RU2002333C1 - Ion source - Google Patents

Ion source

Info

Publication number
RU2002333C1
RU2002333C1 SU5008180A RU2002333C1 RU 2002333 C1 RU2002333 C1 RU 2002333C1 SU 5008180 A SU5008180 A SU 5008180A RU 2002333 C1 RU2002333 C1 RU 2002333C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
discharge
cathode
anode
source
cavity
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Леонид Павлович Саблев (н/п)
Анатолий Афанасьевич Андреев (н/п)
Сергей Николаевич Григорьев (н/п)
Original Assignee
Научно-производственное предпри тие "Новатех"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-производственное предпри тие "Новатех" filed Critical Научно-производственное предпри тие "Новатех"
Priority to SU5008180 priority Critical patent/RU2002333C1/en
Priority to DE69227313T priority patent/DE69227313T2/en
Priority to US08/146,043 priority patent/US5503725A/en
Priority to EP92911913A priority patent/EP0583473B1/en
Priority to PCT/RU1992/000204 priority patent/WO1993010552A1/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2002333C1 publication Critical patent/RU2002333C1/en

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

Использование: дл  комплексной поверхности вакуумно-плазменной обработки инструмента, деталей машин и иных изделий. Сущность изобретени ; в разр дной полости вакуумной камеры ионного источника возбуждаетс  двухступенчатый ваку- умно-дуговой разр д с интегрально-холодным катодом Дл  этого между анодом и катодом устанавливаетс  перегородка, дел ща  разр дную полость на катодную и анодную части. Кроме того, анодна  часть разр дной полости через эмиссионную сетку сообщаетс  с рабочей полостью вакуумной камеры а в цепи источника питани  двухступенчатого разр да установлено токовое репе, исполнительный орган которого расположен в цепи источника питани  сетки и источника ускор ющего напр жени . 2 зпф-лы, 2 ил.Usage: for a complex surface of vacuum-plasma processing of tools, machine parts and other products. SUMMARY OF THE INVENTION; a two-stage vacuum-arc discharge with an integrally-cold cathode is excited in the discharge cavity of the vacuum chamber of the ion source. For this, a partition is established between the anode and cathode, dividing the discharge cavity into cathode and anode parts. In addition, the anode part of the discharge cavity is connected through the emission grid to the working cavity of the vacuum chamber, and a current turnip is installed in the circuit of the two-stage discharge power source, the actuator of which is located in the circuit of the grid power source and the accelerating voltage source. 2 cpfs, 2 ill.

Description

ISIS

Изобретение относитс  к технике получени  сильноточных ионных пучков большого сечени .FIELD OF THE INVENTION This invention relates to techniques for producing high-current large-cross section ion beams.

Широко распространены ионные источники Кауфмана. В них электроны эмиттиру- ютс  накал емым катодом, расположенным на оси цилиндрической разр дной камеры, помещаемой в слабое продольное магнитное поле. Анодом служит часть цилиндра. Электроны движутс  в скрещенных магнитном и электрическом пол х по спиральным траектори м вокруг оси, в результате увеличиваютс  длина их пробега и веро тность ионизации рабочего газа. Ионы выт гиваютс , ускор ютс  и фокусируютс  двух- или трехэлектродной ионно-оптической системой . Недостатком источников Кауфмана  вл етс  относительно небольшой срок службы накаливаемых катодов (несколько дес тков часов).Widespread ion sources Kaufman. In them, the electrons are emitted by a heated cathode located on the axis of a cylindrical discharge chamber placed in a weak longitudinal magnetic field. The anode is part of the cylinder. Electrons move in crossed magnetic and electric fields along spiral paths around the axis, as a result of which their mean free path and the likelihood of ionization of the working gas increase. Ions are pulled, accelerated and focused by a two- or three-electrode ion-optical system. A disadvantage of Kaufman sources is the relatively short service life of the heated cathodes (several tens of hours).

