RU198976U1 - REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT - Google Patents
REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT Download PDFInfo
- Publication number
- RU198976U1 RU198976U1 RU2020109637U RU2020109637U RU198976U1 RU 198976 U1 RU198976 U1 RU 198976U1 RU 2020109637 U RU2020109637 U RU 2020109637U RU 2020109637 U RU2020109637 U RU 2020109637U RU 198976 U1 RU198976 U1 RU 198976U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- samples
- base
- substrate holder
- cells
- substrates
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Съемный контейнер для подложкодержателя установки вакуумного напыления относится к элементам внутрикамерных устройств и может быть использован при нанесении металлических и полупроводниковых пленок для покрытия деталей, применяемых в изделиях электронной, приборостроительной и оптической промышленностей. Устройство позволяет увеличивать количество образцов без механического вмешательства в «тело» образца.Техническим результатом полезной модели является рост производительности и качества напыляемых образцов, который достигается тем, что в съемном контейнере для подложкодержателя установки вакуумного напыления, состоящем из основания с ячейками для образцов и системы фиксации, новым является то, что содержит кольцо фиксации подложек по внешнему краю и шайбу для крепления по внутреннему, при этом ячейки для расположения образцов выполнены в теле основания в виде двухуровневого углубления, нижний уровень которого по размерам меньше верхнего.Съемный контейнер для подложкодержателя установки вакуумного напыления позволяет максимально быстро производить загрузку-выгрузку образцов, сокращая время их пребывания на воздухе, что значительно повышает качество получаемых материалов, а простота конструкции способствует росту производительности процесса напыления.The removable container for the substrate holder of the vacuum deposition unit belongs to the elements of in-chamber devices and can be used when applying metal and semiconductor films to cover parts used in products of the electronic, instrument-making and optical industries. The device allows you to increase the number of samples without mechanical interference in the sample "body". The technical result of the utility model is an increase in the productivity and quality of the sprayed samples, which is achieved by the fact that in a removable container for the substrate holder of a vacuum deposition unit, consisting of a base with cells for samples and a fixation system , new is that it contains a ring for fixing the substrates along the outer edge and a washer for fastening along the inner, while the cells for positioning the samples are made in the body of the base in the form of a two-level depression, the lower level of which is smaller in size than the upper one. allows for the fastest loading and unloading of samples, reducing the time of their stay in air, which significantly improves the quality of the materials obtained, and the simplicity of the design contributes to an increase in the productivity of the spraying process.
Description
Полезная модель относится к элементам внутрикамерных устройств установок вакуумного напыления и может быть использована при нанесении металлических и полупроводниковых пленок для покрытия деталей, применяемых в изделиях электронной, приборостроительной и оптической промышленностей. Устройство позволяет увеличивать количество образцов без механического вмешательства в «тело» образца.The utility model refers to the elements of in-chamber devices for vacuum deposition installations and can be used in the deposition of metal and semiconductor films to cover parts used in products of the electronic, instrument-making and optical industries. The device allows you to increase the number of samples without mechanical interference in the "body" of the sample.
Известна установка вакуумного напыления УВН-2М-2 серийного производства, содержащая вакуумную камеру, вращающийся подложкодержатель карусельного типа, съемные контейнеры для размещения и фиксации подложек, а также тигли с распыляемым материалом [http://www.mosep.ru/ru/news/branch/285.html].Known installation vacuum deposition UVN-2M-2 serial production, containing a vacuum chamber, a rotating carousel-type substrate holder, removable containers for placing and fixing the substrates, as well as crucibles with sprayed material [http://www.mosep.ru/ru/news/ branch / 285.html].
Недостатками указанного устройства являются громоздкость системы вращения, наличие погрешности в позиционировании системы тигль - подложка, крупный размер подложек и поочередность напыления образцов. Крупный размер подложки влечет за собой наличие неоднородностей (толщина, структура, текстура) по всей площади образца, а поочередное прохождение подложкой места распыления материала, приведет к формированию слоистой структуры образцов.The disadvantages of this device are the cumbersomeness of the rotation system, the presence of an error in the positioning of the crucible-substrate system, the large size of the substrates, and the sequence of sputtering of samples. The large size of the substrate entails the presence of inhomogeneities (thickness, structure, texture) over the entire area of the sample, and the alternate passage of the substrate by the place of material spraying will lead to the formation of a layered structure of the samples.
