RU2001103515A - Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем - Google Patents
Способ управления высокочастотным плазменным дисплеемInfo
- Publication number
- RU2001103515A RU2001103515A RU2001103515/09A RU2001103515A RU2001103515A RU 2001103515 A RU2001103515 A RU 2001103515A RU 2001103515/09 A RU2001103515/09 A RU 2001103515/09A RU 2001103515 A RU2001103515 A RU 2001103515A RU 2001103515 A RU2001103515 A RU 2001103515A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- frequency
- plasma display
- controlling
- display according
- voltage pulses
- Prior art date
Links
- 210000004027 cells Anatomy 0.000 claims 15
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims 15
- 230000000171 quenching Effects 0.000 claims 6
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims 6
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 2
- 210000002381 Plasma Anatomy 0.000 claims 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon(0) Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Claims (15)
1. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем, по которому подают высокочастотное поддерживающее напряжение на основные электроды ячеек плазменного дисплея и подают поджигающие импульсы напряжения, возбуждая и поддерживая тем самым в рабочем газе, заполняющем ячейки, высокочастотный разряд, при котором амплитуда колебаний электронов в разряде меньше разрядного промежутка, с последующей подачей на электроды ячеек гасящих импульсов напряжения, параметры которых выбирают из условия распада плазмы в рабочем газе, отличающийся тем, что рабочую частоту высокочастотного поддерживающего напряжения при заданном расстоянии между основными электродами ячейки плазменного дисплея и заданной плотности рабочего газа в ячейке выбирают в области частот, нижняя граница которой находится вблизи геометрического места точек, определяемого выражением:
где fb - граничная частота высокочастотного поддерживающего напряжения, соответствующее нижней границе области значений рабочих частот указанного напряжения (Гц);
L1 - расстояние между основными электродами ячейки (см);
N - плотность рабочего газа (см-3);
μe - подвижность электронов (В-1см2c-1);
De - коэффициент диффузии (см2c-1);
А, В, k - коэффициенты аппроксимации зависимости частоты ионизации рабочего газа, нормированной на плотность указанного газа, от параметра приведенного поля E/N:
νi/N = A(E/N)kexp[-B/(E/N)],
где Е - напряженность электрического поля (В/см);
νi - частота ионизации рабочего газа (с-1).
где fb - граничная частота высокочастотного поддерживающего напряжения, соответствующее нижней границе области значений рабочих частот указанного напряжения (Гц);
L1 - расстояние между основными электродами ячейки (см);
N - плотность рабочего газа (см-3);
μe - подвижность электронов (В-1см2c-1);
De - коэффициент диффузии (см2c-1);
А, В, k - коэффициенты аппроксимации зависимости частоты ионизации рабочего газа, нормированной на плотность указанного газа, от параметра приведенного поля E/N:
νi/N = A(E/N)kexp[-B/(E/N)],
где Е - напряженность электрического поля (В/см);
νi - частота ионизации рабочего газа (с-1).
2. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1, отличающийся тем, что в качестве доминирующей газовой компоненты рабочего газа используют ксенон.
3. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 2, отличающийся тем, что выражение для геометрического места точек, вблизи которого находится нижняя граница области рабочих частот высокочастотного поддерживающего напряжения, имеет вид:
L1N= 2,2{ 1023[(FbL1)-1,25] } ехр{ 1,8[106/FbL1)] } .
L1N= 2,2{ 1023[(FbL1)-1,25] } ехр{ 1,8[106/FbL1)] } .
4. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или по п. 2, или 3, отличающийся тем, что рабочую частоту высокочастотного поддерживающего напряжения устанавливают вблизи упомянутой нижней границы области значений рабочих частот.
5. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или по п. 2, или 3, или 4, отличающийся тем, что поджигающие импульсы напряжения подают на основные электроды.
6. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 5, отличающийся тем, что поджигающие импульсы напряжения формируют в виде видеоимпульсов, амплитуда которых превышает критическое напряжение на электродах ячейки, при котором частота νi ионизации газа в ячейке определяется соотношением:
νi≥νi0,
где νi0 = (Ve/L1)ln(1+1/γ);
Ve - скорость дрейфа электронов (см/с);
γ - коэффициент вторичной ионизации.
νi≥νi0,
где νi0 = (Ve/L1)ln(1+1/γ);
Ve - скорость дрейфа электронов (см/с);
γ - коэффициент вторичной ионизации.
При этом длительность τ1 видеоимпульсов определяется соотношением:
τ1 ≅ (μe/μi)[ln(Ne/No)/(νi-νi0),
где μi - подвижность ионов (В-1см2c-1);
Ne - заданная концентрация электронов в ячейке в рабочем режиме (см-3);
No - начальная концентрация электронов в ячейке (см-3).
τ1 ≅ (μe/μi)[ln(Ne/No)/(νi-νi0),
где μi - подвижность ионов (В-1см2c-1);
Ne - заданная концентрация электронов в ячейке в рабочем режиме (см-3);
No - начальная концентрация электронов в ячейке (см-3).
7. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 5, отличающийся тем, что поджигающие импульсы напряжения формируют в виде радиоимпульсов, амплитуда которых превышает пробойное напряжение ячейки, частота заполнения радиоимпульсов определяется условием поддержания амплитуды колебаний электронов в разряде меньшей разрядного промежутка, а их длительность τ2 определяется соотношением:
τ2>{1/(νi-νd)}ln(Ne/No)(c),
где νd - частота диффузионных потерь (с-1).
