RU2003135833A - Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме - Google Patents
Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме Download PDFInfo
- Publication number
- RU2003135833A RU2003135833A RU2003135833/02A RU2003135833A RU2003135833A RU 2003135833 A RU2003135833 A RU 2003135833A RU 2003135833/02 A RU2003135833/02 A RU 2003135833/02A RU 2003135833 A RU2003135833 A RU 2003135833A RU 2003135833 A RU2003135833 A RU 2003135833A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- stream
- reaction
- inert gas
- potential
- product
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Claims (5)
1. Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме на изделия из металлов, включающий электродуговое распыление катодной мишени, обработку образовавшегося потока металлической плазмы в скрещенном электрическом и магнитном поле в полости дополнительного анода и осаждение полученного потока на изделия в атмосфере предварительно ионизированного реакционного и(или) инертного газа, образованного в несамостоятельном газовом разряде, отличающийся тем, что несамостоятельный разряд реакционного и(или) инертного газа зажигают внутри полости дополнительного анода, поток металлической плазмы дополнительно обрабатывают при прохождении через этот разряд и осаждают смешанный поток на поверхность изделия, потенциал которого ниже потенциала дополнительного анода на величину (0...2000)В.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что поверхность изделий перед нанесением покрытий очищают и активируют совместно ионами металла мишени катода и ионами плазмы несамостоятельного разряда сначала инертного газа, а затем реакционного и (или) инертного газа.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что осаждение совместного потока на изделия проводят при потенциале изделия меньше потенциала дополнительного анода на величину (0...200)В и периодическом уменьшении этого потенциала на величину (300...2000) В.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что осаждение совместного потока проводят при полном давлении реакционного и инертного газа в диапазоне (0,02...1,0) Па, регулируя количество реакционного газа при сохранении выбранной величины полного давления.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что степень ионизации газов в потоке регулируют изменением величины магнитного поля фокусирующего соленоида.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003135833/02A RU2256724C1 (ru) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2003135833/02A RU2256724C1 (ru) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2003135833A true RU2003135833A (ru) | 2005-05-20 |
RU2256724C1 RU2256724C1 (ru) | 2005-07-20 |
Family
ID=35820229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2003135833/02A RU2256724C1 (ru) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2256724C1 (ru) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009008161A1 (de) * | 2009-02-09 | 2010-08-12 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Modifizierbare Magnetkonfiguration für Arc-Verdampfungsquellen |
RU2521914C2 (ru) * | 2011-11-29 | 2014-07-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Износостойкое наноструктурное покрытие |
RU2515600C2 (ru) * | 2011-11-29 | 2014-05-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Способ получения наноструктурного покрытия |
RU2515733C2 (ru) * | 2011-11-30 | 2014-05-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет" | Наноструктурное покрытие |
RU2635728C2 (ru) * | 2016-02-09 | 2017-11-15 | Общество с ограниченной ответственностью "Новые композитные технологии - разработки и коммерциализация" | Способ изготовления комбинированных напорных труб |
-
2003
- 2003-12-10 RU RU2003135833/02A patent/RU2256724C1/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2256724C1 (ru) | 2005-07-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5279723A (en) | Filtered cathodic arc source | |
US20090200158A1 (en) | High power impulse magnetron sputtering vapour deposition | |
RU2630090C2 (ru) | Способ нанесения покрытия для осаждения системы слоев на подложку и подложка с системой слоев | |
CA2411174A1 (en) | A process and apparatus for plasma activated deposition in a vacuum | |
US20040055870A1 (en) | Method and apparatus of plasma-enhanced coaxial magnetron for sputter-coating interior surfaces | |
EP1067578A3 (en) | Methods and apparatus for ionized metal plasma copper deposition with enhanced in-film particle performance | |
WO2002027058A8 (en) | Porous getter devices with reduced particle loss and method for their manufacture | |
EP3644343A1 (en) | A coating system for high volume pe-cvd processing | |
Duarte et al. | Influence of electronegative gas on the efficiency of conventional and hollow cathode magnetron sputtering systems | |
JP2005048260A (ja) | 反応性スパッタリング方法 | |
RU2003135833A (ru) | Способ нанесения композиционных покрытий в вакууме | |
US10407767B2 (en) | Method for depositing a layer using a magnetron sputtering device | |
Martins et al. | Contamination due to memory effects in filtered vacuum arc plasma deposition systems | |
EP2159820B1 (en) | A physical vapour deposition coating device as well as a physical vapour deposition method | |
Vetter et al. | Domino platform: PVD coaters for arc evaporation and high current pulsed magnetron sputtering | |
RU97005U1 (ru) | Устройство для формирования поверхностных сплавов | |
KR102294551B1 (ko) | 저온 아크 이온 플레이팅 코팅 | |
KR20110117528A (ko) | 알루미늄 박막 코팅 방법 | |
RU93018049A (ru) | Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки | |
US20140034484A1 (en) | Device for the elimination of liquid droplets from a cathodic arc plasma source | |
RU2146724C1 (ru) | Способ нанесения композиционных покрытий | |
RU2657273C1 (ru) | Способ фильтрации капельной фазы при осаждении из плазмы вакуумно-дугового разряда | |
CA3047917C (en) | Pvd system with remote arc discharge plasma assisted process | |
Treglio et al. | Surface processing of sheet metal using metal ion beams | |
RU2463382C2 (ru) | Способ и устройство для получения многослойно-композиционных наноструктурированных покрытий и материалов |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20091211 |