RU2008738C1 - Источник ионов - Google Patents

Источник ионов Download PDF

Info

Publication number
RU2008738C1
RU2008738C1 SU5031755A RU2008738C1 RU 2008738 C1 RU2008738 C1 RU 2008738C1 SU 5031755 A SU5031755 A SU 5031755A RU 2008738 C1 RU2008738 C1 RU 2008738C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
discharge chamber
ion
ion source
source
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Борис Николаевич Маков
Original Assignee
Борис Николаевич Маков
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Борис Николаевич Маков filed Critical Борис Николаевич Маков
Priority to SU5031755 priority Critical patent/RU2008738C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2008738C1 publication Critical patent/RU2008738C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Использование: в технологических целях для имплантации ионов, электромагнитного разделения изотопов. Сущность изобретения: источник ионов выполнен в виде однопотенциального блока, состоящего из разрядной камеры с экстракционной щелью 2, прямонакального катода 3, припаянного к графитовой подложке 4, с графитовыми держателями 5 и токовыводами 6, и электрода-отражателя 7. Использование катода с развитой рабочей поверхностью позволяет получать вблизи экстракционной щели высокую концентрацию плазмы. Использование анода существенно увеличивает концентрацию плазмы за счет образования потока всех видов заряженных частиц, содержащихся в плазме, направленного к экстракционной щели поперек силовых линий внешнего магнитоного поля b без нарушения квазинейтральности плазмы. Данный эффект достигается за счет образования электронного холловского тока в e b полях. Использование катодов и электродов-отражателей, изготовленных из карбидов, нитридов и боридов циркония, более устойчивых к ионной бомбордировке и химической эрозии, чем вольфрам, позволяет повысить в несколько раз ресурс источника ионов, особенно при работе в низковольтных режимах разряда. 2 з. п. ф-лы, 5 ил.