Известен источник пучков зар женных частиц большого сечени  на основе тлеющего разр да с холодным полым катодом. Источник содержит камеру, в которой П-об- разные полые катоды образуют разр дную полость. Сквозь отверстие в полом катоде в разр дную полость проходит анод. Все катоды изолированы друг от друга и соединены с регулируемым источником разр дного напр жени  через отдельные резисторы, что предотвращает переход разр да в дугу, Эмиссионна  сетка с высокой прозрачностью (70-90%) изолирована от разр дной полости и рабочей полости вакуумной камеры . Источник ионов имеет источник электропитани  тазового разр да, из плазмы которого извлекаютс  ионы, источник напр жени , подключенный отрицательным полюсом к сетке и отсекающий ток электронов из синтезированной плазмы через сетку в полость разр дной камеры, и источник ускор ющего напр жени .A source of large-section charged particle beams based on a glow discharge with a cold hollow cathode is known. The source contains a chamber in which U-shaped hollow cathodes form a discharge cavity. An anode passes through an opening in the hollow cathode into the discharge cavity. All cathodes are isolated from each other and connected to an adjustable source of discharge voltage through separate resistors, which prevents the discharge from moving into an arc. The emission grid with high transparency (70-90%) is isolated from the discharge cavity and the working cavity of the vacuum chamber. The ion source has a pelvic discharge power source from which its ions are extracted, a voltage source connected to the grid by a negative pole and cut off the electron current from the synthesized plasma through the grid to the cavity of the discharge chamber, and an accelerating voltage source.

В источнике с площадью эмиссионной сетки 1000 см величина ионного тока составл ет 1 А. Таким образом, плотность ионного тока составл ет 1 мА/см . Увеличение плотности ионного тока может быть достигнуто за счет разветвлени  поверхности ка- года, что усложн ет конструкцию.In a source with an emission grid area of 1000 cm, the ion current is 1 A. Thus, the ion current density is 1 mA / cm. An increase in the ion current density can be achieved by branching the cage surface, which complicates the design.

Тезисы докладов, стать  А.С.Метель. Источники пучков зар женных частиц большого сечени  на основе тлеющего разр да с холодным полым катодом, Изд-во Улан- Уде, Бур тский институт естественных наук СО АН СССР-, июнь 1991. с. 77-81, рис.2. В сб.: Плазменна  эмиссионна  электроника.Abstracts, become A.S. Metel. Sources of charged large particle beams based on a glow discharge with a cold hollow cathode, Ulan-Ude Publishing House, Burt Institute of Natural Sciences, Siberian Branch of the Academy of Sciences of the USSR, June 1991. p. 77-81, Fig. 2. In: Plasma emission electronics.

Цель изобретени  - повышение плотности ионного тока.The purpose of the invention is to increase the ion current density.