Известен многоместный держатель подложек [RU 417542, опубл. 28.11.1974], представляющий собой основание, служащее для размещения подложек, и систему фиксации.Known multi-seat substrate holder [RU 417542, publ. 11/28/1974], which is a base serving to accommodate substrates, and a fixation system.
Недостатками указанного устройства является наличие вытянутой формы (прямоугольник), что приводит к неоднородности получаемых образцов, приготовленных даже в едином технологическом цикле, поскольку подложки находятся на разном удалении от центра подложкодержателя и имеют неодинаковые условия формирования образцов.The disadvantages of this device is the presence of an elongated shape (rectangle), which leads to inhomogeneity of the obtained samples, prepared even in a single technological cycle, since the substrates are at different distances from the center of the substrate holder and have different conditions for the formation of samples.
Известна полезная модель подложкодержателя для вакуумного напыления [RU 173825, опубл. 13.09.2017], позволяющая получать токопроводящие покрытия с различным секторальным формированием токопроводящих слоев.Known useful model of a substrate holder for vacuum deposition [RU 173825, publ. 09/13/2017], which makes it possible to obtain conductive coatings with different sectoral formation of conductive layers.
Недостатками данного подложкодержателя являются отсутствие удерживающих подложку механизмов, напыление в одном технологическом цикле только одного образца, что не позволяет иметь хорошую повторяемость для серии.The disadvantages of this substrate holder are the absence of mechanisms that hold the substrate, the deposition in one technological cycle of only one sample, which does not allow for good repeatability for a batch.
Известен подложкодержатель [US 5703493, опубл. 30.12.1997], пригодный для получения тонкопленочных покрытий на подложках различных размеров и конфигураций пленок.Known substrate holder [US 5703493, publ. 12/30/1997], suitable for obtaining thin-film coatings on substrates of various sizes and configurations of films.
Недостатками данного подложкодержателя является отсутствие удерживающего подложку устройства, а также невозможность использовать в едином технологическом цикле нескольких подложек.The disadvantages of this substrate holder are the absence of a device holding the substrate, as well as the impossibility of using several substrates in a single technological cycle.
Наиболее близким техническим решением является подложкодержатель (wafer holder) [US 10290524, опубл. 14.05.2019], в котором предложена вставка, рассчитанная на четыре подложки, со сложной системой фиксации подложек.The closest technical solution is wafer holder [US 10290524, publ. 05/14/2019], which offers an insert designed for four substrates with a complex system for fixing the substrates.
Недостатками указанного устройства является большое количество элементов, из которых состоит крепежный механизм, что требует существенных временных затрат на сборку и разборку механизма при перезагрузке подложек и увеличивает время пребывании образца на открытом воздухе, что сказывается на качестве образцов.The disadvantages of this device are the large number of elements that make up the fastening mechanism, which requires significant time spent on assembling and disassembling the mechanism when reloading the substrates and increases the residence time of the sample in the open air, which affects the quality of the samples.
Техническим результатом заявляемой полезной модели является рост производительности и качества напыляемых образцов.The technical result of the claimed utility model is an increase in productivity and quality of sprayed samples.
Данный технический результат достигается тем, что в съемном контейнере для подложкодержателя установки вакуумного напыления, состоящем из основания с ячейками для образцов и системы фиксации, новым является то, что содержит кольцо фиксации подложек по внешнему краю и шайбу для крепления по внутреннему, при этом ячейки для расположения образцов выполнены в теле основания в виде двухуровневого углубления, нижний уровень которого по размерам меньше верхнего.This technical result is achieved by the fact that in a removable container for a substrate holder of a vacuum deposition unit, consisting of a base with cells for samples and a fixation system, it is new that it contains a ring for fixing the substrates along the outer edge and a washer for fixing along the inner, while cells for the locations of the samples are made in the body of the base in the form of a two-level depression, the lower level of which is smaller in size than the upper one.
