Claims (28)
1. Способ изготовления теневой маски, включающий операции: изготовление матрицы теневой маски с применением никеля и формовочного антиадгезива, формирование теневой маски путем погружения в ванну матрицы теневой маски, состоящей из никеля и формовочного антиадгезива, и электролитического формования матрицы теневой маски, и отделение теневой маски от матрицы теневой маски, в которой сформирована указанная теневая маска.1. A method of manufacturing a shadow mask, including operations: manufacturing a matrix of a shadow mask using nickel and molding release agent, forming a shadow mask by immersing in the bath a matrix of a shadow mask consisting of nickel and a molding release agent, and electrolytically forming the matrix of the shadow mask, and separating the shadow mask from the matrix of the shadow mask in which the specified shadow mask is formed.
2. Способ изготовления теневой маски по п.1, в котором этап изготовления матрицы теневой маски включает операции: 1) заполнение отверстий подложки путем покрытия подложки формовочным антиадгезивом; 2) удаление формовочного антиадгезива с обеих поверхностей подложки с помощью абразивного материала и выравнивание обеих поверхностей подложки; 3) формирование никелевого слоя на одной поверхности подложки путем погружения подложки в ванну и электролитического формования подложки; 4) покрытие поверхности подложки формовочным антиадгезивом таким образом, чтобы полностью закрыть слой никеля, сформированный на поверхности подложки, и затем отверждение формовочного антиадгезива после удаления подложки из ванны, и 5) отделение подложки от формовочного антиадгезива и никелевого слоя.2. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 1, wherein the step of manufacturing the matrix of the shadow mask includes the steps of: 1) filling the holes of the substrate by coating the substrate with a molding release agent; 2) removal of the molding release agent from both surfaces of the substrate using abrasive material and the alignment of both surfaces of the substrate; 3) the formation of a nickel layer on one surface of the substrate by immersing the substrate in the bath and electrolytic molding of the substrate; 4) coating the surface of the substrate with a molding release agent so as to completely cover the nickel layer formed on the surface of the substrate, and then curing the molding release agent after removing the substrate from the bath, and 5) separating the substrate from the molding release adhesive and the nickel layer.
3. Способ изготовления теневой маски по п.2, в котором формовочный антиадгезив является кремнийорганической смолой.3. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 2, in which the molding release agent is an organosilicon resin.
4. Способ изготовления теневой маски по п.2, в котором абразивный материал, применяемый на операции 2), представляет собой разбавитель, ацетон или толуол.4. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 2, in which the abrasive material used in step 2) is a diluent, acetone or toluene.
5. Способ изготовления теневой маски по п.3, в котором абразивный материал, применяемый на операции 2), представляет собой смесь разбавителя и толуола.5. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 3, in which the abrasive material used in step 2) is a mixture of diluent and toluene.
6. Способ изготовления теневой маски по п.2, в котором ванну для электролитического формования подложки, применяемую на операции 3), выбирают из группы, включающей ванну Уоттса, хлоридную ванну для никелирования, бром-фторидную ванну для никелирования и сульфамино-кислотную ванну для никелирования.6. The method of manufacturing a shadow mask according to claim 2, in which the bath for electrolytic molding of the substrate used in step 3) is selected from the group consisting of a Watts bath, a nickel chloride bath, a nickel bromide bath and a sulfamic acid bath for nickel plating.
7. Способ изготовления теневой маски по п.2, в котором в ванну для ускорения формирования никелевого слоя дополнительно погружают никелевый слиток.7. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 2, in which a nickel ingot is additionally immersed in the bath to accelerate the formation of the nickel layer.
8. Способ изготовления теневой маски по п.1, в котором этап изготовления матрицы теневой маски включает операции: 1) заполнение отверстий подложки путем покрытия подложки формовочным антиадгезивом; 2) удаление формовочного антиадгезива с одной поверхности подложки с помощью абразивного материала и выравнивание поверхности подложки; 3) формирование никелевого слоя на поверхности подложки путем погружения подложки в ванну и электролитического формования подложки; 4) покрытие поверхности подложки формовочным антиадгезивом таким образом, чтобы полностью закрыть слой никеля, сформированный на поверхности подложки, и затем отверждение формовочного антиадгезива после удаления подложки из ванны; 5) удаление формовочного антиадгезива с другой поверхности подложки с помощью абразивного материала и выравнивание другой поверхности подложки, и 6) отделение подложки от формовочного антиадгезива и никелевого слоя.8. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 1, wherein the step of manufacturing the matrix of the shadow mask includes the steps of: 1) filling the holes of the substrate by coating the substrate with a molding release agent; 2) removing the molding release agent from one surface of the substrate using abrasive material and leveling the surface of the substrate; 3) the formation of a nickel layer on the surface of the substrate by immersing the substrate in the bath and electrolytic molding of the substrate; 4) coating the surface of the substrate with a molding release agent so as to completely cover the nickel layer formed on the surface of the substrate, and then curing the molding release agent after removing the substrate from the bath; 5) removing the molding release agent from another surface of the substrate using abrasive material and leveling the other surface of the substrate, and 6) separating the substrate from the molding release adhesive and the nickel layer.