00

55

00

55

00

55

00

55

00

55

Поставленна  цель достигаетс  тем, что в предлагаемом ионном источнике, содержащем вакуумную камеру с сообщающимис  между собой через эмиссионную сетку и электрически изолированными от нее рабочей и разр дной полост ми, в последней из которых установлены катод и анод газового разр да, а также источник электропитани  газового разр да, подключенный к электродам , источник ускор ющего напр жени , отрицательный полюс которого подключен к стенке рабочей полости, и источник напр жени , отрицательный полюс которого подключен к эмиссионной сетке, катод выполнен в виде интегрально-холодного катода вакуумно-дугового разр да, между катодом и анодом установлена перегородка, не проницаема  дл  ионов металла, генерируемых с поверхности катода, но проницаема  дл  электронов, раздел юща  разр дную полость на катодную и анодную части, с рабочей полостью вакуумной камеры через эмиссионную сетку сообщена анодна  часть разр дной полости, а в цепи электропитани  вакуумно-дугового разр да установлено токовое реле, исполнительный орган которого включен в цепь ускор ющего напр жени  и в цепь электропитани  сетки . Ионный источник может быть снабжен дополнительным электроизолированным от камеры электродом, соединенным с отрицательным полюсом дополнительного источника тока и расположенным в анодной части разр дной полости против сетки. Дополнительный электрод предпочтительно выполн ть из материала, отличного от материала катода.This goal is achieved by the fact that in the proposed ion source containing a vacuum chamber with a working and discharge cavities communicating with each other through an emission grid and electrically isolated from it, a gas discharge cathode and anode are installed in the latter, as well as a gas power source a discharge connected to the electrodes, an accelerating voltage source, the negative pole of which is connected to the wall of the working cavity, and a voltage source, the negative pole of which is connected to the emission grid, the cathode is made in the form of an integrated cold cathode of a vacuum arc discharge, a partition is installed between the cathode and anode, not permeable to metal ions generated from the cathode surface, but permeable to electrons, separating the discharge cavity into the cathode and anode parts, the anode part of the discharge cavity is communicated with the working cavity of the vacuum chamber through the emission grid, and a current relay is installed in the power circuit of the vacuum-arc discharge, the actuator of which is included in the accelerating voltage circuit and and into the grid power circuit. The ion source may be provided with an additional electrode insulated from the chamber, connected to the negative pole of the additional current source and located in the anode part of the discharge cavity against the grid. The additional electrode is preferably made of a material other than the cathode material.

Реализаци  поставленной цели достигаетс  за счет использовани  дл  создани  плазмы, из которой генерируютс  ионы, более сильноточного вакуумно-дугового разр да , от величины которого зависит степень ионизации плазмы, и, следовательно, извлекаемый из нее ионный ток не зависит от геометрических размеров катода, а определ етс  его теплофизическими свойствами. Не составл ет труда получение разр дных токов в дес тки мА/см2.The achievement of this goal is achieved by using a more powerful vacuum-arc discharge, which determines the degree of plasma ionization, and, therefore, the ion current extracted from it does not depend on the geometric dimensions of the cathode, to create a plasma from which ions are generated. It has thermophysical properties. It is not difficult to obtain discharge currents of tens of mA / cm2.

На фиг.1 показан ионный источник; на фиг.2 - вариант источника с дополнительным распыл емым электродом.1 shows an ion source; Fig. 2 is a variant of a source with an additional sprayed electrode.

Ионный источник (фиг.1) содержит вакуумную камеру 1, в разр дной полости 2 которой размещены напротив друг друга интегрально-холодный катодЗ вакуумно-дугового разр да и анод 4. Вблизи катода 3 установлена не проницаема  дл  ионов металла , генерируемых с поверхности катода,The ion source (Fig. 1) contains a vacuum chamber 1, in the discharge cavity 2 of which an integral-cold cathode 3 of a vacuum-arc discharge and anode 4 are placed opposite each other. Near the cathode 3, it is impermeable to metal ions generated from the surface of the cathode,

но проницаема  дл  электронов перегородка 5, котора  делит разр дную полость 2 на катодную и анодную части 6 и 7.-Разр дна  полость электроизолирована от рабочей полости 8 вакуумной камеры 1 изол торами 9. Между анодной частью 7 разр дной полости 2 и рабочей полостью 8 вакуумной камеры 1 установлена сетка 10 на изол торах 11.but the electron-permeable partition 5, which divides the discharge cavity 2 into the cathode and anode parts 6 and 7. The discharge cavity is electrically insulated from the working cavity 8 of the vacuum chamber 1 by insulators 9. Between the anode part 7 of the discharge cavity 2 and the working cavity 8 of the vacuum chamber 1, a grid 10 is installed on the insulators 11.