Заявляемый съемный контейнер для подложкодержателя установки вакуумного напыления, состоящий из основания с ячейками для размещения подложек, которые при помощи двух специальных колец и винтов четко фиксируются на нем. Необходимо отметить, что загрузка подложек и выгрузка образцов не представляет большого труда ввиду простоты заявляемой конструкции. Для процесса перезагрузки подложек достаточно выкрутить центральный винт и снять центральную шайбу, при этом не обязательно снимать внешнее прижимное кольцо, поскольку образцы хорошо вынимаются из ячеек, не имея деформаций или каких-либо других повреждений, удерживаемые только в одной точке. Сокращение времени пребывания подложек на открытом воздухе уменьшает «загрязнение» их поверхности, что является важным фактором в обеспечении качества наносимых пленок.The claimed removable container for the substrate holder of the vacuum deposition unit, consisting of a base with cells for accommodating the substrates, which are clearly fixed on it using two special rings and screws. It should be noted that loading of substrates and unloading of samples is not difficult due to the simplicity of the claimed design. For the process of reloading the substrates, it is enough to unscrew the central screw and remove the central washer, while it is not necessary to remove the outer clamping ring, since the samples are easily removed from the cells without deformations or any other damage, held only at one point. Reducing substrate exposure time reduces surface contamination, which is an important factor in ensuring the quality of the applied films.
Таким образом, перечисленные выше отличительные от прототипа признаки позволяют сделать вывод о соответствии заявляемого технического решения критерию «новизна». Признаки, отличающие заявляемое техническое решение от прототипа, не выявлены в других технических решениях и, следовательно, обеспечивают заявляемому решению соответствие критерию «изобретательский уровень».Thus, the above-listed features distinguishing from the prototype make it possible to conclude that the proposed technical solution meets the “novelty” criterion. The features that distinguish the claimed technical solution from the prototype are not identified in other technical solutions and, therefore, ensure compliance with the "inventive step" criterion for the claimed solution.
Съемный контейнер для подложкодержателя установки вакуумного напыления поясняется следующими фигурами:The removable container for the substrate holder of the vacuum deposition unit is illustrated by the following figures:
фиг. 1 - «Основание съемного контейнера для подложкодержателя установки вакуумного напыления»;fig. 1 - “Base of a removable container for a substrate holder of a vacuum deposition unit”;
фиг. 2 - «Кольцо фиксации контейнера по внешнему краю»;fig. 2 - "Ring for fixing the container along the outer edge";
фиг. 3 - «Шайба фиксации контейнера по внутреннему краю»;fig. 3 - "Washer for fixing the container along the inner edge";
фиг. 4 - «Пример базового подложкодержателя»;fig. 4 - "An example of a basic substrate holder";
фиг. 5 - «Съемный контейнер в сборке, установленный в базовый подложкодержатель (вид сверху)».fig. 5 - "Removable container in the assembly, installed in the base substrate holder (top view)".
Съемный контейнер для подложкодержателя установки вакуумного напыления изготавливается из нержавеющей и немагнитной стали и состоит из основания 1 с ячейками 2, кольца фиксации подложек по внешнему краю 3 и крепежной шайбы 4 для фиксации по внутреннему краю. В основании контейнера имеется пять отверстий с резьбой для винтов: четыре отверстия 5а для крепления кольца фиксации и одно 5б для шайбы. Кольцо фиксации и крепежная шайба содержат совмещаемые с отверстиями основания отверстия 6а и 6б, служащие для фиксации составных частей контейнера.The removable container for the substrate holder of the vacuum deposition unit is made of stainless and non-magnetic steel and consists of a
Пример конкретного выполнения съемного контейнера для подложкодержателя установки вакуумного напыления представлен ниже.An example of a specific implementation of a removable container for a substrate holder of a vacuum deposition unit is presented below.
