RU2002116218A - Источник излучения на основе плазменного фокуса с улучшенной системой импульсного питания - Google Patents
Источник излучения на основе плазменного фокуса с улучшенной системой импульсного питанияInfo
- Publication number
- RU2002116218A RU2002116218A RU2002116218/28A RU2002116218A RU2002116218A RU 2002116218 A RU2002116218 A RU 2002116218A RU 2002116218/28 A RU2002116218/28 A RU 2002116218/28A RU 2002116218 A RU2002116218 A RU 2002116218A RU 2002116218 A RU2002116218 A RU 2002116218A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- source according
- gas
- pinch
- source
- inner diameter
- Prior art date
Links
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 title claims 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims 2
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims 1
- 230000001172 regenerating Effects 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral Effects 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon(0) Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Claims (23)
1. Источник высокоэнергетичных фотонов, содержащий А. вакуумную камеру, В. по меньшей мере два электрода, установленных коаксиально в вакуумной камере и определяющих область электрического разряда и выполненных с возможностью создавать плазменные пинчи высокой частоты в месте пинча при электрическом разряде, С. рабочий газ, содержащий активный газ и буферный газ, причем буферный газ представляет собой благородный газ, а активный газ выбирают так, чтобы обеспечить излучение, по меньшей мере, одной спектральной линии, D. систему подачи активного газа для подачи активного газа в область разряда, Е. систему импульсного питания, содержащую зарядный конденсатор и цепь электромагнитного сжатия, причем цепь электромагнитного сжатия содержит импульсный трансформатор для формирования электрических импульсов и напряжений, достаточно высоких по величине, чтобы создавать электрический разряд между, по меньшей мере, одной парой электродов.
2. Источник фотонов по п.1, отличающийся тем, что один из электродов является полым анодом, и активный газ вводят в вакуумную камеру через указанный полый анод.
3. Источник по п.2, отличающийся тем, что активный газ содержит литий.
4. Источник по п.3, отличающийся тем, что активный газ содержит ксенон.
5. Источник по п.2, отличающийся тем, что буферный газ является благородным газом.
6. Источник по п.2, отличающийся тем, что импульсный источник питания содержит, по меньшей мере, один конденсатор, оптимизированный для обеспечения максимального тока от конденсатора одновременно с указанным плазменным пинчем.
7. Источник по п.2, отличающийся тем, что полый анод определяет конец пинча, первый внутренний диаметр около указанного конца пинча и второй внутренний диаметр, который дальше от указанного конца пинча, чем первый внутренний диаметр, при этом второй внутренний диаметр больше, чем первый внутренний диаметр.
8. Источник по п.7, отличающийся тем, что первый внутренний диаметр отделен от конца пинча расстоянием, выбираемым для предотвращения образования дугового разряда.
9. Источник по п.2, отличающийся тем, что указанный анод определяет длину открытой части анода и эту длину выбирают так, чтобы плазменный пинч возникал приблизительно одновременно с максимальным значением тока возбуждения.
10. Источник по п.2, отличающийся тем, что дополнительно содержит источник лития, состоящий из пористого материала, пропитанного литием.
11. Источник по п.10, отличающийся тем, что пористым материалом является вольфрам.
12. Источник по п.11, отличающийся тем, что дополнительно содержит ВЧ источник, выполненный для создания плазмы, окружающей, по меньшей мере, часть указанного пористого материала.
13. Источник по п.1, отличающийся тем, что система импульсного питания содержит систему резонансной зарядки для зарядки зарядного конденсатора.
14. Источник по п.1, отличающийся тем, что цепь электромагнитного сжатия содержит, по меньшей мере, две катушки индуктивности с насыщаемыми сердечниками и цепь подмагничивания для подмагничивания, по меньшей мере, двух катушек индуктивности с насыщаемыми сердечниками.
15. Источник по п.1, отличающийся тем, что дополнительно содержит цепь регенерации энергии для регенерации на зарядном конденсаторе энергии, отраженной от электродов.
16. Источник по п.1, отличающийся тем, что зарядный конденсатор представляет собой батарею из отдельных конденсаторов.
17. Источник по п.1, отличающийся тем, что дополнительно содержит тепловую трубу для охлаждения, по меньшей мере, одного из электродов.
18. Источник по п.2, отличающийся тем, что дополнительно содержит систему охлаждения с тепловой трубой для охлаждения указанного полого анода.
19. Источник по п.18, отличающийся тем, что указанная система охлаждения с тепловой трубой и указанный полый анод содержат полый анод, охлаждаемый тепловой трубой, имеющий участок для ввода активного газа.