Электропитание источника ионов проводитс  от источника 12 электропитани  ва- куумно-дугового разр да, источника 13 ускор ющего напр жени  (электропитани  камеры) и источника 14 напр жени  (электропитани  сетки 10). В цепи электропитани  вакуумно-дугового разр да установлено токовое реле 15, исполнительный орган 16 которого (нормально открытые контакты) включен в цепь электропитани  эмиссионнойсетки Юи в цепь ускор ющего напр жени .The ion source is powered by a vacuum arc discharge power source 12, an accelerating voltage source 13 (camera power supply), and a voltage source 14 (power grid 10). A current relay 15 is installed in the vacuum arc arc power supply circuit, the actuator 16 of which (normally open contacts) is included in the power supply circuit of the Yui emission grid in the accelerating voltage circuit.

В анодной части 6 разр дной полости 2 может быть установлен дополнительный электроизолированный от камеры посредством изол тора 17 распыл емый электрод 18 (фиг.2), соединенный с отрицательным полюсом источника 19 электропитани . Работает ионный источник следующим обоа- зом. Вакуумна  камера 1 системой откачки откачиваетс  до давлени  10 Па и затем в нее напускаетс  рабочий газ (например, аргон ) до давлени  10 Па. С помощью системы поджига между катодом 3 и анодом 4 в разр дной полости 2 возбуждаетс  двухступенчатый вакуумно-дуговой разр д (ДВДР). Разр д формируетс  с помощью не проницаемой дл  ионов металла, генерируемых с поверхности катода, перегородки 5. Катодна  часть 6 разр дной полости 2 заполнена металлогазовой плазмой. Ионы металла генерируютс  в катодном п тне дуги и распростран ютс  с поверхности катода 3 по пр молинейным траектори м. Поскольку перегородка 5 непроницаема дл  ионов металла , ионы металла задерживаютс  ей и в анодную часть 7 разр дной полости 2 не попадают.In the anode part 6 of the discharge cavity 2, an additional spray electrode 18 (Fig. 2), electrically insulated from the chamber by means of an insulator 17, connected to the negative pole of the power supply 19 can be installed. The ion source operates as follows. The vacuum chamber 1 is evacuated by a pumping system to a pressure of 10 Pa and then working gas (e.g. argon) is injected into it to a pressure of 10 Pa. By using the ignition system between the cathode 3 and the anode 4, a two-stage vacuum arc discharge (DDR) is excited in the discharge cavity 2. The discharge is formed by a septum 5, which is impermeable to metal ions generated from the surface of the cathode. The cathode portion 6 of the discharge cavity 2 is filled with a metal-gas plasma. Metal ions are generated in the cathode spot of the arc and propagate from the surface of the cathode 3 along straight paths. Since the partition 5 is impermeable to metal ions, metal ions are trapped therein and do not enter the anode part 7 of the discharge cavity 2.

Анодна  часть 7 разр дной полости 2 заполнена положительным столбом чисто газовой плазмы, образуемой электродами, проход щими через перегородку 5 под воздействием электрического пол  анода 4. При возникновении разр дного тока в цепи катода 3 и анода 4 срабатывает токовое реле 15, которое своим исполнительным органом 16 (нормально открытые контакты) включает источник 13 ускор ющего напр жени  и источник 14 напр жени . Така  последовательность включени  источниковThe anode part 7 of the discharge cavity 2 is filled with a positive column of purely gas plasma formed by electrodes passing through the baffle 5 under the influence of the electric field of the anode 4. When a discharge current occurs in the circuit of the cathode 3 and anode 4, the current relay 15, which is activated by its executive body 16 (normally open contacts) includes an accelerating voltage source 13 and a voltage source 14. This sequence of inclusion of sources

напр жени  (сначала включаетс  источник 12, и только после возбуждени  разр да - источники 13 и 14) обусловлена необходимостью возбуждени  разр да. Напр жениеvoltage (first turns on the source 12, and only after the excitation of the discharge - sources 13 and 14) due to the need to excite the discharge. Voltage

на сетке выбираетс  из услови  необходимой энергии ионов и создани  границы газовой плазмы, с поверхности которой происходит ускорение ионов, не выход щей за пределы сетки. Первое условие задаетс on the grid, it is selected from the condition of the necessary ion energy and creating a boundary of the gas plasma, from the surface of which the acceleration of ions occurs, which does not go beyond the grid. The first condition is specified

