RU179496U1 - Установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления - Google Patents
Установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления Download PDFInfo
- Publication number
- RU179496U1 RU179496U1 RU2017106237U RU2017106237U RU179496U1 RU 179496 U1 RU179496 U1 RU 179496U1 RU 2017106237 U RU2017106237 U RU 2017106237U RU 2017106237 U RU2017106237 U RU 2017106237U RU 179496 U1 RU179496 U1 RU 179496U1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- mpc
- magnetron sputtering
- pulse
- interlayer adhesion
- installation
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000009434 installation Methods 0.000 title claims description 17
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 title abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 5
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000010835 comparative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Полезная модель относится к области нанесения покрытий методом магнетронного распыления и может найти свое применение в различных отраслях промышленности для получения многослойных тонкопленочных структур различного назначения с повышенной межслойной адгезией и, следовательно, повышенной надежностью. Техническим результатом полезной модели является повышение межслойной адгезии в многослойных покрытиях за счет того, что в состав стандартной установки магнетронного распыления дополнительно вводится устройство, связно управляющее во времени работой двух импульсных блоков питания соответствующих магнетронных распылительных систем (МРС) таким образом, что в процессе получения многослойного покрытия на подложке формируется сначала нижний слой из первого материала, затем управляемый переходный субслой, представляющий собой твердый раствор из материалов нижнего и верхнего слоев, такой, что концентрация материала первого слоя изменяется от 100% до 0%, а концентрация материала второго слоя, соответственно, от 0% до 100%, и затем формируется верхний слой из второго материала.
Description
Полезная модель относится к области нанесения покрытий методом магнетронного распыления и может найти свое применение в различных отраслях промышленности для получения многослойных тонкопленочных структур различного назначения с повышенной межслойной адгезией и, следовательно, повышенной надежностью.
Одной из наиболее известных и широко используемых в настоящее время промышленных установок для нанесения многослойных покрытий является установка НТС 1000-4 ABS [1]. Установка содержит вакуумную камеру, в центре которой находится карусельное устройство с планетарным механизмом для размещения изделий-подложек. Снаружи карусельного устройства параллельно и симметрично оси его вращения размещены четыре прямоугольные магнетронные распылительные системы (МРС), снаряженные мишенями, выполненными из различных материалов, в зависимости от строения получаемого многослойного покрытия. Распыление мишеней выполняется в смешанной атмосфере N2 и Ar в режиме управления давлением. Многослойная структура покрытий достигается посредством последовательного облучения покрываемых поверхностей изделий-подложек потоками атомов, испускаемых из четырех катодов-мишеней. В зависимости от предварительно выбранной мощности, подаваемой на мишени от системы электропитания МРС, парциального давления реактивного газа, обеспечиваемого системой напуска и контроля рабочих газов и заданной скорости вращения карусельного устройства, наносятся покрытия с определенным периодом.
Основным недостатком вышеописанной установки является то, что при перемещении изделий-подложек от одной магнетронной системы к другой они быстро проходят переходную зону, в которой происходит пересечение потоков атомов, распыляемых с соседних мишеней, в результате чего между слоями периодического многослойного покрытия образуется очень тонкий смесевой переходный субслой, который не позволяет эффективно увеличить межслойную адгезию соседних слоев пленок друг к другу из-за недостатка толщины этого переходного субслоя, нивелирующего температурные коэффициенты линейного расширения (ТКЛР) материалов соседних слоев, и невозможности оперативного управления изменением градиента состава субслоя и его толщиной.
Наиболее близким техническим решением является известная установка для нанесения многослойных покрытий, описанная в [2], которая выбрана в качестве прототипа. Установка содержит вакуумную камеру, в центре которой расположено карусельное устройство для размещения изделий-подложек, две МРС, выполненные на постоянных магнитах, размещенные симметрично оси вращения карусельного устройства и снаряженные различными по составу мишенями, систему электропитания МРС в виде двух импульсных блоков питания с устройствами дугогашения, импульсный источник отрицательного напряжения смещения с устройством дугогашения и устройством синхронизации, систему напуска и контроля давления рабочих газов.