9. Способ изготовления теневой маски по п.8, в котором формовочный антиадгезив является кремнийорганической смолой.9. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 8, in which the molding release agent is an organosilicon resin.
10. Способ изготовления теневой маски по п.8, в котором абразивный материал, применяемый на операциях 2) и 5), представляет собой разбавитель, ацетон или толуол.10. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 8, in which the abrasive material used in operations 2) and 5) is a diluent, acetone or toluene.
11. Способ изготовления теневой маски по п.9, в котором абразивный материал, применяемый на операциях 2) и 5), представляет собой смесь разбавителя и толуола.11. A method of manufacturing a shadow mask according to claim 9, in which the abrasive material used in operations 2) and 5) is a mixture of diluent and toluene.
12. Способ изготовления теневой маски по п.11, в котором ванну для электролитического формования подложки, применяемую на операции 3), выбирают из группы, включающей ванну Уоттса, хлоридную ванну для никелирования, бром-фторидную ванну для никелирования и сульфамино-кислотную ванну для никелирования.12. The method of manufacturing a shadow mask according to claim 11, in which the bath for electrolytic molding of the substrate used in step 3) is selected from the group consisting of a Watts bath, a nickel chloride bath, a nickel bromide bath and a sulfamic acid bath for nickel plating.
13. Способ изготовления теневой маски по п.12, в котором в ванну для ускорения образования никелевого слоя дополнительно погружают никелевый слиток.13. A method of manufacturing a shadow mask according to item 12, in which a nickel ingot is additionally immersed in a bath to accelerate the formation of a nickel layer.
14. Теневая маска, включающая:14. Shadow mask, including:
раму теневой маски, в которой выполнено множество отверстий, и полосу, выполненную как одно целое с рамой теневой маски по краю рамы теневой маски для усиления конструкции рамы теневой маски,a shadow mask frame in which a plurality of holes are made, and a strip made integrally with the shadow mask frame along the edge of the shadow mask frame to enhance the construction of the shadow mask frame,
при этом раму теневой маски и полосу получают как одно целое при изготовлении способом, включающим операции: изготовление матрицы теневой маски с применением никеля и формовочного антиадгезива; формирование теневой маски путем погружения в ванну матрицы теневой маски, состоящей из никеля и формовочного антиадгезива, и затем электролитическое формования матрицы теневой маски; и отделение теневой маски от матрицы теневой маски, в которой сформирована теневая маска.wherein the shadow mask frame and strip are obtained as a single unit in the manufacture of a method including the operations of: manufacturing a matrix of the shadow mask using nickel and a molding release agent; forming a shadow mask by immersing in the bath a matrix of a shadow mask consisting of nickel and a molding release agent, and then electrolytic molding a matrix of a shadow mask; and separating the shadow mask from the matrix of the shadow mask in which the shadow mask is formed.
15. Теневая маска по п.14, в которой этап изготовления матрицы теневой маски включает операции: 1) заполнение отверстий подложки путем покрытия подложки формовочным антиадгезивом; 2) удаление формовочного антиадгезива с обеих поверхностей подложки с помощью абразивного материала и выравнивание обеих поверхностей подложки; 3) формирование никелевого слоя на одной поверхности подложки путем погружения подложки в ванну и электролитического формования подложки;15. The shadow mask of claim 14, wherein the step of manufacturing the matrix of the shadow mask includes the steps of: 1) filling the holes of the substrate by coating the substrate with a molding release agent; 2) removal of the molding release agent from both surfaces of the substrate using abrasive material and the alignment of both surfaces of the substrate; 3) the formation of a nickel layer on one surface of the substrate by immersing the substrate in the bath and electrolytic molding of the substrate;
4) покрытие поверхности подложки формовочным антиадгезивом таким образом, чтобы полностью закрыть слой никеля, сформированный на поверхности подложки, и затем отверждение формовочного антиадгезива после удаления подложки из ванны; и 5) отделение подложки от формовочного антиадгезива и никелевого слоя.4) coating the surface of the substrate with a molding release agent so as to completely cover the nickel layer formed on the surface of the substrate, and then curing the molding release agent after removing the substrate from the bath; and 5) separating the substrate from the molding release agent and the nickel layer.
16. Теневая маска по п.15, в которой формовочный антиадгезив является кремнийорганической смолой.16. The shadow mask according to clause 15, in which the molding release agent is an organosilicon resin.