технологическими требовани ми, второе определ етс  из услови technological requirements, the second is determined from the condition

d 2 °d 2 °

1 (2е) 1/4 U2/4 (9 р1М/ Т71 (2e) 1/4 U2 / 4 (9 p1M / T7

где d - ширина сло  ионного объемного зар да , отдел ющего коллектор ионов (сетку) от границы плазмы;where d is the width of the layer of ionic bulk charge separating the ion collector (network) from the plasma boundary;

h - характерный размер сетки (рассто ние между соседними элементами сетки),h is the characteristic size of the grid (the distance between adjacent grid elements),

М - масса иона:M is the mass of the ion:

Uo - напр жение между плазмой и сеткой;Uo is the voltage between the plasma and the grid;

j - плотность тока положительных ионов на сетку.j is the current density of positive ions on the grid.

Под действием отрицательного потенциала относительно положительного столба плазмы газового разр да положительные ионы плазмы ускор ютс  в слое объемного зар да . Часть ионного потока осаждаетс  на сетке 10, а часть (примерно пропорциональна Under the action of a negative potential relative to the positive column of the gas discharge plasma, positive plasma ions are accelerated in the bulk charge layer. Part of the ion flux is deposited on the grid 10, and part (approximately proportional

коэффициенту прозрачности сетки) пролетает сквозь сетку 10 и п роизводит обработку изделий, размещенных в рабочей полости 8 вакуумной камеры 1. Нейтрализаци  обьем- ного зар да ионов осуществл етс  вторичными электронами, образуемыми при бомбардировке изделий и стенок камеры 1 ускоренными ионами. Источник 14 напр жени  создает двойной слой в рабочей полости 8 вакуумной камеры между сеткой иthe transparency coefficient of the grid) flies through the grid 10 and processes the products placed in the working cavity 8 of the vacuum chamber 1. Neutralization of the bulk charge of ions is carried out by secondary electrons formed during the bombardment of products and the walls of the chamber 1 by accelerated ions. The voltage source 14 creates a double layer in the working cavity 8 of the vacuum chamber between the grid and

вторичной плазмой в объеме полости 8, преп тствующий уходу электронов из объема полоти 8 в анодную часть 7 разр дной полости 2. Было экспериментально показано, что величина ионного тока, извлекаемого изsecondary plasma in the volume of cavity 8, which prevents the escape of electrons from the volume of the sheet 8 into the anode part 7 of the discharge cavity 2. It was experimentally shown that the magnitude of the ion current extracted from

положительного столба газовой плазмы ДВДР на всю площадь коллектора ионов SK (площадь коллектора ионов - вс  площадь анодной части 7 разр дной полости 2. включа  площадь анода 4, сетки 10 (Sc) и перегородки 5) с учетом коэффициента прозрачности сетки 10positive column of gas plasma of the DDR for the entire area of the ion collector SK (the area of the ion collector is the entire area of the anode part 7 of the discharge cavity 2. including the area of the anode 4, grid 10 (Sc) and septum 5) taking into account the transparency coefficient of grid 10

I 0,.I 0 ,.

(Поскольку в ДВДР ток разр да определ етс  только теплофизическими свойствами ох- лаждаемого катода, то ионный ток в устройстве ограничиваетс  в основном тепловыми возможност ми сетки 10.(Since the discharge current in a TDDR is determined only by the thermophysical properties of the cooled cathode, the ion current in the device is limited mainly by the thermal capabilities of grid 10.