Основание 1 контейнера (фиг. 1) представляет собой цилиндр ∅ 76,5 мм и высотой 0,9 мм. Основание имеет 4 ячейки 2, размещенных диаметрально противоположно друг другу. При рассмотрении сверху, одна из двух диагоналей ячейки 2 совпадает с диагональю основания 1 контейнера. Это же условие распространяется на все ячейки 2 по диагоналям. Ячейка 2 выполнена в теле основания 1 в виде двухуровневого углубления и представляет собой фигуру, полученную путем совмещения двух подобных параллелепипедов, в основаниях которых лежат квадраты со сторонами 18,1×18,1 и высотой 0,7 мм и 16×16 мм и высотой 0,2 мм соответственно. Причем больший параллелепипед расположен у верхнего основания цилиндра контейнера, меньший - у нижнего. Таким образом, получается окно ячейки размером 16×16 мм в нижнем основании контейнера, через которое и происходит осаждение распыляемого материала на подложки. Больший параллелепипед с размерами 18,1×18,1 и глубиной 0,7 мм, соответствует геометрическим размерам помещаемых внутрь подложек, которые в дальнейшем предполагается использовать. Такая конструкция ячеек не позволяет подложкам смещаться в плоскости внутри контейнера. Для обеспечения фиксации подложек в основании контейнера используют крепежное кольцо 3 (фиг. 2) и крепежную шайбу 4 (фиг. 3).The
Крепежное кольцо 3 (фиг. 2) фиксирует все подложки по внешнему краю. Толщина кольца 0,9 мм, внутренний диаметр ∅ 62,4 мм, а внешний ∅ 76,5 мм, чтобы не выступать за границы основания контейнера 1.The fastening ring 3 (Fig. 2) fixes all substrates along the outer edge. The ring thickness is 0.9 mm, the inner diameter ∅ 62.4 mm, and the outer ∅ 76.5 mm, so as not to protrude beyond the boundaries of the
Крепежная шайба 4 (фиг. 3) ∅ 19 мм и толщиной 0,9 мм обеспечивает фиксацию подложек в ячейках по малому диаметру, прикрывая внутренние края подложек.Fastening washer 4 (Fig. 3) ∅ 19 mm and 0.9 mm thick provides fixation of the substrates in the cells along a small diameter, covering the inner edges of the substrates.
Все части контейнера фиксируются при помощи винтов, закрепляемых в отверстиях 5а и 5б в основании контейнера, совмещаемых с отверстиями 6а и 6б на крепежном кольце и шайбе соответственно.All parts of the container are fixed with screws fixed in the
Полезная модель работает следующим образом.The utility model works as follows.
Перед началом работы, из загрузочной камеры установки вынимается съемный контейнер для подложкодержателя, который разбирается на составные части. Затем в ячейки 2 помещаются заранее подготовленные подложки в необходимом количестве. Если количество используемых подложек меньше четырех, то оставшиеся незаполненные ячейки 2 необходимо закрыть другими неиспользуемыми в дальнейшей работе подложками (например, покровными стеклами), которые будут играть роль заглушек в процессе синтеза образцов.Before starting work, a removable container for a substrate holder is removed from the loading chamber of the installation, which is disassembled into its component parts. Then in
Для фиксации подложек в ячейках на основание контейнера 1 кладут крепежное кольцо 3 и закрепляют четырьмя винтами, при этом в центр основания контейнера 1 помещают шайбу 4 и фиксируют ее еще одним винтом. После того, как контейнер укомплектован подложками и полностью собран, его помещают в базовый подложкодержатель 7 установки (фиг. 4).To fix the substrates in the cells, a
В таком виде (фиг. 5) подложкодержатель отправляется в загрузочную камеру установки для дальнейших манипуляций. После окончания процесса синтеза пленок съемный контейнер для подложкодержателя вынимается, выкручиваются винты, снимаются крепежное кольцо 3 и шайба 4, подложки - образцы вынимаются из ячеек 2.In this form (Fig. 5), the substrate holder is sent to the loading chamber of the installation for further manipulations. After the end of the film synthesis process, the removable container for the substrate holder is removed, the screws are unscrewed, the
Таким образом, заявляемая полезная модель позволяет максимально быстро производить загрузку-выгрузку образцов, сокращая время их пребывания на воздухе, что значительно повышает качество получаемых материалов, а простота конструкции способствует росту производительности процесса напыления.Thus, the claimed utility model allows for the fastest possible loading and unloading of samples, reducing the time of their stay in air, which significantly improves the quality of the materials obtained, and the simplicity of the design contributes to an increase in the productivity of the spraying process.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2020109637U RU198976U1 (en) | 2020-03-04 | 2020-03-04 | REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2020109637U RU198976U1 (en) | 2020-03-04 | 2020-03-04 | REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU198976U1 true RU198976U1 (en) | 2020-08-05 |
