RU2014101353A - Устройство обеспечения потока плазмы - Google Patents

Устройство обеспечения потока плазмы Download PDF

Info

Publication number
RU2014101353A
RU2014101353A RU2014101353/07A RU2014101353A RU2014101353A RU 2014101353 A RU2014101353 A RU 2014101353A RU 2014101353/07 A RU2014101353/07 A RU 2014101353/07A RU 2014101353 A RU2014101353 A RU 2014101353A RU 2014101353 A RU2014101353 A RU 2014101353A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
dielectric substrate
electrode
plasma
active product
flow path
Prior art date
Application number
RU2014101353/07A
Other languages
English (en)
Inventor
Томас Бикфорд ХОЛБИЧ
Original Assignee
Линде Акциенгезелльшафт
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Линде Акциенгезелльшафт filed Critical Линде Акциенгезелльшафт
Publication of RU2014101353A publication Critical patent/RU2014101353A/ru

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B18/04—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating
    • A61B18/042—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating using additional gas becoming plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32348—Dielectric barrier discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32458—Vessel
    • H01J37/32477—Vessel characterised by the means for protecting vessels or internal parts, e.g. coatings
    • H01J37/32495—Means for protecting the vessel against plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32816—Pressure
    • H01J37/32825—Working under atmospheric pressure or higher
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
    • H05H1/246—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated using external electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
    • H05H1/2465—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated by inductive coupling, e.g. using coiled electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2240/00—Testing
    • H05H2240/10—Testing at atmospheric pressure
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2240/00—Testing
    • H05H2240/20—Non-thermal plasma

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Surgery (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Otolaryngology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Surgical Instruments (AREA)

Abstract

1. Устройство формирования при окружающем атмосферном давлении газообразной плазмы, содержащей активный продукт для обработки области лечения, причем устройство содержит плазменный элемент для формирования упомянутой газообразной плазмы, чтобы обрабатывать область лечения, причем плазменный элемент содержит впуск для приема газа от источника и выпуск для выпуска активного продукта, формируемого в элементе, диэлектрическую подложку, выполненную из полиимида, окружающую путь прохождения потока газа, подаваемого от впуска к выпуску, и электрод, сформированный на диэлектрической подложке для возбуждения газа на пути прохождения потока, чтобы сформировать активный продукт, причем защитное покрытие, изготовленное из диэлектрика, сформировано на внутренней поверхности диэлектрической подложки для защиты диэлектрической подложки от реакции с активным продуктом.2. Устройство по п. 1, в котором защитное покрытие выполнено из материала, выбранного из числа следующих: PTFE, FEP или силиконовая резина, в общем не вступающих в реакцию с активным продуктом.3. Устройство по п. 1 или 2, в котором электрод сформирован нанесением структуры из электропроводящего материала на диэлектрическую подложку.4. Устройство по п. 3, в котором электрод впечатан.5. Устройство по п. 3, в котором нанесенный электрод сформирован из волоконной матрицы, перенесенной на диэлектрическую подложку.6. Устройство по п. 1, в котором диэлектрическая подложка является гибкой и имеет форму, определяющую путь прохождения потока.7. Устройство по п. 6, в котором диэлектрическая подложка образована гибкой трубкой, окружающей путь прохождения потока.8. Устройство

Claims (10)

