RU2002123838A

RU2002123838A - Чувствительная к облучению композиция с изменяющимся показателем преломления и способ изменения показателя преломления

Info

Publication number: RU2002123838A
Application number: RU2002123838/04A
Authority: RU
Inventors: Исао НИСИМУРА (JP); Исао НИСИМУРА; Нобуо БЕССО (JP); Нобуо БЕССО; Ацуси КУМАНО (JP); Ацуси КУМАНО; Цутому СИМОКАВА (JP); Цутому СИМОКАВА; Кендзи ЯМАДА (JP); Кендзи ЯМАДА
Original assignee: Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН (JP); Джей Эс Эр КОРПОРЕЙШН
Priority date: 2000-08-29
Filing date: 2001-08-24
Publication date: 2004-03-20
Also published as: RU2239859C2

Claims

1. Чувствительная к облучению композиция с изменяющимся показателем преломления, включающая в себя разлагаемое соединение (А), неразлагаемое соединение (В), имеющее более низкий показатель преломления, чем разлагаемое соединение (А), чувствительное к облучению разлагающее вещество (С) и стабилизатор (D).

2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что максимальная разница между показателем преломления части, которая подвергнута облучению, и показателем преломления части, которая не подвергнута облучению, составляет 0,02 или более.

3. Композиция по п.1 или 2, отличающаяся тем, что соотношение между показателем преломления n_B неразлагаемого соединения (В) и показателем преломления n_А разлагаемого соединения (А) удовлетворяет следующему выражению (1):

n_A-n_B ≥ 0,05 (1)

4. Композиция по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что разлагаемое соединение (А) представляет собой разлагаемое кислотой соединение, неразлагаемое соединение (В) представляет собой неразлагаемый кислотой полимер, и чувствительное к облучению разлагающее вещество (С) представляет собой чувствительный к облучению агент, генерирующий кислоту.

5. Композиция по п.4, отличающаяся тем, что разлагаемое кислотой соединение (А) содержит, по меньшей мере, одно соединение, имеющее, по меньшей мере, одну структуру, выбранную из группы, состоящей из структур, представленных следующими формулами (1)-(8):

где R¹ представляет собой алкиленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу или ариленовую группу;

R²представляет собой алкиленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу

где М представляет собой Si или Ge;

R³ представляет собой алкиленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу;

R⁴ представляет собой атом кислорода, алкиленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, ариленовую группу или одинарную связь;

R⁵, R⁶, R⁷ и R⁸, каждый независимо, представляют собой атом водорода, алкильную группу, арильную группу, алкокси группу или тиоалкильную группу;

m представляет собой целое число от 0 до 2

где R⁹ и R¹⁰, каждый независимо, представляют собой алкиленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, ариленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу

где R¹¹ представляет собой оксиалкиленовую группу или одинарную связь;

R¹² представляет собой атом водорода, алкильную группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу или арильную группу

где R¹³ представляет собой атом водорода, алкильную группу или арильную группу

где R¹⁴ представляет собой алкиленовую группу или структуру, представленную следующими формулами (6)-1, (6)-2 или (6)-3:

где R¹⁵, R¹⁶, R¹⁷ и R¹⁸, каждый независимо, представляют собой атом водорода, цепочечную алкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, атом хлора, атом брома, атом иода, гидроксильную группу, меркапто группу, карбоксильную группу, алкоксильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, алкилтио группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, галогеналкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, галогеналкоксильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, галогеналкилтио группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, гидроксиалкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, меркаптоалкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, гидроксиалкоксильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, меркаптоалкилтио группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, арильную группу, содержащую от 6 до 10 атомов углерода, или аралкильную группу, содержащую от 7 до 11 атомов углерода

-O-R¹⁹-O-, (6)-2

где R¹⁹ представляет собой алкиленовую группу

-NH-R²⁰-NH-, (6)-3

где R²⁰ представляет собой алкиленовую группу

где R²¹ представляет собой алкиленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу или ариленовую группу

где R²², R²³, R²⁴ и R²⁵, каждый независимо, представляют собой атом водорода, цепочечную алкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, атом хлора, атом брома, атом иода, гидроксильную группу, меркапто группу, карбоксильную группу, алкоксильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, алкилтио группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, галогеналкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, галогеналкоксильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, галогеналкилтио группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, гидроксиалкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, меркаптоалкильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, гидроксиалкоксильную группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, меркаптоалкилтио группу, содержащую от 1 до 6 атомов углерода, арильную группу, содержащую от 6 до 10 атомов углерода, или аралкильную группу, содержащую от 7 до 11 атомов углерода.