В этой установке невозможно оперативно управлять изменением градиента состава переходного смесевого субслоя и его толщиной из-за отсутствия в данной установке устройства, связно управляющего работой двух импульсных блоков питания, соответствующих МРС, из-за чего межслойная адгезия тонких пленок в готовом изделии определяется лишь взаимодействием материалов соседних слоев и не может быть управляемо повышена.
Техническим результатом полезной модели является повышение межслойной адгезии в многослойных покрытиях.
Технический результат достигается тем, что установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления, содержащая вакуумную камеру, в центре которой расположено карусельное устройство для размещения изделий-подложек, по меньшей мере две прямоугольные магнетронные распылительные системы (МРС), выполненные на постоянных магнитах, размещенные зеркально-симметрично друг другу, и параллельно оси вращения карусельного устройства и снаряженные различными по составу мишенями, систему напуска и контроля давления рабочих газов, систему электропитания МРС, соединенную с МРС, и источник отрицательного относительно плазмы напряжения смещения для вышеупомянутых изделий, соединенный с карусельным устройством и системой электропитания МРС, выполненные импульсными и снабженные устройствами дугогашения, а источник отрицательного относительно плазмы напряжения смещения, снабженный устройством синхронизации работы системы электропитания МРС, согласно полезной модели в состав установки дополнительно вводится устройство, связно управляющее во времени работой двух импульсных блоков питания соответствующих МРС таким образом, что в процессе получения многослойного покрытия на подложке формируется сначала нижний слой из первого материала, затем управляемый переходный субслой, представляющий собой твердый раствор из материалов нижнего и верхнего слоев, такой, что концентрация материала первого слоя изменяется от 100% до 0%, а концентрация материала второго слоя, соответственно, от 0% до 100%, и затем формируется верхний слой из второго материала.
За счет того, что в состав стандартной установки магнетронного распыления дополнительно вводится устройство, связно управляющее во времени работой двух импульсных блоков питания соответствующих МРС таким образом, что в процессе получения многослойного покрытия на подложке формируется сначала нижний слой из первого материала, затем управляемый переходный субслой, представляющий собой твердый раствор из материалов нижнего и верхнего слоев, такой, что концентрация материала первого слоя изменяется от 100% до 0%, а концентрация материала второго слоя, соответственно, от 0% до 100%, и затем формируется верхний слой из второго материала.
Сопоставительный анализ заявляемого решения с прототипом показывает, что заявленная установка отличается от прототипа тем, что в состав установки вводится устройство, связно управляющее во времени работой двух импульсных блоков питания соответствующих МРС таким образом, что в процессе получения многослойного покрытия на подложке формируется сначала нижний слой из первого материала, затем управляемый переходный субслой, представляющий собой твердый раствор из материалов нижнего и верхнего слоев, такой, что концентрация материала первого слоя изменяется от 100% до 0%, а концентрация материала второго слоя, соответственно, от 0% до 100%, и затем формируется верхний слой из второго материала. Таким образом, заявленная установка соответствует критерию полезной модели «новизна».
Сравнение заявленного технического решения с другими техническими решениями в данной области показало, что установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления, позволяющая в процессе получения многослойного покрытия на подложке формировать сначала нижний слой из первого материала, затем управляемый переходный субслой, представляющий собой твердый раствор из материалов нижнего и верхнего слоев, такой, что концентрация материала первого слоя изменяется от 100% до 0%, а концентрация материала второго слоя, соответственно, от 0% до 100%, и затем формировать верхний слой из второго материала, неизвестна. Кроме того, совокупность существенных признаков вместе с ограничительным позволяет обнаружить у заявляемого решения иные, в отличие от известных свойства, к числу которых можно отнести следующие:
- возможность в процессе распыления управляемо регулировать толщину переходного субслоя;
- возможность в процессе распыления управляемо регулировать изменение градиента состава переходного субслоя, в котором концентрация материала первого слоя изменяется от 100% до 0%, а концентрация материала второго слоя, соответственно, от 0% до 100%;
- возможность оптимального подбора толщины и изменения градиента состава переходного субслоя, соответствующих максимальной межслойной адгезии слоев в многослойном покрытии.