Family
ID=71950298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2020109637U RU198976U1 (en) | 2020-03-04 | 2020-03-04 | REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU198976U1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2794157C1 (en) * | 2022-07-19 | 2023-04-12 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет" | Rotatable substrate container with a mask for forming thin films of various configurations |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU417542A1 (en) * | 1972-01-06 | 1974-02-28 | ||
US5703493A (en) * | 1995-10-25 | 1997-12-30 | Motorola, Inc. | Wafer holder for semiconductor applications |
RU2380786C1 (en) * | 2008-11-18 | 2010-01-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Федеральный научно-производственный центр по радиоэлектронным системам и информационным технологиям имени В.И. Шимко" (ФГУП "Федеральный НПЦ "Радиоэлектроника" им. В.И. Шимко") | Device for plate fastening |
RU173825U1 (en) * | 2017-03-17 | 2017-09-13 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Ростовский-на-Дону научно-исследовательский институт радиосвязи" (ФГУП "РНИИРС") | Substrate for vacuum deposition with sectoral formation of a conductive layer around the periphery of the semiconductor wafer in the manufacture of microwave monolithic integrated circuits |
US10290524B2 (en) * | 2016-01-15 | 2019-05-14 | III-V Components | Multi-wafer substrate holder with adjustable infrared radiation absorbing zones |
-
2020
- 2020-03-04 RU RU2020109637U patent/RU198976U1/en active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU417542A1 (en) * | 1972-01-06 | 1974-02-28 | ||
US5703493A (en) * | 1995-10-25 | 1997-12-30 | Motorola, Inc. | Wafer holder for semiconductor applications |
RU2380786C1 (en) * | 2008-11-18 | 2010-01-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Федеральный научно-производственный центр по радиоэлектронным системам и информационным технологиям имени В.И. Шимко" (ФГУП "Федеральный НПЦ "Радиоэлектроника" им. В.И. Шимко") | Device for plate fastening |
US10290524B2 (en) * | 2016-01-15 | 2019-05-14 | III-V Components | Multi-wafer substrate holder with adjustable infrared radiation absorbing zones |
RU173825U1 (en) * | 2017-03-17 | 2017-09-13 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Ростовский-на-Дону научно-исследовательский институт радиосвязи" (ФГУП "РНИИРС") | Substrate for vacuum deposition with sectoral formation of a conductive layer around the periphery of the semiconductor wafer in the manufacture of microwave monolithic integrated circuits |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2794157C1 (en) * | 2022-07-19 | 2023-04-12 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет" | Rotatable substrate container with a mask for forming thin films of various configurations |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3889632A (en) | Variable incidence drive for deposition tooling | |
CN101750639B (en) | Optical coating device | |
RU198976U1 (en) | REMOVABLE CONTAINER FOR VACUUM SPRAYING UNIT SUPPORT | |
US3643625A (en) | Thin-film deposition apparatus | |
CN211284525U (en) | Vacuum device for applying thin film coatings | |
US3417733A (en) | Apparatus for vacuum coating | |
CN111540696A (en) | Leaf type vacuum thin film deposition equipment suitable for preparation of silicon heterojunction solar cell and application thereof | |
US3352282A (en) | Vacuum deposit device including means to register and manipulate mask and substrate elements | |
WO2021128972A1 (en) | Target holder assembly of ion probe, and sample target preparation method | |
CN1822345A (en) | Eliminating systematic process yield loss via precision wafer placement alignment | |
CN108950510A (en) | Deposition ring and Pvd equipment for physical vapour deposition (PVD) | |
US6576065B1 (en) | Installation and method for chemical treatment of microelectronics wafers | |
RU2794157C1 (en) | Rotatable substrate container with a mask for forming thin films of various configurations | |
CN108396301A (en) | A kind of coating clamp for ultra-thin glass plated film | |
CN211921677U (en) | Lens coating film manufacturing tool | |
US4478701A (en) | Target support adjusting fixture | |
CN208667840U (en) | Deposition ring and Pvd equipment for physical vapour deposition (PVD) | |
JP2002033283A (en) | Combinatorial device manufacturing equipment | |
CN2583111Y (en) | Selective film-coating device | |
TWI414616B (en) | Device for optical coating | |
CN214797445U (en) | Chemical water bath deposition CIGS solar cell buffer layer preparation device | |
CN2861180Y (en) | Sphere radiation local coating device | |
CN218710815U (en) | Vertical face type annular wafer film coating jig | |
JPH03124028A (en) | Cleaning device | |
CN216404512U (en) | Carrier for coating film and coating equipment |