6. Композиция по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что разлагаемое соединение (А) представляет собой разлагаемое основанием соединение, неразлагаемое соединение (В) представляет собой неразлагаемый основанием полимер, и чувствительное к облучению разлагающее вещество (С) представляет собой чувствительный к облучению агент, генерирующий основание.

7. Композиция по п.6, отличающаяся тем, что разлагаемое соединение (А) содержит, по меньшей мере, одно соединение, имеющее, по меньшей мере, одну структуру, выбранную из группы, состоящей из структур, представленных следующими формулами (9)-(12):

где R²⁶ представляет собой алкиленовую группу, аралкиленовую группу или ариленовую группу;

R²⁷ представляет собой алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу;

R²⁸, R²⁹, R³⁰ и R³¹, каждый независимо, представляют собой атом водорода, алкильную группу, арильную группу, алкоксильную группу или тиоалкильную группу;

i и j, каждый независимо, равен 0 или 1

где R³² представляет собой алкиленовую группу, аралкиленовую группу или ариленовую группу;

R³³ представляет собой алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу

где R³⁴ и R³⁵, каждый независимо, представляют собой алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу

где R³⁶ и R³⁷, каждый независимо, представляют собой алкиленовую группу, аралкиленовую группу, ариленовую группу, алкилен-арилен-алкиленовую группу, алкилсилиленовую группу или алкилгермиленовую группу.

8. Композиция по любому из пп.1-7, отличающаяся тем, что стабилизатор (D) представляет собой, по меньшей мере, одно вещество, выбранное из группы, состоящей из аминосоединения, эпоксисоединения, соединения тиирана, соединения оксетана, алкоксиметилмеламинового соединения, алкоксиметилглюколурилового соединения, алкоксиметилбензогуанаминового соединения, соединения алкоксиметилмочевины, соединения изоцианата, соединения цианата, соединения оксазолина, соединения оксазина и силильного соединения.

9. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что содержит стабилизатор (D) и дополнительно катализатор взаимодействия разлагаемого соединения (А) со стабилизатором (D).

10. Способ формирования структуры, образованной показателем преломления, включающий в себя этапы, на которых подвергают облучению чувствительную к облучению композицию с изменяющимся показателем преломления, содержащую разлагаемое соединение (А), неразлагаемое соединение (В), чувствительное к излучению разлагающее вещество (С) и стабилизатор (D), и нагревают для взаимодействия стабилизатора (D) с разлагаемым соединением (А) не подвергнутой облучению части.

11. Способ формирования структуры, образованной показателем преломления, включающий в себя этапы, на которых подвергают облучению чувствительную к облучению композицию с изменяющимся показателем преломления, содержащую разлагаемое соединение (А), неразлагаемое соединение (В), имеющее более низкий показатель преломления, чем разлагаемое соединение (А), и чувствительное к излучению разлагающее вещество (С) через шаблон структуры и обрабатывают композицию стабилизатором (D) для взаимодействия разлагаемого соединения (А) не подвергнутой облучению части со стабилизатором (D).

12. Способ формирования структуры, образованной показателем преломления, включающий в себя этапы, на которых подвергают облучению чувствительную к облучению композицию с изменяющимся показателем преломления, содержащую разлагаемое соединение (А), неразлагаемое соединение (В), имеющее более низкий показатель преломления, чем разлагаемое соединение (А), и чувствительное к излучению разлагающее вещество (С) через шаблон структуры и нагревают для разложения разлагаемого полимера не подвергнутой облучению части.

13. Способ по любому из пп.10, 11 или 12, отличающийся тем, что сформированная структура, образованная показателем преломления, имеет поры или не имеет никаких пор в подвергнутой облучению части.

14. Образованная показателем преломления структура, сформированная способом по любому из пп.10-12 или 13.

15. Образованная показателем преломления структура по п.14, которая состоит из первой области, имеющей или неимеющей пор, и второй области, имеющей более высокий показатель преломления, чем первая область, и неимеющей никаких пор.

16. Образованная показателем преломления структура по п.15, отличающаяся тем, что первая область имеет более низкий модуль упругости, чем вторая область.

17. Оптический материал, имеющий образованную показателем преломления структуру, сформированную способом по любому из пп.10-12 или 13.