Таким образом, иные в отличие от известных, свойства, присущие предложенному техническому решению, доказывают наличие существенных отличий, направленных на достижение технического результата.
Промышленная применимость предложенного технического решения наглядно продемонстрирована изложенным ниже примером.
На фиг. 1 изображена схема установки с двумя МРС, выполненной согласно данной полезной модели, на фиг. 2 - структурная схема устройства, связно управляющего блоками питания МРС.
Установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления, изображенная на фиг. 1, содержит вакуумную камеру 1, карусельное устройство 2 с осью вращения О для размещения изделий-подложек, две МРС 3, систему электропитания МРС в виде двух импульсных блоков питания 4 с устройствами дугогашения 5, импульсный источник отрицательного напряжения смещения 6 с устройством дугогашения 7 и устройством синхронизации 8, устройство 9, связно управляющее во времени работой двух импульсных блоков питания соответствующих МРС, систему напуска и контроля давления рабочих газов 10. Импульсные блоки питания 4 через устройства дугогашения 5 соединены электрической связью с МРС 3. Импульсный источник напряжения смещения 6 через устройство дугогашения 7 электрически соединен с карусельным устройством 2 для подачи отрицательного относительно плазмы напряжения смещения на изделия-подложки и, через устройство синхронизации 8, с импульсными блоками питания 5 для обеспечения их синхронной работы. Устройство 9, связно управляющее во времени работой двух импульсных блоков питания, соответствующих МРС, соединено электрической связью с импульсными блоками питания 4.
Работа данного устройства 9 осуществляется таким образом, что вначале оно включает первую МРС, управляя током ее разряда на максимальном значении для данной МРС, при этом в течение заданного времени осуществляется процесс нанесения тонкой пленки первого материала. Затем устройство 9 наряду с включенной первой МРС на максимальном значении тока ее разряда включает вторую МРС, управляя током ее разряда на минимальном значении для данной МРС, и далее устройство 9 связно и плавно регулирует изменения токов разрядов соответствующих МРС, одновремено изменяя значение тока разряда первой МРС от максимального до минимального для данной МРС и тока разряда второй МРС от минимального до максимального для данной МРС, при этом осуществляется процесс нанесения субслоя, представляющего собой твердый раствор из материалов нижнего и верхнего слоев, такой, что концентрация материала первого слоя изменяется от 100% до 0%, а концентрация материала второго слоя, соответственно, от 0% до 100%. Далее устройство 9 отключает первую МРС, а ток разряда второй МРС при этом максимален и в течение заданного времени осуществляется процесс нанесения тонкой пленки второго материала. Данный цикл можно повторять, используя при этом в установке и большее количество магнетронов. При таком нанесении многослойных покрытий температурный коэффициент линейного расширения (ТКЛР) соседних слоев плавно нивелируется от слоя к слою, что приводит к повышению межслойной адгезии и, как следствие, к повышению надежности многослойных покрытий.
Структурная схема устройства 9 (см. фиг. 1), связно управляющего блоками питания МРС, представленная на фиг. 2, включает микроконтроллер 11 Atmega 128, который в зависимости от типа блоков питания МРС 4, при помощи интерфейса 12 RS-485, либо цифроаналогового преобразователя (ЦАП), представляющего собой формирователь управляющих сигналов 13, управляет связной работой этих блоков. Блок ввода 14, состоящий из набора кнопок, предназначен для задания режимов работы устройства. Блок индикации 15 служит для отображения заданных режимов работы устройства, а USB-интерфейс 16 - для отладки и диагностики. Flash-память 17 предназначена для записи готовых алгоритмов формирования многослойных тонкопленочных покрытий с повышенной межслойной адгезией. Устройство управления имеет два режима работы:
1) ручное управление;
2) управление по алгоритмам, записанным на flash-память.