1. Устройство формирования при окружающем атмосферном давлении газообразной плазмы, содержащей активный продукт для обработки области лечения, причем устройство содержит плазменный элемент для формирования упомянутой газообразной плазмы, чтобы обрабатывать область лечения, причем плазменный элемент содержит впуск для приема газа от источника и выпуск для выпуска активного продукта, формируемого в элементе, диэлектрическую подложку, выполненную из полиимида, окружающую путь прохождения потока газа, подаваемого от впуска к выпуску, и электрод, сформированный на диэлектрической подложке для возбуждения газа на пути прохождения потока, чтобы сформировать активный продукт, причем защитное покрытие, изготовленное из диэлектрика, сформировано на внутренней поверхности диэлектрической подложки для защиты диэлектрической подложки от реакции с активным продуктом.
2. Устройство по п. 1, в котором защитное покрытие выполнено из материала, выбранного из числа следующих: PTFE, FEP или силиконовая резина, в общем не вступающих в реакцию с активным продуктом.
3. Устройство по п. 1 или 2, в котором электрод сформирован нанесением структуры из электропроводящего материала на диэлектрическую подложку.
4. Устройство по п. 3, в котором электрод впечатан.
5. Устройство по п. 3, в котором нанесенный электрод сформирован из волоконной матрицы, перенесенной на диэлектрическую подложку.
6. Устройство по п. 1, в котором диэлектрическая подложка является гибкой и имеет форму, определяющую путь прохождения потока.
7. Устройство по п. 6, в котором диэлектрическая подложка образована гибкой трубкой, окружающей путь прохождения потока.
8. Устройство по п. 1, содержащее защитную оболочку, выполненную из диэлектрика, сформованного вокруг диэлектрической подложки и электрода.
9. Устройство по п. 1, содержащее массив плазменных элементов, имеющий множество упомянутых плазменных элементов.
10. Плазменный элемент для устройства по любому из предшествующих пунктов.
RU2014101353/07A 2011-06-17 2012-06-12 Устройство обеспечения потока плазмы RU2014101353A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB1110282.9A GB201110282D0 (en) 2011-06-17 2011-06-17 Device for providing a flow of plasma
GB1110282.9 2011-06-17
PCT/GB2012/000509 WO2012172285A1 (en) 2011-06-17 2012-06-12 Device for providing a flow of plasma

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2014101353A true RU2014101353A (ru) 2015-07-27

Family

ID=44454230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014101353/07A RU2014101353A (ru) 2011-06-17 2012-06-12 Устройство обеспечения потока плазмы

Country Status (10)

Country Link
US (1) US20130147340A1 (ru)
EP (1) EP2721909A1 (ru)
JP (1) JP2014523063A (ru)
KR (1) KR20140060277A (ru)
CN (1) CN103891416A (ru)
BR (1) BR112013032560A2 (ru)
GB (1) GB201110282D0 (ru)
MX (1) MX2013014972A (ru)
RU (1) RU2014101353A (ru)
WO (1) WO2012172285A1 (ru)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102076660B1 (ko) * 2012-06-21 2020-02-12 엘지전자 주식회사 공기 조화기 및 그 제어방법
US9849202B2 (en) * 2012-09-14 2017-12-26 The Board Of Regents For Oklahoma State University Plasma pouch
GB2509063A (en) * 2012-12-18 2014-06-25 Linde Ag Plasma device with earth electrode
US20140225502A1 (en) * 2013-02-08 2014-08-14 Korea Institute Of Machinery & Materials Remote plasma generation apparatus
GB201401137D0 (en) 2014-01-23 2014-03-12 Linde Aktiengesellshcaft A nozzle for a plasma generation device
US11490947B2 (en) 2015-05-15 2022-11-08 Clear Intradermal Technologies, Inc. Tattoo removal using a liquid-gas mixture with plasma gas bubbles
CA3225537A1 (en) 2015-05-15 2016-11-24 Clear Intradermal Technologies, Inc. Systems and methods for tattoo removal using cold plasma
WO2017037885A1 (ja) * 2015-09-02 2017-03-09 富士機械製造株式会社 大気圧プラズマ発生装置
CN105105845B (zh) * 2015-09-11 2018-09-04 西安交通大学 一种用于消融粥样硬化斑块的等离子体装置及产生方法
US10765850B2 (en) 2016-05-12 2020-09-08 Gojo Industries, Inc. Methods and systems for trans-tissue substance delivery using plasmaporation
WO2018089577A1 (en) 2016-11-10 2018-05-17 EP Technologies LLC Methods and systems for generating plasma activated liquid
KR101942658B1 (ko) * 2017-09-04 2019-01-25 광운대학교 산학협력단 입자를 대전시킬 수 있는 플라즈마 발생장치를 이용한 미세먼지 제거기
KR102077208B1 (ko) * 2018-07-31 2020-02-14 한국기계연구원 저온 플라즈마 표면처리 장치
AU2019402973A1 (en) 2018-12-19 2021-07-01 Clear Intradermal Technologies, Inc. Systems and methods for tattoo removal using an applied electric field
JP7418141B2 (ja) * 2019-06-04 2024-01-19 日本特殊陶業株式会社 プラズマ照射装置及び先端デバイス
TWI694748B (zh) * 2019-08-28 2020-05-21 明志科技大學 用以產生大面積電漿之電極元件