Работоспособность источника ионов определ лась на установке, изображенной на фиг.1. В вакуумной камере установки устанавливалась на верхнем фланце, на котором расположен катод из алюмини , перегородка 4 в виде шеврона. Испаритель (катод 3) устанавливалс  на резиновой прокладке , котора  выполн ла функцию герметизатора и уплотнител  одновременно. На нижнем фланце камеры размещалс  водо- охлаждаемый медный анод диаметром 90 мм. Через всю камеру от верхнего до нижнего фланцев устанавливалась сетка из четырех изолированных друг от друга секций диаметром 100 мм и общей длиной 320 мм (коэффициент прозрачности сетки 0,5). Разр д запитывалс  от источника 11 электропитани . Напр жение на разр де 42В при токеThe operability of the ion source was determined using the apparatus shown in Fig. 1. In the vacuum chamber of the installation, it was mounted on the upper flange, on which an aluminum cathode is located, a partition 4 in the form of a chevron. The evaporator (cathode 3) was mounted on a rubber pad, which served as a sealant and sealant at the same time. A water-cooled copper anode with a diameter of 90 mm was placed on the lower flange of the chamber. Through the entire chamber from the upper to the lower flanges, a grid of four sections isolated from each other with a diameter of 100 mm and a total length of 320 mm was installed (transparency coefficient of the grid 0.5). The discharge was supplied from a power supply 11. Voltage at bit 42V at current

оabout

разр да 40 А. Напр жение источника 13 ус- кор ющего напр жени  составл ло 500В.discharge 40 A. The voltage of the source 13 of the accelerating voltage was 500V.

оabout

Суммарна  сила тока в секци х сетки 3,1 А. Сила ионного тока, замеренна  в цепи ускооThe total current strength in the grid sections is 3.1 A. The strength of the ion current measured in the USCO circuit

р ющего напр жени , составл ла 5,9 А. При площади сетки 1000 см2 плотность ионного тока составл ет 2,9 мА/см2, что в 2,9 раза выше, чем в устройстве, вз том в качестве прототипа. Преп тствием к дальнейшемуthe shear voltage was 5.9 A. With a grid area of 1000 cm2, the ion current density is 2.9 mA / cm2, which is 2.9 times higher than in the device, taken as a prototype. An obstacle to further

повышению ионного тока, извлекаемого из источника,  вл етс  ограниченность мощности примененного дл  этих целей источника 13 ускор ющего напр жени . Эксперимент показал, что повышение токаAn increase in the ion current extracted from the source is the limited power of the accelerating voltage source 13 used for this purpose. The experiment showed that increasing current

разр да ведет к пропорциональному увеличению ионного тока.discharge leads to a proportional increase in the ion current.

Claims (3)