Description

Изобретение относится к источникам ионов и может быть использовано в технологических целях для имплантации ионов, электромагнитного разделения изотопов.
Известен эксплуатируемый на имплантаторах источник ионов с протяженным прямонакальным катодом, ось которого параллельна силовым линиям внешнего магнитного поля [1] .
Основные недостатки источника состоят в относительно небольшой плотности ионного тока, низком содержании одноразрядных ионов бора в пучке извлекаемых ионов и малом сроке службы катода.
Современный коммерческий источник ионов, широко используемый корпорацией США "Еаton" [2] , работающий в имплантаторе, содержит прямонакальный катод и электрод-отражатель, полую разрядную камеру с щелевым отверстием в ее крышке для экстракции ионов, изоляторы катода и электрода-отражателя. В этом источнике один вывод накала катода подсоединяется к отрицательному полюсу источника разрядного напряжения, а разрядная камера - к положительному полюсу. Катод в виде двухвитковой спирали изготавливают из вольфрамовой проволоки диаметром 2 мм, а электрод-отражатель представляет собой графитовую пластину. Оба конца катода и электрод-отражатель в источнике ионов изолированы от разрядной камеры с помощью восьми изоляторов на разрядное напряжение. Продольная ось разрядной камеры расположена в направлении силовых линий внешнего магнитного поля имплантатора. Источник работает в двух режимах дугового разряда: в осциллирующем и прямом. В первом электрод-отражатель электрически соединяется с катодом, во втором - с положительным полюсом источника напряжения.
Громоздкие изоляторы этого источника, вынужденные выдерживать разрядное напряжение, расположены в аксиальном направлении и занимают значительное пространство, сокращая эффективность использования межполюсного зазора магнита, ограничивая длину экстракционной щели. Используемый проволочный катод не может обеспечить однородность плотности плазмы по сечению разряда, что снижает концентрацию плазмы в экстракционной щели. Проволочные катоды не надежны в работе из-за возможного образования локального места с повышенной электронной эмиссией, приводящего к перегоранию катода. Плотность тока в пучке ускоренных ионов составляет 44 мА ˙ см-2 при размерах экстракционной щели 0,2 ˙ 6 см2, ток пучка ионов равен 52 мА. Длина щели в этом источнике составляет ≈45% от его высоты.
Техническим результатом является упрощение конструкции источника ионов, повышение надежности его работы, увеличение интенсивности и плотности ионного тока в пучке ускоренных ионов и срока службы источника ионов.
Технический результат достигается тем, что в источнике ионов, содержащем разрядную камеру с щелевым отверстием для экстракции ионов, направление вектора магнитной индукции в полости которой совпадает с продольной осью симметрии камеры, прямонакальный катод и электрод-отражатель, расположенные у противоположных торцовых поверхностей разрядной камеры и подключенные к источнику разрядного напряжения, электрический вывод накала катода и разрядная камера подключены к отрицательному полюсу источника напряжения, при этом в разрядной камере размещен электроизолированный анод, подключенный к положительному полюсу источника напряжения. Кроме того, в источнике ионов прямонакальный катод выполнен в виде элемента, припаянного к графитовой подложке, при этом катод и электрод-отражатель выполнены из материалов, более стойких к ионному распылению и химической эрозии, чем вольфрам, причем в источнике ионов форма анода и место его расположения в разрядной камере выбраны таким образом, чтобы вектор скорости дрейфа плазменных электронов в разрядной камере в скрещенных электрическом и магнитном полях был направлен в сторону щелевого отверстия для экстракции ионов.
На фиг. 1 показана разрядная камера источника ионов для работы в осциллирующем режиме дугового разряда; на фиг. 2 - разрез А-А на фиг. 1; на фиг. 3 приведен пример зависимости величины тока в пучке ускоренных ионов этого источника от индукции внешнего поля; на фиг. 4 - разрядная камера источника ионов, предназначенного для работы в прямом режиме разряда; а на фиг. 5 - разрез Б-Б на фиг. 4.
Источник ионов содержит полую разрядную камеру 1, крышку с экстракционной щелью 2, элемент прямонакального катода 3, припаянного к графитовой подложке 4 катода, графитовые держатели 5 подложки катода, в отверстиe которых с использованием пружинящих свойств графита для осуществления надежных контактов вставлены штифты-токопроводы подложки 4 катода, молибденовые токовыводы 6, завернутые в держатели катода, которые служат для подвода тока накала к катоду, один из них электрически соединен с разрядной камерой 1, а второй с помощью двух небольших керамических колец изолирован от нее на величину падения потенциала на катоде ( 4 В), электод-отражатель 7, соединенный с разрядной камерой, анод 8, проходной изолятор 9 анода, вывод 10 анода, металлический удлинитель 11, служащий для крепления катодного узла, гайки 12 для крепления, трубку 13 для подачи рабочего вещества в разрядную камеру (
Figure 00000002
- направление вектора внешнего магнитного поля, в котором работает источник). Для работы источника ионов в прямом режиме дугового разряда электрод-отражатель 7 изолируют от разрядной камеры 1, а чтобы подсоединить его к положительному полюсу источника напряжения, закрепляют его на конце анода 8 (фиг. 4 и 5).
Элемент катода 3, изготавливается из карбидов, нитридов и боридов циркония (ZrC, ZrN, ZrВ2) разной формы, использованы катоды в виде цилиндра диаметром 10 мм, высотой от 4 до 12 мм, и тонкие катоды с размерами 14 ˙ 6 ˙ 1 мм3. У этих материалов, как было экспериментально установлено, скорость распыления ионами аргона при энергии 200 эВ ниже в 3 - 4 раза, чем у вольфрама, и они не подвержены химической эрозии при работе в источнике с ВF3, N2 и др. Элемент катода 3 припаивают в вакууме к графитовой подложке катода 4 цирконием, который в результате науглероживания превращается в карбид циркония, и на протяжении всего срока службы катода надежно передает тепловые потоки между подложкой и катодом. Электрод-отражатель 7 изготавливают из карбида циркония.
Анод изготавливают из тугоплавкого материала, например из молибдена или графита. В зависимости от предназначения источника ионов его размеры, форма и положение в разрядной камере могут изменяться. Например, в сечении он может иметь форму угольника или открытого желоба.
Поскольку источник ионов в имплантаторах работает в продольных магнитных полях В = (100 - 600) Гс, испытания источников проводились в этом же диапазоне. После достижения пригодных для работы вакуумных условий в источник подается рабочее вещество со скоростью подачи
Figure 00000003
атм. см3мин-1 по трубке 13, разрядное напряжение Uр и ток накала катода If, величина которого повышается до загорания разряда. Затем устанавливается выбранный ток разряда Iр и уменьшением тока накала катода устанавливают необходимое значение разрядного напряжения. Далее на электроды ионной оптики подают ускоряющее напряжение Uуск. и измеряют величину тока пучка ускоренных ионов I1. После этого источник в течение многих часов работает стабильно и не требует регулировок. Низковольтный режим разряда в этом источнике ионов является наиболее перспективным для получения интенсивных пучков с преимущественным содержанием однозарядных ионов при большом сроке службы.
Образование общего потенциала разрядной камеры, катода и электрода-отражателя упрощает конструкцию источника и повышает эксплуатационную надежность, поскольку на разрядное напряжение изолирован только анод, оба изолятора которого, не занимая пространства в аксиальном направлении, находятся вдали от накаленного катода. Использование элемента катода с большой однородной поверхностью электронной эмиссии позволяет образовать равномерное распределение плотности разряда по его сечению и получить высокую концентрацию плазмы у экстракционной щели, при этом влияние потенциала анода дополнительно увеличивает ее концентрацию вследствие притока плазмы к щели поперек силовых линий внешнего магнитного поля. Это отчетливо видно в динамике зависимости величины Ii = f(В), представленной на фиг. 3. Использование более устойчивых к ионному распылению и химической эрозии материалов катода и электрода-отражателя позволяет в несколько раз повысить ресурс источника ионов. При сохранении аксиального размера источника ионов [2] использование изобретения позволяет увеличить длину щели в 1,5 раза (до 90 мм) и при В = 300 Гс и плотности ионного тока 110 мА. см. -2 ток в пучке ускоренных ионов из источника составит примерно 200 мА. , т. е, возрастет в 4 раза. (56) 1. P. H. Rose Тhe evolution of Ion sources for imрlanters. Rev. Sci Instrum, 1990, v 61, N 1, р. 342, fig 4.
2. Там же, р. 342, fig 3.