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3179634A (en) 1962-01-26 1965-04-20 Du Pont Aromatic polyimides and the process for preparing them
US3389111A (en) 1965-01-04 1968-06-18 Minnesota Mining & Mfg Corona resistant polyimide compositions containing certain organo-metallic compounds
US3616177A (en) 1969-09-17 1971-10-26 Du Pont Laminar structures of polyimides and wire insulated therewith
US6673533B1 (en) * 1995-03-10 2004-01-06 Meso Scale Technologies, Llc. Multi-array multi-specific electrochemiluminescence testing
EP0997926B1 (en) * 1998-10-26 2006-01-04 Matsushita Electric Works, Ltd. Plasma treatment apparatus and method
US6958063B1 (en) * 1999-04-22 2005-10-25 Soring Gmbh Medizintechnik Plasma generator for radio frequency surgery
WO2002039915A1 (en) * 2000-11-16 2002-05-23 Ganz Robert A System and method of treating abnormal tissue in the human esophagus
US6652069B2 (en) * 2000-11-22 2003-11-25 Konica Corporation Method of surface treatment, device of surface treatment, and head for use in ink jet printer
US20050013988A1 (en) 2003-04-16 2005-01-20 Qiang Fu Stimuli responsive mesoporous materials for control of molecular transport
US7022402B2 (en) * 2003-07-14 2006-04-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dielectric substrates comprising a polymide core layer and a high temperature fluoropolymer bonding layer, and methods relating thereto
CN101198747B (zh) * 2005-06-16 2012-03-14 西门子公司 制造纸张的筛滤装置以及对非纺织的纤维材料进行处理的方法
RU2462534C2 (ru) * 2006-07-31 2012-09-27 Текна Плазма Системз Инк. Плазменная обработка поверхности с использованием диэлектрических барьерных разрядов
PL1897986T3 (pl) * 2006-09-05 2010-11-30 Electrolux Home Products Corp Nv Urządzenie do czyszczenia tkanin
US9757487B2 (en) * 2007-11-21 2017-09-12 University Of Florida Research Foundation, Inc. Self-sterilizing device using plasma fields
JP2011522381A (ja) * 2008-05-30 2011-07-28 コロラド ステート ユニバーシティ リサーチ ファンデーション プラズマに基づく化学源装置およびその使用方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012172285A1 (en) 2012-12-20
US20130147340A1 (en) 2013-06-13
EP2721909A1 (en) 2014-04-23
MX2013014972A (es) 2014-03-26
GB201110282D0 (en) 2011-08-03
KR20140060277A (ko) 2014-05-19
JP2014523063A (ja) 2014-09-08
CN103891416A (zh) 2014-06-25
BR112013032560A2 (pt) 2017-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2014101353A (ru) Устройство обеспечения потока плазмы
MX2015007911A (es) Dispositivo para proporcionar un flujo de plasma.
JP2012124168A5 (ru)
CN104851771B (zh) 基板处理装置
JP4454606B2 (ja) 蒸発源
CN100582301C (zh) 催化剂增强的化学汽相淀积设备及利用该设备的淀积方法
WO2011006018A3 (en) Apparatus and method for plasma processing
JP2008274437A5 (ru)
CN108070846A (zh) 气体供应单元及包括气体供应单元的基板处理装置
WO2009136019A3 (fr) Dispositif et procede de traitement chimique en phase vapeur
WO2012096529A3 (ko) 반도체 제조에 사용되는 분사부재 및 그것을 갖는 플라즈마 처리 장치
WO2012092020A3 (en) Thin film deposition using microwave plasma
JP2016514196A5 (ru)
WO2013022306A3 (ko) 플라즈마 발생장치, 플라즈마 발생장치용 회전 전극의 제조방법, 기판의 플라즈마 처리방법, 및 플라즈마를 이용한 혼합 구조의 박막 형성방법
KR102021169B1 (ko) 기판 처리 장치
JP2009054996A5 (ru)
TW201112333A (en) Substrate processing apparatus
JP2014007387A5 (ja) 成膜装置
TW200702474A (en) Ruthenium layer deposition apparatus and method
CN104651801B (zh) 制造由碳构成的纳米结构的装置和方法
JP2017535935A (ja) 大気圧で複数の低温プラズマジェットを生成するための方法およびデバイス
JP2019167628A5 (ru)
KR20110071968A (ko) 플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 대기압 플라즈마 표면처리 장치
JP2008184666A (ja) 成膜装置
KR101717476B1 (ko) 그래핀 성장 장치

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20150615