17. Теневая маска по п.15, в которой абразивный материал, применяемый на операции 2), представляет собой разбавитель, ацетон или толуол.17. The shadow mask according to clause 15, in which the abrasive material used in step 2) is a diluent, acetone or toluene.
18. Теневая маска по п.17, в которой абразивный материал, применяемый на операции 2), представляет собой смесь разбавителя и толуола.18. The shadow mask of claim 17, wherein the abrasive material used in step 2) is a mixture of diluent and toluene.
19. Теневая маска по п.15, в которой ванну для электролитического формования подложки, применяемую на операции 3), выбирают из группы, включающей ванну Уоттса, хлоридную ванну для никелирования, бром-фторидную ванну для никелирования и сульфамино-кислотную ванну для никелирования.19. The shadow mask according to clause 15, in which the bath for electrolytic molding of the substrate used in step 3) is selected from the group consisting of the Watts bath, a nickel chloride bath, a nickel bromide fluoride bath and a nickel-free sulfamic acid bath.
20. Теневая маска по п.15, в которой в ванну для ускорения образования никелевого слоя дополнительно погружают никелевый слиток.20. The shadow mask according to clause 15, in which a nickel ingot is additionally immersed in the bath to accelerate the formation of the nickel layer.
21. Теневая маска по п.15, в которой толщина рамы и полосы теневой маски составляет около 0,1 мм, а диаметр отверстий в раме теневой маски составляет около 20 мкм.21. The shadow mask according to clause 15, in which the thickness of the frame and strip of the shadow mask is about 0.1 mm, and the diameter of the holes in the frame of the shadow mask is about 20 microns.
22. Теневая маска по п.14, в которой этап изготовления матрицы теневой маски включает операции: 1) заполнение отверстий подложки путем покрытия подложки формовочным антиадгезивом; 2) удаление формовочного антиадгезива с одной поверхности подложки с помощью абразивного материала и выравнивание обеих поверхностей подложки; 3) формирование никелевого слоя на поверхности подложки путем погружения подложки в ванну и электролитического формования подложки; 4) покрытие поверхности подложки формовочным материалом таким образом, чтобы полностью закрыть слой никеля, сформированный на поверхности подложки, и затем отверждение формовочного антиадгезива после удаления подложки из ванны; 5) удаление формовочного антиадгезива с другой поверхности подложки с помощью абразивного материала и выравнивание другой поверхности подложки; 6) отделение подложки от формовочного антиадгезива и никелевого слоя.22. The shadow mask of claim 14, wherein the step of manufacturing the matrix of the shadow mask includes the steps of: 1) filling the holes of the substrate by coating the substrate with a molding release agent; 2) removal of the molding release agent from one surface of the substrate using abrasive material and the alignment of both surfaces of the substrate; 3) the formation of a nickel layer on the surface of the substrate by immersing the substrate in the bath and electrolytic molding of the substrate; 4) coating the surface of the substrate with a molding material so as to completely cover the nickel layer formed on the surface of the substrate, and then curing the molding release agent after removing the substrate from the bath; 5) removal of the molding release agent from another surface of the substrate using abrasive material and alignment of the other surface of the substrate; 6) separation of the substrate from the molding release agent and the Nickel layer.
23. Теневая маска по п.22, в которой формовочный антиадгезив является кремнийорганической смолой.23. The shadow mask of claim 22, wherein the molding release agent is an organosilicon resin.
24. Теневая маска по п.22, в которой абразивный материал, применяемый на операциях 2) и 5), представляет собой разбавитель, ацетон или толуол.24. The shadow mask according to item 22, in which the abrasive material used in operations 2) and 5) is a diluent, acetone or toluene.
25. Теневая маска по п.24, в которой абразивный материал, применяемый на операциях 2) и 5), представляет собой смесь разбавителя и толуола.25. The shadow mask according to paragraph 24, in which the abrasive material used in operations 2) and 5) is a mixture of diluent and toluene.
26. Теневая маска по п.22, в которой ванну для электролитического формования подложки, применяемую на операции 3), выбирают из группы, включающей ванну Уоттса, хлоридную ванну для никелирования, бром-фторидную ванну для никелирования и сульфамино-кислотную ванну для никелирования.26. The shadow mask according to item 22, in which the bath for electrolytic molding of the substrate used in step 3) is selected from the group consisting of a Watts bath, a chloride bath for nickel plating, a bromine fluoride bath for nickel plating, and a sulfamic acid bath for nickel plating.
27. Теневая маска по п.26, в которой в ванну для ускорения образования никелевого слоя дополнительно погружают никелевый слиток.27. The shadow mask of claim 26, wherein the nickel ingot is further immersed in the bath to accelerate the formation of the nickel layer.
28. Теневая маска, изготовленная способом изготовления теневой маски согласно любому из пп.1-13.28. A shadow mask made by a method of manufacturing a shadow mask according to any one of claims 1 to 13.