Claims (3)

1. ИСТОЧНИК ИОНОВ, содержащий разрядную камеру с щелевым отверстием для экстракции ионов, прямонакальный катод и электрод-отражатель, расположенные у противоположных торцевых поверхностей разрядной камеры и подключенные к источнику разрядного напряжения, и магнитную систему, создающую в полости разрядной камеры магнитное поле, вектор индукции которого совпадает с продольной осью симметрии камеры, отличающийся тем, что электрический вывод накала катода и разрядной камеры подключены к отрицательному полюсу источника напряжения, при этом в разрядной камере размещен электроизолированный анод, подключенный к положительному полюсу источника напряжения.
2. Источник по п. 1, отличающийся тем, что прямонакальный катод выполнен в виде элемента, припаянного к графитовой подложке, при этом катод и электрод-отражатель выполнены из материалов более стойких к ионному распылению и химической эрозии, чем вольфрам.
3. Источник по пп. 1 и 2, отличающийся тем, что форма анода и место его расположения в разрядной камере выбраны так, чтобы вектор скорости дрейфа электронов в разрядной камере в скрещенных электрическом и магнитном полях был направлен в сторону щелевого отверстия.
SU5031755 1992-03-11 1992-03-11 Источник ионов RU2008738C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5031755 RU2008738C1 (ru) 1992-03-11 1992-03-11 Источник ионов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5031755 RU2008738C1 (ru) 1992-03-11 1992-03-11 Источник ионов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2008738C1 true RU2008738C1 (ru) 1994-02-28

Family

ID=21599067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5031755 RU2008738C1 (ru) 1992-03-11 1992-03-11 Источник ионов

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2008738C1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Leung et al. Optimization of H− production from a small multicusp ion source
JP2648235B2 (ja) イオン銃
US4774437A (en) Inverted re-entrant magnetron ion source
JPH10134728A (ja) イオン注入機用のイオン源とそのカソード構造
US4608513A (en) Dual filament ion source with improved beam characteristics
EP0291185B1 (en) Improved ion source
GB2567853A (en) An electron source
Miljević Hollow anode ion–electron source
US3610985A (en) Ion source having two operative cathodes
EP0439220A2 (en) Device for the ionization of metals having a high melting point, which may be used on ion implanters of the type using ion sources of Freeman or similar type
RU2008738C1 (ru) Источник ионов
US4288716A (en) Ion source having improved cathode
US3448315A (en) Ion gun improvements for operation in the micron pressure range and utilizing a diffuse discharge
JP3075129B2 (ja) イオン源
JPH0762989B2 (ja) 電子ビ−ム励起イオン源
JPH1125872A (ja) イオン発生装置
US4135093A (en) Use of predissociation to enhance the atomic hydrogen ion fraction in ion sources
US6323586B1 (en) Closed drift hollow cathode
US4240005A (en) Apparatus for the generation of primary electrons from a cathode
RU2034356C1 (ru) Источник ионов
EP4372782A2 (en) Ion source cathode
Belchenko et al. Negative hydrogen ion production in the hollow cathode Penning surface‐plasma source
Lejeune et al. Small, simple and high efficiency arsenic ion source
RU2082255C1 (ru) Способ получения пучка ионов и устройство для его осуществления
GB2070853A (en) Parallel-connected cathode segment arrangement for a hot cathode electron impact ion source