RU2003135833A - Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме - Google Patents

Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме Download PDF

Info

Publication number
RU2003135833A
RU2003135833A RU2003135833/02A RU2003135833A RU2003135833A RU 2003135833 A RU2003135833 A RU 2003135833A RU 2003135833/02 A RU2003135833/02 A RU 2003135833/02A RU 2003135833 A RU2003135833 A RU 2003135833A RU 2003135833 A RU2003135833 A RU 2003135833A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
stream
reaction
inert gas
potential
product
Prior art date
Application number
RU2003135833/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2256724C1 (ru
Inventor
Виталий Алексеевич Барвинок (RU)
Виталий Алексеевич Барвинок
Валерий Иосифович Богданович (RU)
Валерий Иосифович Богданович
Ольга Васильевна Феоктистова (RU)
Ольга Васильевна Феоктистова
Original Assignee
Самарский государственный аэрокосмический университет им. акад. С.П. Королева (RU)
Самарский государственный аэрокосмический университет им. акад. С.П. Королева
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Самарский государственный аэрокосмический университет им. акад. С.П. Королева (RU), Самарский государственный аэрокосмический университет им. акад. С.П. Королева filed Critical Самарский государственный аэрокосмический университет им. акад. С.П. Королева (RU)
Priority to RU2003135833/02A priority Critical patent/RU2256724C1/ru
Publication of RU2003135833A publication Critical patent/RU2003135833A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2256724C1 publication Critical patent/RU2256724C1/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Claims (5)

1. Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме на изделия из металлов, включающий электродуговое распыление катодной мишени, обработку образовавшегося потока металлической плазмы в скрещенном электрическом и магнитном поле в полости дополнительного анода и осаждение полученного потока на изделия в атмосфере предварительно ионизированного реакционного и(или) инертного газа, образованного в несамостоятельном газовом разряде, отличающийся тем, что несамостоятельный разряд реакционного и(или) инертного газа зажигают внутри полости дополнительного анода, поток металлической плазмы дополнительно обрабатывают при прохождении через этот разряд и осаждают смешанный поток на поверхность изделия, потенциал которого ниже потенциала дополнительного анода на величину (0...2000)В.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что поверхность изделий перед нанесением покрытий очищают и активируют совместно ионами металла мишени катода и ионами плазмы несамостоятельного разряда сначала инертного газа, а затем реакционного и (или) инертного газа.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что осаждение совместного потока на изделия проводят при потенциале изделия меньше потенциала дополнительного анода на величину (0...200)В и периодическом уменьшении этого потенциала на величину (300...2000) В.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что осаждение совместного потока проводят при полном давлении реакционного и инертного газа в диапазоне (0,02...1,0) Па, регулируя количество реакционного газа при сохранении выбранной величины полного давления.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что степень ионизации газов в потоке регулируют изменением величины магнитного поля фокусирующего соленоида.
RU2003135833/02A 2003-12-10 2003-12-10 Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме RU2256724C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2003135833/02A RU2256724C1 (ru) 2003-12-10 2003-12-10 Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2003135833/02A RU2256724C1 (ru) 2003-12-10 2003-12-10 Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2003135833A true RU2003135833A (ru) 2005-05-20
RU2256724C1 RU2256724C1 (ru) 2005-07-20

Family

ID=35820229

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2003135833/02A RU2256724C1 (ru) 2003-12-10 2003-12-10 Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2256724C1 (ru)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009008161A1 (de) * 2009-02-09 2010-08-12 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Modifizierbare Magnetkonfiguration für Arc-Verdampfungsquellen
RU2521914C2 (ru) * 2011-11-29 2014-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" Износостойкое наноструктурное покрытие
RU2515600C2 (ru) * 2011-11-29 2014-05-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" Способ получения наноструктурного покрытия
RU2515733C2 (ru) * 2011-11-30 2014-05-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" Наноструктурное покрытие
RU2635728C2 (ru) * 2016-02-09 2017-11-15 Общество с ограниченной ответственностью "Новые композитные технологии - разработки и коммерциализация" Способ изготовления комбинированных напорных труб

Also Published As

Publication number Publication date
RU2256724C1 (ru) 2005-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5279723A (en) Filtered cathodic arc source
US20090200158A1 (en) High power impulse magnetron sputtering vapour deposition
RU2630090C2 (ru) Способ нанесения покрытия для осаждения системы слоев на подложку и подложка с системой слоев
CA2411174A1 (en) A process and apparatus for plasma activated deposition in a vacuum
US20040055870A1 (en) Method and apparatus of plasma-enhanced coaxial magnetron for sputter-coating interior surfaces
EP1067578A3 (en) Methods and apparatus for ionized metal plasma copper deposition with enhanced in-film particle performance
WO2002027058A8 (en) Porous getter devices with reduced particle loss and method for their manufacture
EP3644343A1 (en) A coating system for high volume pe-cvd processing
Duarte et al. Influence of electronegative gas on the efficiency of conventional and hollow cathode magnetron sputtering systems
JP2005048260A (ja) 反応性スパッタリング方法
RU2003135833A (ru) Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме
US10407767B2 (en) Method for depositing a layer using a magnetron sputtering device
Martins et al. Contamination due to memory effects in filtered vacuum arc plasma deposition systems
EP2159820B1 (en) A physical vapour deposition coating device as well as a physical vapour deposition method
Vetter et al. Domino platform: PVD coaters for arc evaporation and high current pulsed magnetron sputtering
RU97005U1 (ru) Устройство для формирования поверхностных сплавов
KR102294551B1 (ko) 저온 아크 이온 플레이팅 코팅
KR20110117528A (ko) 알루미늄 박막 코팅 방법
RU93018049A (ru) Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки
US20140034484A1 (en) Device for the elimination of liquid droplets from a cathodic arc plasma source
RU2146724C1 (ru) Способ нанесения композиционных покрытий
RU2657273C1 (ru) Способ фильтрации капельной фазы при осаждении из плазмы вакуумно-дугового разряда
CA3047917C (en) Pvd system with remote arc discharge plasma assisted process
Treglio et al. Surface processing of sheet metal using metal ion beams
RU2463382C2 (ru) Способ и устройство для получения многослойно-композиционных наноструктурированных покрытий и материалов

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20091211