RU1825816C

RU1825816C - Состав дл очистки поверхности диэлектрика

Info

Publication number: RU1825816C
Application number: SU914906973A
Authority: RU
Inventors: Надежда Петровна Космодемьянская; Ирина Григорьевна Щурова; Лия Азриэльевна Аранович
Original assignee: Ярославское научно-производственное объединение "Электронприбор"
Priority date: 1991-02-04
Filing date: 1991-02-04
Publication date: 1993-07-07

Abstract

Сущность изобретени : состав дл очистки поверхности диэлектрика содержит полирксизтиленглкколевые эфиры синтетических первичных жирных спиртов фракции 0,15-0,65%, полиоксиэти- ленгликолевые эфиры синтетических первичных жирных спиртов фракции Ci2-Ci-$ 0,15-0,65%, гексзметафосфат или триполи- фосфаг натри 0,45-0,65%. натриевое жидкое стекло 0,55-1,50% и воду до 100%. 1 табл.

Description

Изобретение относитс к средствам дл очистки поверхности диэлектрика (стекла, ситалла и поликора) и может быть использовано при производстве гибридных интегральных схем.

Цель изобретени - повышение качества очистки.

Поставленна цель достигаетс тем, что в известном составе дл очистки поверхности диэлектрика, содержащем поверхностно-активноевещество , фосфорсодержащую добавку и воду, состав содержит в качестве поверхностно-активного вещества смесь полиоксиэтиленгликолевых эфиров синтетических первичных жирных спиртов фракций Cig-Cao и фракции Ci2-Ci4, в качестве фосфорсодержащей добавки он содержит гексаметафосфат или триполифосфат натри и дополнительно состав содержит натриевое жидкое стекло при следующем соотношении компонентов, мас.%:

Полиоксиэтилен- глйколеаые зфиры синтетических первичных жирных спиртов фракции Cie-C20 (Синтанол АЦСЭ-12) Полиоксиэтилеи- гликолевые зфиры синтетических первичных жирных спиртов фракции Crz-Ci4 (Синтанол АЛМ-10)

Гексаметафосфзт или триполифосфат натри

Натриевое жидкое стекло Вода

сл

с

0,15-0,65

0,45-0,65

0,55-1,50 Остальное

ю

Изобретение иллюстрируетс следующими примерами.

Пример 1. В дистиллированной воде готов т раствор смеси Синтанола АЦСЭ-12, Синтанола АЛМ-10, гексаметафосфата натри и натриевого жидкого стекла с концентраци ми , мас.%: 0,15; 0,15; 0,45; 0,55 соответственно. Приготовленный раствор (обьем 2 л) заливают в реакционную камеру установки ПВХОТС-60-1 и нагревают до температуры 55°С. Установленные в кассету поликоровые подложки погружают в моющий раствор м обрабатывают в течение 12 мин с использованием вибрации.

После обработки в моющем составе подложки промывают в токе дистиллированной воды в течение 1,5-2 мин, провер ют на качество очистки поверхности по степе- жч смачивани водой без образовани капель , сушат на центрифуге при скорости вращени ротора 3000 об/мин, и далее подложки поступают на вакуумное напыление структуры V-A, затем провод т фотолитографию и проверку на качество сварки и адгезии напыленного контактного сло к подложке.

Аналогично была проведена очистка стекл нных и ситалловых подложек.

Показатели качества очистки стекл нных , ситалловых и поликоровых подложек приведены в таблице.

Пример 2. В дистиллированной воде готов т раствор смеем Синтанола АЦСЭ-12, Синтанола АЛМ-10, гексаметафосфата натри и натриевого жидкого стекла с концентраци ми , мас.%: 0,35; 0.35; 0,55; 1,00 соответственно. Приготовленный раствор (объем 2 л) заливают в реакционную камеру установки ПВХОТС-60-1 и нагревают до температуры 50°С.

Установленные в кассету поликоровые подложки погружают в моющий раствор и обрабатывают в течение 15 мин с использованием вибрации. Далее провод т операции по примеру 1.

Пример 3. В дистиллированной воде готов т раствор смеси Синтанола АЦСЭ-12, Синтанола АЛМ-10, гексаметафосфата натри и натриевого жидкого стекла с концентраци ми . мас.%: 0,65; 0,65; 0,65; 1,50 соответственно, Приготовленный растаор (объемом 2 л) заливают в реакционную камеру установки ПВХОТС-60-1 и нагревают до температуры 60°С. Установленные в кассету поликоровые подложки погружают в мо ющий раствор и обрабатывают в течение 10 мин с использованием вибрации. Далее провод т операции по примеру 1.

Аналогично была проведена очистка си- талловых и стекл нных подложек.

Было проделано еще 3 идентичных при- 0 мера, отличающиес от предыдущих лишь тем, что вместо гексаметафосфата натри использовали триполифосфат натри .

Очистку подложек в составе по прототипу проводили также с использованием виб- 5 рации.

Claims

Предлагаемый состав обеспечивает высокую эффективность процесса очистки. Он полностью снимает с поверхности диэлектрика (стекла, ситзлла, поликора) органиче- 0 ские, минеральные и механические загр знени , не вносит дополнительных загр знений . Как видно из таблицы, состав обеспечивает полную смачиваемость водой очищенных пластин и высокую адгезию на- 5 несенных на них контактных слоев. Биологическа разлагаемость раствора составл ет 90%. Выход годных подложек, отмытых в за вл емом составе, составл ет 98-100%, в составе по прототипу - 25-85%. 0 Формула изобретени

Состав дл очистки поверхности диэлектрика , содержащий поверхностно-активное вещество, фосфорсодержащую добавку и воду, отличающийс тем, что, с целью 5 повышени качества очистки, состав содержит в качестве поверхностно-активного вещества смесь полиоксиэтиленгликолевых эфирое синтетических первичных жирных спиртов фракции Cie-C20 и фракции Ci2-Ci4, 0 в качестве фосфорсодержащей добавки он содержит гексаметафосфат или триполифосфат натри и дополнительно состав содержит натриевое жидкое стекло при следующем соотношении компонентов, 5 мас.%:

Полиоксиэтиленгликолевые эфиры

синтетических первичных жирных 0 спиртов фракции Cie-Czo0,150,65

Полиоксиэтиленгликолевые зфиры

синтетических первичных жирных 5 спиртов фракции Ci2-Ci40,15-0,65

Гексаметафосфат

или триполифосфат

натри 0,450,65

Натриевое жидкое стекло0,55-1,50

ВодаДо 100

Алкиларилсульфокислота - 3

Алкиларилсульфонат натри - 0,75 Хромат цинка - 0,75 Уротропин - 0,75 Глицерин - А,00 Вода - 77,75