RU2009120717A

RU2009120717A - Уф-реактор обработки

Info

Publication number: RU2009120717A
Application number: RU2009120717/15A
Authority: RU
Inventors: Кит Дж. БЕРЧЕР (CA); Кит Дж. БЕРЧЕР
Original assignee: Калгон Карбон Корпорейшн (Us); Калгон Карбон Корпорейшн
Priority date: 2006-11-02
Filing date: 2007-11-02
Publication date: 2010-12-10
Also published as: IL198350A0; CA2668195C; EP2089064A2; CN101678132B; EP2089064B1; JP2010515559A; CA2668195A1; AU2007317385B2; RU2470669C2; US7507973B2; US20080121812A1; IL198350A; AU2007317385A1; ES2467100T3; JP5190064B2; CN101678132A; WO2008057981A3; WO2008057981A2; HK1132202A1

Abstract

1. Устройство для обработки текучей среды, включающее ! а. реактор для обработки потока текучей среды, в каковом реакторе имеется входное отверстие для текучей среды, выходное отверстие для текучей среды и, по меньшей мере, одна камера между ними; и ! b. первую и вторую пары источников УФ излучения, размещенных в указанной камере, при этом каждая пара источников УФ излучения включает верхний и нижний источник УФ излучения, где указанные верхний и нижний источники УФ излучения указанной первой пары указанных источников УФ излучения расположены с шагом, превышающим шаг между указанными верхним и нижним источниками УФ излучения указанной второй пары источников УФ излучения, каковая вторая пара источников УФ излучения размещена рядом с указанной первой парой источников УФ излучения выше или ниже по ходу потока текучей среды, каковые первая и вторая пары источников УФ излучения расположены, по существу, перпендикулярно направлению потока текучей среды. ! 2. Устройство для обработки текучей среды по п.1, каковое устройство дополнительно включает две перегородки, прикрепленные к противоположным стенкам указанной камеры, верхняя перегородка расположена выше и вблизи верхнего источника УФ излучения указанной первой пары источников УФ излучения, а нижняя перегородка расположена ниже и вблизи нижнего источника УФ излучения указанной первой пары источников УФ излучения. ! 3. Устройство для обработки текучей среды по п.1, каковое устройство дополнительно включает добавочный одиночный источник УФ излучения, расположенный выше или ниже по ходу потока относительно указанной второй пары источников УФ излучения и напрот�

Claims

1. Устройство для обработки текучей среды, включающее

а. реактор для обработки потока текучей среды, в каковом реакторе имеется входное отверстие для текучей среды, выходное отверстие для текучей среды и, по меньшей мере, одна камера между ними; и

b. первую и вторую пары источников УФ излучения, размещенных в указанной камере, при этом каждая пара источников УФ излучения включает верхний и нижний источник УФ излучения, где указанные верхний и нижний источники УФ излучения указанной первой пары указанных источников УФ излучения расположены с шагом, превышающим шаг между указанными верхним и нижним источниками УФ излучения указанной второй пары источников УФ излучения, каковая вторая пара источников УФ излучения размещена рядом с указанной первой парой источников УФ излучения выше или ниже по ходу потока текучей среды, каковые первая и вторая пары источников УФ излучения расположены, по существу, перпендикулярно направлению потока текучей среды.

2. Устройство для обработки текучей среды по п.1, каковое устройство дополнительно включает две перегородки, прикрепленные к противоположным стенкам указанной камеры, верхняя перегородка расположена выше и вблизи верхнего источника УФ излучения указанной первой пары источников УФ излучения, а нижняя перегородка расположена ниже и вблизи нижнего источника УФ излучения указанной первой пары источников УФ излучения.

3. Устройство для обработки текучей среды по п.1, каковое устройство дополнительно включает добавочный одиночный источник УФ излучения, расположенный выше или ниже по ходу потока относительно указанной второй пары источников УФ излучения и напротив указанной первой пары источников УФ излучения на расстоянии от указанной второй пары источников УФ излучения от нуля до двукратного расстояния между указанными первой и второй парами источников УФ излучения.

4. Устройство для обработки текучей среды по п.1, каковое устройство дополнительно включает третью пару источников УФ излучения, состоящую из верхнего и нижнего источников УФ излучения и расположенную выше или ниже по ходу потока относительно указанной второй пары источников УФ излучения и напротив указанной первой пары источников УФ излучения на расстоянии от указанной второй пары источников УФ излучения от нуля до двукратного расстояния между указанными первой и второй парами источников УФ излучения с шагом между указанными верхним и нижним источниками УФ излучения указанной третьей пары источников УФ излучения меньшим, чем шаг между указанными верхним и нижним источниками УФ излучения указанной второй пары источников УФ излучения.

5. Устройство для обработки текучей среды по п.1, в котором шаг между верхним и нижним источниками указанной второй пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, треть шага между верхним и нижним источниками указанной первой пары источников УФ излучения.

6. Устройство для обработки текучей среды по п.3, в котором шаг между верхним и нижним источниками указанной второй пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, половину шага между верхним и нижним источниками указанной первой пары источников УФ излучения.

7. Устройство для обработки текучей среды по п.4, в котором шаг между верхним и нижним источниками указанной второй пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, три пятых шага между верхним и нижним источниками указанной первой пары источников УФ излучения, а шаг между верхним и нижним источниками указанной третьей пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, одну пятую шага между верхним и нижним источниками указанной первой пары источников УФ излучения.

