the dimensions h of the microwave emitter are mechanically set I, and compensate for the reactive component of the input resistance. 2. Способ СВЧ-обработки диэлектрических материалов, состоящий в том, что диэлектрический материал с неизвестной диэлектрической проницаемостью (ε) и тангенсом угла потерь (tg δ) помещают в металлическую камеру, облучают СВЧ-излучением, отличающийся тем, что СВЧ-излучатель размещают с противоположной стороны перпендикулярно обрабатываемой поверхности диэлектрического материала, который облучают СВЧ-излучением подачей электромагнитных волн перпендикулярно его поверхности, определяют положение сечения волноводной линии, в котором входное сопротивление равно волновому, СВЧ-излучатель располагают на расстоянии, кратном целому числу длин полуволн от найденного расстояния l между СВЧ-излучателем и границей раздела обрабатываемой поверхности диэлектрического материала и свободного пространства. 2. A method of microwave processing of dielectric materials, wherein a dielectric material with an unknown dielectric constant (ε) and a loss tangent (tan δ) is placed in a metal chamber, irradiated with microwave radiation, characterized in that the microwave emitter is placed with the opposite side of the perpendicular to the treated surface of the dielectric material, which is irradiated with microwave radiation by supplying electromagnetic waves perpendicular to its surface, determine the position of the section of the waveguide line in which the input e is equal to the wave resistance, microwave emitter a distance, an integer multiple of half-wave lengths of the found distance l between the microwave radiator and the edge of the treated surface section of dielectric material and free space.
RU2014112883/06A 2014-04-02 2014-04-02 Method of uhf-treatment of dielectric materials (options) RU2570293C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014112883/06A RU2570293C2 (en) 2014-04-02 2014-04-02 Method of uhf-treatment of dielectric materials (options)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2014112883/06A RU2570293C2 (en) 2014-04-02 2014-04-02 Method of uhf-treatment of dielectric materials (options)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2014112883A true RU2014112883A (en) 2015-10-10
RU2570293C2 RU2570293C2 (en) 2015-12-10

Family

ID=54289392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014112883/06A RU2570293C2 (en) 2014-04-02 2014-04-02 Method of uhf-treatment of dielectric materials (options)

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2570293C2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2681619C1 (en) * 2017-12-29 2019-03-11 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Омский государственный технический университет" Method and device for diluting oil sludge inside tanks and closed capacities with microwave-field

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2061203C1 (en) * 1992-07-31 1996-05-27 Товарищество с ограниченной ответственностью "Научно-техническое предприятие "Ликташ" Device for heat treatment of flat dielectric materials
RU2302592C1 (en) * 2005-12-15 2007-07-10 Белгородский государственный технологический университет им. В.Г. Шухова Method of microwave treatment of dielectric materials
US9038284B2 (en) * 2011-11-29 2015-05-26 Corning Incorporated Systems and methods for efficient microwave drying of extruded honeycomb structures

Also Published As

Publication number Publication date
RU2570293C2 (en) 2015-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CY1121221T1 (en) DEVICE AND METHOD OF DEHYDRATION WITH THE USE OF MICROWAVE RADIATION
MX2019007253A (en) Microwave application method and apparatus.
EP3302264A4 (en) Low intensity focused ultrasound for treating cancer and metastasis
EP3352761A4 (en) Method of treating malignant rhabdoid tumor of the ovary (mrto)/small cell cancer of the ovary of the hypercalcemic type (sccoht) with an ezh2 inhibitor
MX2015009065A (en) Process for obtaining a substrate equipped with a coating.
TW201612601A (en) Light source apparatus and ultra-violet irradiation apparatus
JP2016116953A5 (en)
EA201490479A1 (en) METHOD OF FORMING A CONDUCTING IMAGE ON A CONDUCTIVE SURFACE
JP2017028111A5 (en)
SG11202012047XA (en) Electromagnetic wave shielding sheet
MY183791A (en) Microwave irradiating and heating device
RU2012108636A (en) MICROWAVE HEATING DEVICE
SA519402163B1 (en) Drying a coating using electromagnetic radiation or heating of drum
RU2014112883A (en) METHOD OF MICROWAVE TREATMENT OF DIELECTRIC MATERIALS (OPTIONS)
MX2017004512A (en) Heated glass panel for electromagnetic shielding.
MY187667A (en) Microwave irradiating and heating device
EP3654451A4 (en) Dual-frequency feed source assembly and dual-frequency microwave antenna
MY181056A (en) Microwave irradiating and heating device
TW201614756A (en) Magnetic annealing apparatus and magnetic annealing method
MY193608A (en) Grill providing recycled condensate for heated apparatus
FR3042091B1 (en) ELEMENTARY DEVICE FOR APPLYING MICROWAVE ENERGY WITH COAXIAL APPLICATOR
TW201614759A (en) Plasma processing apparatus
TWI800485B (en) Electromagnetic wave shielding material
EP3439446A4 (en) Electromagnetic wave shielding material
MY189980A (en) Irradiation device for heating

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20200403