В качестве апробации работы предложенной полезной модели было проведено напыление слоистой структуры Cu/субслой (Cu+Cr)/Cr/CT50-1, где Cu - медь; Cr - хром; СТ50-1 - подложка из ситалла, на автоматизированной установке магнетронного распыления УМР-71 с двумя МРС, снабженной вышеописанным устройством, связно управляющим блоками питания этих МРС. В результате было получено двухкратное увеличение адгезии между слоями Cu и Cr в вышеназванной структуре по сравнению со структурой Cu/Cr/CT50-1, не содержащей переходного субслоя.
Таким образом, описанная полезная модель позволяет управляемо повысить межслойную адгезию и, следовательно, повысить надежность многослойных тонкопленочных покрытий.
Источники информации
1. W.-D. Munz, The new way to hard coatings; Arc Bond Sputtering, ABS Venlo, Hauzer / Techno Coating, 1991.
2. Патент РФ №2308538. МПК С23С 14/35 (2006.01). Установка для нанесения многослойных покрытий с периодической структурой методом магнетронного распыления / Ю.В. Агабеков, A.M. Сутырин, А.В. Федотов. - №2006121379/02; Заявлено 19.06.2006; Опубл. 20.10.2007, Бюл. №29.
Claims (1)
- Установка для нанесения на ситалловые подложки многослойного покрытия методом магнетронного распыления, содержащая вакуумную камеру, в центре которой установлено карусельное устройство для размещения ситалловых подложек, первую и вторую прямоугольные магнетронные распылительные системы (МРС), выполненные на постоянных магнитах, установленные зеркально-симметрично друг другу и параллельно оси вращения карусельного устройства с различными по составу распылительными мишенями, систему электропитания МРС из двух импульсных блоков с устройствами дугогашения, источник импульсного отрицательного относительно плазмы напряжения смещения для вышеупомянутых подложек и систему напуска и контроля давления рабочих газов в вакуумной камере, отличающаяся тем, что она снабжена микроконтроллером, выполненным с возможностью управления посредством импульсных блоков системы электропитания МРС распылением первой МРС и второй МРС, а источник импульсного отрицательного относительно плазмы напряжения смещения через устройство дугогашения электрически соединен с карусельным устройством и через устройство синхронизации – с импульсными блоками питания, при этом импульсные блоки системы электропитания МРС соединены электрической связью с микроконтроллером и через устройства дугогашения – с первой и второй прямоугольными МРС.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2017106237U RU179496U1 (ru) | 2017-02-22 | 2017-02-22 | Установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2017106237U RU179496U1 (ru) | 2017-02-22 | 2017-02-22 | Установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU179496U1 true RU179496U1 (ru) | 2018-05-16 |
Family
ID=62151832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2017106237U RU179496U1 (ru) | 2017-02-22 | 2017-02-22 | Установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU179496U1 (ru) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2308538C1 (ru) * | 2006-06-19 | 2007-10-20 | Общество с ограниченной ответственностью научно-производственная фирма "ЭЛАН-ПРАКТИК" | Установка для нанесения многослойных покрытий с периодической структурой методом магнетронного распыления |
| RU2437964C2 (ru) * | 2010-01-11 | 2011-12-27 | Вера Дмитриевна Мирошникова | Подложкодержатель и установка для нанесения покрытий методом магнетронного распыления на его основе |
| US20130056348A1 (en) * | 2011-08-31 | 2013-03-07 | Hauzer Techno Coating Bv | Vacuum coating apparatus and method for depositing nanocomposite coatings |