8. Устройство для обработки текучей среды по п.4, каковое устройство включает дополнительный одиночный источник УФ излучения, расположенный выше или ниже по ходу потока относительно указанной третьей пары источников УФ излучения на расстоянии от указанной третьей пары источников УФ излучения от нуля до двукратного расстояния между указанными первой и второй парами источников УФ излучения.

9. Устройство для обработки текучей среды по п.4, каковое устройство включает четвертую пару источников УФ излучения, расположенных выше или ниже по ходу потока относительно указанной третьей пары источников УФ излучения на расстоянии от указанной третьей пары источников УФ излучения от нуля до двукратного расстояния между указанными первой и второй парами источников УФ излучения с шагом между источниками указанной четвертой пары источников УФ излучения меньшим, чем шаг между верхним и нижним источниками указанной третьей пары источников УФ излучения.

10. Устройство для обработки текучей среды по п.8, в котором шаг между верхним и нижним источниками указанной второй пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, две трети шага между верхним и нижним источниками указанной первой пары источников УФ излучения, а шаг между верхним и нижним источниками указанной третьей пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, одну треть шага между верхним и нижним источниками указанной первой пары источников УФ излучения.

11. Устройство для обработки текучей среды по п.9, в котором указанный шаг указанной второй пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, пять седьмых шага указанной первой пары источников УФ излучения, шаг указанной третьей пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, три седьмых шага указанной первой пары источников УФ излучения, а шаг указанной четвертой пары источников УФ излучения составляет, приблизительно, одну седьмую шага указанной первой пары источников УФ излучения.

12. Устройство для обработки текучей среды по п.1, в котором указанные источники УФ излучения представляют собой лампы УФ излучения среднего давления, лампы УФ излучения низкого давления, импульсные лампы УФ излучения, эмитирующие УФ излучение диоды или их сочетание.

13. Устройство для обработки текучей среды по п.1, каковое устройство дополнительно включает комплект источников УФ излучения, состоящий, по меньшей мере, из двух пар источников УФ излучения, где в первой паре указанных источников УФ излучения указанные источники УФ излучения расположены относительно друг друга с шагом большим, чем шаг между источниками УФ излучения указанной второй пары указанных источников УФ излучения, каковые источники УФ излучения расположены, по существу, перпендикулярно потоку текучей среды.

14. Устройство для обработки текучей среды по п.1, в котором расстояние между указанной первой парой источников УФ излучения и указанной второй парой источников соответствует диапазону от, примерно, 0,2 до 1,5 величины шага от указанной второй пары источников УФ излучения до указанной первой пары источников УФ излучения.

15. Устройство для обработки текучей среды по п.1, в котором плоскость, образуемая верхними источниками УФ излучения указанных первой и второй пар источников УФ излучения пересекается с плоскостью, образуемой нижними источниками УФ излучения указанных первой и второй пар источников УФ излучения под углом от, примерно, 40 до 140°.

16. Устройство для обработки текучей среды по п.2, в котором каждая из указанных перегородок расположена под углом от, примерно, 20 до, примерно, 90° относительно противоположных стенок реакционной камеры.

17. Устройство для обработки текучей среды по п.3, в котором указанный одиночный источник УФ излучения расположен выше по ходу потока относительно указанной второй пары источников УФ излучения, каковое устройство дополнительно включает четвертый источник УФ излучения, расположенный ниже по ходу потока относительно указанных первого, второго и третьего источников УФ излучения, примерно, на середине шага между соседними первым, вторым и третьим источниками УФ излучения и, как правило, перпендикулярно потоку текучей среды.

18. Устройство для обработки текучей среды по п.17, в котором указанный четвертый источник УФ излучения включает более одного источника УФ излучения, каждый из которых расположен, примерно, на середине шага соседних пар указанных первого, второго и третьего источников УФ излучения, как правило, перпендикулярно потоку текучей среды.

19. Устройство для обработки текучей среды по п.17, дополнительно включающее, по меньшей мере, один источник УФ излучения, расположенный ниже по ходу потока относительно указанных первого, второго, третьего и четверного источников УФ излучения в положении, соответствующем зеркальному отображению одного из указанных первого, второго, третьего и четверного источников УФ излучения.

20. Способ обработки потока текучей среды при помощи устройства для обработки текучей среды, заключающийся в пропускании указанной текучей среды через камеру и воздействии на указанную текучую среду излучением первой и второй пар источников УФ излучения, расположенных в указанной камере, при этом каждая из пар источников УФ излучения состоит из верхнего и нижнего источников УФ излучения, где указанные верхний и нижний источники УФ излучения указанной первой пары указанных источников УФ излучения расположены с шагом большим, чем шаг между указанными верхним и нижним источниками УФ излучения указанной второй пары источников УФ излучения, каковая вторая пара источников УФ излучения расположена рядом с указанной первой парой источников УФ излучения выше или ниже по ходу потока текучей среды, каковые указанные первая и вторая пары источников УФ излучения расположены, по существу, перпендикулярно направлению потока текучей среды.

21. Способ обработки текучих сред при помощи устройства для обработки текучей среды по п.20, в котором указанная камера дополнительно содержит один или более модулей, УФ источников, каждый модуль предназначен для размещения УФ лампы.

22. Способ обработки потока текучей среды, заключающийся в пропускании текучей среды через устройство для обработки текучей среды по п.3 и воздействии на указанную текучую среду излучением указанных источников УФ излучения, где первая, вторая, третья, четвертая или пятая из указанных ламп УФ излучения являются работающими.

23. Способ обработки потока текучей среды, заключающийся в пропускании текучей среды через устройство для обработки текучей среды по п.4, воздействии на указанную текучую среду излучением указанных источников УФ излучения и отключении одной или двух пар указанных источников УФ излучения.