20. Источник по п.1, отличающийся тем, что импульсный трансформатор состоит из множества кольцеобразных сердечников, содержащих магнитный материал, и первичной обмотки, которая находится в электромагнитной связи с каждым из этих сердечников.
21. Источник по п.20, отличающийся тем, что указанный магнитный материал состоит из пленки с высокой магнитной проницаемостью, намотанной на оправку.
22. Источник по п.21, отличающийся тем, что импульсный трансформатор определяет вторичную обмотку, состоящую из множества стержней.
23. Источник по п.21, отличающийся тем, что оправка образует часть первичной обмотки для каждой первичной обмотки.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/442,582 | 1999-11-18 | ||
| US09/590,962 | 2000-06-09 | ||
| US09/690,084 US6566667B1 (en) | 1997-05-12 | 2000-10-16 | Plasma focus light source with improved pulse power system |
| US09/690,084 | 2000-10-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2002116218A true RU2002116218A (ru) | 2004-04-27 |
| RU2253194C2 RU2253194C2 (ru) | 2005-05-27 |
Family
ID=35824844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2002116218/28A RU2253194C2 (ru) | 2000-10-16 | 2000-10-26 | Источник излучения на основе плазменного фокуса с улучшенной системой импульсного питания |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2253194C2 (ru) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2496282C1 (ru) * | 2012-02-15 | 2013-10-20 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Эуф Лабс" | Устройство и способ для генерации излучения из разрядной плазмы |
| RU2510984C2 (ru) * | 2012-08-09 | 2014-04-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технологический университет "СТАНКИН" (ФГБОУ ВПО МГТУ "СТАНКИН") | Устройство для осаждения металлических пленок |
| RU2548005C2 (ru) * | 2013-06-27 | 2015-04-10 | Открытое акционерное общество "НИИЭФА им. Д.В. Ефремова" (ОАО "НИИЭФА") | Плазменный источник проникающего излучения |
| RU2633726C1 (ru) * | 2016-05-18 | 2017-10-17 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН) | Устройство получения направленного экстремального ультрафиолетового излучения с длиной волны 11,2 нм ±1% для проекционной литографии высокого разрешения |
| RU2703588C1 (ru) * | 2018-12-25 | 2019-10-21 | Общество с ограниченной ответственностью "Синтез НПФ" | Рентгеновский излучатель |
-
2000
- 2000-10-26 RU RU2002116218/28A patent/RU2253194C2/ru not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2206186C2 (ru) | Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации | |
| EP0463815B1 (en) | Vacuum ultraviolet light source | |
| JPH0734350B2 (ja) | 中空陰極を有するプラズマスイッチ | |
| JPS5996788A (ja) | 高電圧パルス放電励起装置 | |
| US5048032A (en) | Air cooled RF induction excited ion laser | |
| RU2002116218A (ru) | Источник излучения на основе плазменного фокуса с улучшенной системой импульсного питания | |
| US5336975A (en) | Crossed-field plasma switch with high current density axially corrogated cathode | |
| KR102486662B1 (ko) | 플라즈마 발생 장치 및 그 동작 방법 | |
| JP3040637B2 (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JP3808511B2 (ja) | パルスガスレーザ発生装置 | |
| Van Goor et al. | Improved x‐ray switched XeCl laser | |
| US5048068A (en) | Magnetically operated pulser | |
| WO2002007484A2 (en) | Method of producing short-wave radiation from a gas-discharge plasma and device for implementing it | |
| JP2877573B2 (ja) | 金属蒸気レーザー装置の電気回路 | |
| JP3842814B2 (ja) | パルスガスレーザ発生装置 | |
| JP3441218B2 (ja) | 半導体スイッチ装置とそれを用いた電気装置 | |
| RU2082289C1 (ru) | Способ получения высокотемпературной плазмы | |
| Vuchkov et al. | Two-arm CuBr laser with a central electrode | |
| JPH04105378A (ja) | 放電励起エキシマレーザ装置 | |
| JP2007318306A (ja) | マイクロ波発振装置 | |
| WO2005071806A1 (fr) | Laser compact a impulsions gazeuses et dispositif destine a la compression magnetique de l'impulsion pour son excitation | |
| Tang et al. | Modified overshoot mode of magnetic-spiker sustainer technology for multijoule TEA CO2 lasers | |
| Ryabchikov et al. | High-current nanosecond accelerator" Tonus-NT" | |
| JPS6140076A (ja) | 金属蒸気レ−ザ | |
| Losev et al. | The development of a long-pulse excimer laser system |