RU2010116853A

RU2010116853A - Высокостабильный волноводно-резонансный формирователь потока рентгеновского квазимонохроматического излучения

Info

Publication number: RU2010116853A
Application number: RU2010116853/07A
Authority: RU
Inventors: Виктор Александрович Быков (RU); Виктор Александрович Быков; Владимир Константинович Егоров (RU); Владимир Константинович Егоров; Евгений Владимирович Егоров (RU); Евгений Владимирович Егоров
Original assignee: Закрытое акционерное общество "Нанотехнологии и инновации" (RU); Закрытое акционерное общество "Нанотехнологии и инновации"
Priority date: 2010-04-29
Filing date: 2010-04-29
Publication date: 2011-11-10
Also published as: RU2528561C2

Abstract

1. Волноводно-резонансный формирователь потока рентгеновского квазимонохроматического излучения, представляющий собой сборку, установленную в контейнере и состоящую из первого и второго плоских рефлекторов с первой и второй полированными рабочими поверхностями, обращенными навстречу друг другу и расположенными с зазором между собой, не превышающим половину длины когерентности по всей длине этого зазора, при этом, по меньшей мере, одна рабочая поверхность одного первого рефлектора параллельна плоскости первой и третьей координат, отличающийся тем, что контейнер выполнен герметичным и имеет герметичные входное и выходное рентгенопрозрачные окна, расположенные на первой координате. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что в нем использованы первый и второй плоские рефлекторы, изготовленные из материала с повышенной атомной плотностью. ! 3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что ширина зазора вдоль первой координаты является переменной величиной. ! 4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что величина зазора вдоль третьей координаты не является постоянной величиной. ! 5. Устройство по п.1, отличающееся тем, что, по меньшей мере, два сопряженных торца двух рефлекторов, расположенных на первой координате, на виде по третьей координате имеют форму выпуклой цилиндрической поверхности. ! 6. Устройство по п.1, отличающееся тем, что снабжено входным угловым радиационным концентратором с плоскими отражающими поверхностями. ! 7. Устройство по п.1, отличающееся тем, что снабжено входным угловым концентратором излучения с отражающими поверхностями специальной формы: параболической, гиперболической или экспоненциальн

Claims

1. Волноводно-резонансный формирователь потока рентгеновского квазимонохроматического излучения, представляющий собой сборку, установленную в контейнере и состоящую из первого и второго плоских рефлекторов с первой и второй полированными рабочими поверхностями, обращенными навстречу друг другу и расположенными с зазором между собой, не превышающим половину длины когерентности по всей длине этого зазора, при этом, по меньшей мере, одна рабочая поверхность одного первого рефлектора параллельна плоскости первой и третьей координат, отличающийся тем, что контейнер выполнен герметичным и имеет герметичные входное и выходное рентгенопрозрачные окна, расположенные на первой координате.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что в нем использованы первый и второй плоские рефлекторы, изготовленные из материала с повышенной атомной плотностью.

3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что ширина зазора вдоль первой координаты является переменной величиной.

4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что величина зазора вдоль третьей координаты не является постоянной величиной.

5. Устройство по п.1, отличающееся тем, что, по меньшей мере, два сопряженных торца двух рефлекторов, расположенных на первой координате, на виде по третьей координате имеют форму выпуклой цилиндрической поверхности.

6. Устройство по п.1, отличающееся тем, что снабжено входным угловым радиационным концентратором с плоскими отражающими поверхностями.

7. Устройство по п.1, отличающееся тем, что снабжено входным угловым концентратором излучения с отражающими поверхностями специальной формы: параболической, гиперболической или экспоненциальной.

8. Устройство по п.1, отличающееся тем, что в качестве плоских рефлекторов используют рентгеновские многослойные зеркала.

9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что на рабочих поверхностях плоских рефлекторов нанесены тонкопленочные покрытия.

10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что тонкопленочные покрытия вдоль первой координаты имеют переменную плотность.

11. Устройство по п.1, отличающееся тем, что плоские рефлекторы имеют разную длины.

12. Устройство по п.11, отличающееся тем, что короткий плоский рефлектор сопряжен с дополнительным третьим рефлектором с отражающей поверхностью плоской или специальной формы: параболической, гиперболической или экспоненциальной.