1. ИОННЫЙ ИСТОЧНИК, содержащий вакуумную камеру с сообщающимис  между собой через эмиссионную сетку и электрически изолированными от нее рабочей и разр дной полост ми, в последней из которых установлены катод и анод газового разр да, источник электропитани  газового разр да, подключенный к электродам, источник ускор ющего напр жени , отрицательный полюс которого подключен к стенке рабочей полости, и источник напр жени , отрицательный полюс которого подключен к эмиссионной сетке, отличающийс  тем, что катод выполнен в виде тегрально-холодногокатода1. ION SOURCE, containing a vacuum chamber with a working and discharge cavities communicating with each other through an emission grid and electrically isolated from it, the cathode and anode of a gas discharge, a gas discharge power supply connected to the electrodes, a source an accelerating voltage, the negative pole of which is connected to the wall of the working cavity, and a voltage source, the negative pole of which is connected to the emission grid, characterized in that the cathode is made in the form of a tegral -holodnogokatoda вакуумно-дугового разр да, между катодом и анодом установлена перегородка, не проницаема  дл  ионов металла, генерируемых с поверхности катода, но проницаема  дл  электронов, раздел юща vacuum-arc discharge, a partition is installed between the cathode and anode, not permeable to metal ions generated from the surface of the cathode, but permeable to electrons, separating разр дную полость на катодную и анодную части, при этом ччрез эмиссионную сетку с рабочей полостью вакуумной камеры сообщена анодна  часть разр дной полости, причем в цепи электропитани  вакуумно- дугового разр да установлено токовое реле , исполнительный орган котооого включен в цепь электропитани  эмиссионной сетки и в цепь ускор ющего напр жени .a discharge cavity to the cathode and anode parts, while through the emission grid with the working cavity of the vacuum chamber, the anode part of the discharge cavity is communicated; moreover, a current relay is installed in the vacuum arc discharge power supply circuit, the actuator of which is included in the power supply circuit of the emission grid and accelerating voltage circuit. 2. Источник по п.1, отличающийс  тем, что он снабжен дополнительным распыл емым электродом, электроизолированным от камеры и соединенным с отрицательным полюсом дополнительного источника тока, при этом распыл емый электрод расположен в анодной части разр дной полости напротив эмиссионной сетки.2. The source according to claim 1, characterized in that it is provided with an additional atomized electrode, electrically insulated from the camera and connected to the negative pole of the additional current source, wherein the atomized electrode is located in the anode part of the discharge cavity opposite the emission grid. 3. Источник по п.2, отличающийс  тем, что -дополнительный распыл емый электрод выполнен из материала, отличного от материала катода.3. A source according to claim 2, characterized in that the additional sprayed electrode is made of a material different from the cathode material. ЯI AM
SU5008180 1991-04-29 1991-11-11 Ion source RU2002333C1 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5008180 RU2002333C1 (en) 1991-11-11 1991-11-11 Ion source
DE69227313T DE69227313T2 (en) 1991-04-29 1992-04-23 METHOD AND DEVICE FOR TREATING COMPONENTS IN A GAS DISCHARGE PLASMA
US08/146,043 US5503725A (en) 1991-04-29 1992-04-23 Method and device for treatment of products in gas-discharge plasma
EP92911913A EP0583473B1 (en) 1991-04-29 1992-04-23 Method and device for treatment of articles in gas-discharge plasma
PCT/RU1992/000204 WO1993010552A1 (en) 1991-11-11 1992-11-10 Method and device for generation of ion beam

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5008180 RU2002333C1 (en) 1991-11-11 1991-11-11 Ion source

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2002333C1 true RU2002333C1 (en) 1993-10-30

Family

ID=21588291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5008180 RU2002333C1 (en) 1991-04-29 1991-11-11 Ion source

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2002333C1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2648235B2 (en) Ion gun
Oks et al. Development of plasma cathode electron guns
AR025066A2 (en) METHOD FOR IONIZING A COATING VAPOR IN A COATING DEPOSITION FOR VAPOR DEPOSITION, AND COATING DEPOSITION BY DEVAPOR DEPOSITION USING A CATHODE WITH AN ANODIC HOOD
US4122347A (en) Ion source
EP0291185B1 (en) Improved ion source
US4466242A (en) Ring-cusp ion thruster with shell anode
EP0993683A1 (en) Electron flood apparatus for neutralising charge build up on a substrate during ion implantation
US6285025B1 (en) Source of fast neutral molecules
RU2002333C1 (en) Ion source
JP4029495B2 (en) Ion source
RU2002334C1 (en) Method of generation of ion beam
KR940025403A (en) Method and apparatus for producing low energy neutral particle beam
CN108770176B (en) Large-scale low-voltage high-efficiency Gao Shu direct-current hollow cathode source
JPS5740845A (en) Ion beam generator
RU2003196C1 (en) Plant for generation of ion beam of large section
JP2627420B2 (en) Fast atom beam source
RU209138U1 (en) Fore-vacuum plasma source of a pulsed electron beam based on a contracted arc discharge
JPH0129295B2 (en)
RU2038643C1 (en) Process of generation of ion beam
SU1102408A1 (en) Ion-getter pump
SU908193A1 (en) Ion source
RU1745080C (en) Source of ions of vapors of metals
JPH08236030A (en) Negative ion source
JPH0372068A (en) Solid ion source
JPS63211542A (en) Ion source device