| RU2549813C1 (ru) * | 2013-10-15 | 2015-04-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ "МЭИ" Московский энергетический институт, МЭИ) | Способ формирования жаростойкого нанокомпозитного покрытия на поверхности изделий из жаропрочных никелевых сплавов. |
| RU2554828C2 (ru) * | 2013-07-04 | 2015-06-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ "МЭИ") | Способ нанесения защитного покрытия на поверхность стального изделия |
-
2017
- 2017-02-22 RU RU2017106237U patent/RU179496U1/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2308538C1 (ru) * | 2006-06-19 | 2007-10-20 | Общество с ограниченной ответственностью научно-производственная фирма "ЭЛАН-ПРАКТИК" | Установка для нанесения многослойных покрытий с периодической структурой методом магнетронного распыления |
| RU2437964C2 (ru) * | 2010-01-11 | 2011-12-27 | Вера Дмитриевна Мирошникова | Подложкодержатель и установка для нанесения покрытий методом магнетронного распыления на его основе |
| US20130056348A1 (en) * | 2011-08-31 | 2013-03-07 | Hauzer Techno Coating Bv | Vacuum coating apparatus and method for depositing nanocomposite coatings |
| RU2554828C2 (ru) * | 2013-07-04 | 2015-06-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ "МЭИ") | Способ нанесения защитного покрытия на поверхность стального изделия |
| RU2549813C1 (ru) * | 2013-10-15 | 2015-04-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВПО "НИУ "МЭИ" Московский энергетический институт, МЭИ) | Способ формирования жаростойкого нанокомпозитного покрытия на поверхности изделий из жаропрочных никелевых сплавов. |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Sproul et al. | Control of reactive sputtering processes | |
| RU2308538C1 (ru) | Установка для нанесения многослойных покрытий с периодической структурой методом магнетронного распыления | |
| Constantin et al. | Magnetron sputtering technique used for coatings deposition; technologies and applications | |
| KR20080084641A (ko) | 물질들의 혼합물로 구성되고 및 소정의 굴절율을 가지는층의 증착 방법 및 스퍼터 증착 시스템 | |
| GB2303380A (en) | Improving the sputter deposition of metal-sulphur coatings | |
| TR201816617T4 (tr) | Alt katmanların kaplanmasına yönelik yöntem ve bunun için yüksek performanslı toz püskürtme kaynağı. | |
| KR20070114832A (ko) | 경질 재료층 | |
| JP2019090113A (ja) | 高出力インパルスコーティング方法 | |
| JP2009068110A (ja) | 基材上に被膜を堆積させる方法および装置 | |
| JP6407273B2 (ja) | 圧電性ＡｌＮ含有層の堆積方法、並びにＡｌＮ含有圧電体層 | |
| CN100362133C (zh) | 一种硬质耐磨保护薄膜的制备方法 | |
| KR102274981B1 (ko) | 장식적 hipims 경질층 | |
| CN105002462A (zh) | 玫瑰金餐具镀膜方法 | |
| Eichenhofer et al. | Industrial Use of HiPIMS up to Now and a Glance into the Future, A Review by a Manufacturer Introduction of the hiP-V hiPlus Technology | |
| RU179496U1 (ru) | Установка для нанесения многослойных покрытий с повышенной межслойной адгезией методом магнетронного распыления | |
| Scholl | Asymmetric bipolar pulsed power: a new power technology | |
| CN102094180B (zh) | 一种多层薄膜的沉积方法 | |
| Hecimovic et al. | Preface to Special Topic: Reactive high power impulse magnetron sputtering | |
| Carreri et al. | Highly insulating alumina films by a bipolar reactive MF sputtering process with special arc handling | |
| CA2790503A1 (en) | Stainless steel and silver colored pvd coatings | |
| RU2677043C1 (ru) | Способ получения износостойкого покрытия на основе интерметаллида системы Ti-Al | |
| Kelly | Continual development keeps reactive sputter deposition at the forefront of surface engineering processes | |
| PL221077B1 (pl) | Sposób nanoszenia warstw w wielotargetowym układzie do rozpylania magnetronowego | |
| Gerdes et al. | Reactive sputter deposition of alumina coatings | |
| RU2539891C1 (ru) | Способ осаждения тонких пленок оксида церия |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM9K | Utility model has become invalid (non-payment of fees) |
Effective date: 20180421 |