τ2>{1/(νi-νd)}ln(Ne/No)(c),
где νd - частота диффузионных потерь (с-1).
8. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или 2, или 3, или по п. 4, отличающийся тем, что поджигающие импульсы напряжения подают на дополнительные электроды, при этом амплитуда поджигающих импульсов напряжения превышает пробойное напряжение ячейки.
9. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или по п. 2, или 3, или 4, или 5, или 6, или 8, отличающийся тем, что поджигающие импульсы напряжения подают на ячейки дисплея избирательно.
10. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или 2, или 3, или 4, или 5, или 6, или 7, или по п. 8, отличающийся тем, что поджигающие импульсы напряжения подают на все ячейки дисплея одновременно.
11. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или 2, или 3, или 4, или 5, или 6, или 7, или 8, или 9, или 10, отличающийся тем, что гасящие импульсы напряжения подают на ячейки дисплея избирательно.
12. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или 2, или 3, или 4, или 5, или 6, или 7, или 8, или 9, или 10, или 11, отличающийся тем, что гасящие импульсы напряжения подают на основные электроды.
13. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 12, отличающийся тем, что амплитуда U1 и длительность t1 гасящих импульсов напряжения определяются соотношением:
U1 = [(L1)2/μit1]+Te,
где Те - характеристическая энергия электронов в разряде, эВ.
U1 = [(L1)2/μit1]+Te,
где Те - характеристическая энергия электронов в разряде, эВ.
14. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 1 или 2, или 3, или 4, или 5, или 6, или 7, или 8, или 9, или 10, или 11, отличающийся тем, что гасящие импульсы напряжения подают на дополнительные электроды.
15. Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем по п. 14, отличающийся тем, что амплитуда U2 и длительность t2 гасящих импульсов напряжения определяются соотношением:
U2 = [(L2)2/μit2]+Te,
где L2 - расстояние между дополнительными электродами.
U2 = [(L2)2/μit2]+Te,
где L2 - расстояние между дополнительными электродами.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2001103515/09A RU2200984C2 (ru) | 2001-02-08 | 2001-02-08 | Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем |
PCT/RU2002/000037 WO2002063597A2 (fr) | 2001-02-08 | 2002-02-07 | Procede pour commander un ecran a plasma haute frequence |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2001103515/09A RU2200984C2 (ru) | 2001-02-08 | 2001-02-08 | Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2001103515A true RU2001103515A (ru) | 2003-02-10 |
RU2200984C2 RU2200984C2 (ru) | 2003-03-20 |
Family
ID=20245742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2001103515/09A RU2200984C2 (ru) | 2001-02-08 | 2001-02-08 | Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2200984C2 (ru) |
WO (1) | WO2002063597A2 (ru) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR940002291B1 (ko) * | 1991-09-28 | 1994-03-21 | 삼성전관 주식회사 | 평판형 표시장치의 구동 방법 |
RU2117335C1 (ru) * | 1997-02-21 | 1998-08-10 | Николай Анатолиевич Богатов | Способ управления плазменным дисплеем переменного тока |
US6160531A (en) * | 1998-10-07 | 2000-12-12 | Acer Display Technology, Inc. | Low loss driving circuit for plasma display panel |
-
2001
- 2001-02-08 RU RU2001103515/09A patent/RU2200984C2/ru not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-02-07 WO PCT/RU2002/000037 patent/WO2002063597A2/ru not_active Application Discontinuation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5302881A (en) | High energy cathode device with elongated operating cycle time | |
JPH06256943A (ja) | 高インピーダンスプラズマイオン注入方法および装置 | |
JPH08279495A (ja) | プラズマ処理装置及びその方法 | |
JPS5913134B2 (ja) | 陰極線管の処理方法 | |
EP1697961B1 (en) | Method and apparatus for stabilizing a glow discharge plasma under atmospheric conditions | |
WO2005060321A3 (en) | Method and device for generating in particular euv radiation and/or soft x-ray radiation | |
JPS58155643A (ja) | グロー放電発生装置 | |
JP2003173757A (ja) | イオンビーム照射装置 | |
RU2003110016A (ru) | Высокочастотный источник электронов, в частности нейтрализатор | |
RU2001103515A (ru) | Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем | |
JP4484421B2 (ja) | プラズマ表面処理方法及び装置 | |
RU2200984C2 (ru) | Способ управления высокочастотным плазменным дисплеем | |
Kostyrya et al. | Formation of a volume discharge in air at atmospheric pressure upon application of nanosecond high-voltage pulses. | |
Schanin et al. | Plasma-emitter electron accelerators | |
RU97102660A (ru) | Способ управления плазменным дисплеем переменного тока | |
RU2746555C1 (ru) | Способ формирования больших объемов низкотемпературной замагниченной плазмы | |
JP2001511293A (ja) | プラズマ浸漬イオン注入用の変調器 | |
RU2117335C1 (ru) | Способ управления плазменным дисплеем переменного тока | |
RU1706329C (ru) | Способ формирования электронных пучков с помощью взрывоэмиссионной электронной пушки | |
Gushenets et al. | Submicrosecond pulsed electron beam formation in electron sources and accelerators with plasma emitters | |
Borisov et al. | Efficient preionisation in XeCl lasers | |
JPH0992199A (ja) | イオンビーム発生方法およびその装置 | |
RU2144723C1 (ru) | Импульсно-периодический электроразрядный лазер | |
RU2383079C1 (ru) | Способ получения электронного пучка и устройство для его осуществления (варианты) | |
SU748606A2 (ru) | Трехэлектродный разр дник |