RU1781270C - Состав дл химико-механического полировани кремниевых пластин - Google Patents

Состав дл химико-механического полировани кремниевых пластин

Info

Publication number
RU1781270C
RU1781270C SU904858366A SU4858366A RU1781270C RU 1781270 C RU1781270 C RU 1781270C SU 904858366 A SU904858366 A SU 904858366A SU 4858366 A SU4858366 A SU 4858366A RU 1781270 C RU1781270 C RU 1781270C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
minutes
ethylene glycol
composition
added
stirred
Prior art date
Application number
SU904858366A
Other languages
English (en)
Inventor
Михаил Иванович Хома
Роман Васильевич Сушко
Наталия Михайловна Кравец
Original Assignee
Калушское Опытное Производство Института Химии Поверхности Ан Усср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Калушское Опытное Производство Института Химии Поверхности Ан Усср filed Critical Калушское Опытное Производство Института Химии Поверхности Ан Усср
Priority to SU904858366A priority Critical patent/RU1781270C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1781270C publication Critical patent/RU1781270C/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

Сущность изобретени : состав содержит (мае. %) двуокись кремни  2 - 7; этилен- гликоль 1,2 - 3,0, травитель 0,5 - 1,0; поверхностно-активную суспензию на основе полиметилсилоксана 0,2 - 0,6 и воду - остальное. Перемешивают в течение 10 мин двуокись кремни , водный раствор аммиака , гидрооксиь кали  и этиленгликоль, затем добавл ют деионизированную воду и перемешивают 15 мин. Перед употреблением ввод т кремнийорганическую добавку и перемешивают 5 мин. Характеристики состава: скорость полировани  60,2 - 70,0 мкм/ч 1 табл.

Description

Изобретение относитс  к полупроводниковой технике и может быть использовано при химико-механическом полировании кремниевых пластин.
Известный состав включает абразивный компонент на основе двуокиси кремни , в качестве которого использована пирогенна  двуокись кремни  с удельной поверхностью 40-100 м2/г., этиленгликоль , водный аммиак и воду при следующем соотношении компонентов мас.%: Абразивный компонент 2,0 - 7,0 Аммиак водный 25%-ный раствор0,5 - 1,0Этиленгликоль1 ,2-3,01 --ВодаОстальное
Недостатками указанного состава  вл етс  то, что водна  полировальна  суспензи , отталкива сь от гидрофобной поверхности кремниевых пластин, способствует неравномерному распределению абразивных частичек, вследствие чего могут образовыватьс  полосы на отполированной поверхности, чго снижает качество обрабатываемой поверхности, усложн ет процесс отмывки. В процессе полировани  под воздействием давлени  и трени  повышаетс  температура рабочей суспензии, при этом, наблюдаютс  спонтанные тиксотропно-коа- гул ционные процессы, вызванные структурирующим воздействием диоксида кремни  и алюмосиликата. Процесс характеризуетс  невысокой производительностью.
Целью изобретени   вл етс  повышение производительности полировани  и упрощение процесса отмьгвки.
Поставленна  цель достигаетс  тем, что состав дл  химико-механического полировани  кремниевых пластин включающий абразивный компонент на основе двуокиси кремни , этиленгликоль, травитель и воду, в качестве травител  содержит смесь водного аммиака и гидроокиси кали  в соотношении 1 :1 и дополнительно кремнийорганическую добавку в количестве 0,2 - 0,6 мае % Другие компоненты берут в тех же количествах , что и по прототипу. В качестве абразива используетс  диоксид кремни , полученный в воздушно-водородном пламени при повышенной температуре .
сл С
,-
В качестве травител  используетс  аммиак водный ГОСТ 24147-80 и гидроокись кали  о.с.ч. ОСТ 6-01-301-77.
Стабилизатором  вл етс  этиленгли- коль ГОСТ 19710-83.
Кремнийорганическую добавку, используемую в за вл емой композиции получают следующим образом.
В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой (до 800 об/мин) загружают 13 - 15 мас.% глицерина ГОСТ 6259-75, 20- 24 мас.% аммиака водного, 13 - 15 мас.% олеиновой кислоты ГОСТ 7580-55 и перемешивают в течение 20 минут, затем, добавл ют 50 мас.% полиметилсилоксана марки ПМС ГОСТ 13022-77 и перемешивают. Гомогенизаци  осуществл етс  при нормальной температуре (18 - 22°С) в течение 20 минут. Полученна  кремнийорганическа  добавка характеризуетс  следующими аналитиче- скими характеристиками:
Водородный показатель рН 7
Плотность 25%-ного
раствора (гсм )0,98
и представл ет собой концентрированную поверхностно-активную суспензию, котора  повышает стабильность предлагаемой полировальной композиции и улучшает качество отполированной поверхности полупроводниковых кремниевых пластин.
Предлагаема  полировальна  композици  с добавкой про вл ет гидрофильные свойства по отношению к поверхности пластин кремни , что способствует сокращению количества операций отмывки и легкому удалению посторонних включений на поверхности отполированных пластин, Кроме того, образовавшийс  сплошной ламинарный поток суспензии на поверхности кремниевых пластин (вследствие гидро- фильности) способствует равномерному переносу составных компонентов в растворе, ускор ет и стабилизирует процесс травлени , предупреждает образование полос на отполированной поверхности, что способ- ствует улучшению качества отполированной поверхности кремни .
Кремнийорганическа  добавка в пол- провальной композиции способствует посто нству в зкости при разных температурах, а также химической инертности и стабильности суспензии при повышении температуры в процессе полировани ,
Использование кремнийорганической добавки в предлагаемом составе позвол ет увеличить скорость полировани  от 62 мкм/ч до 70 мкм/ч, что способствует увеличению производительности процесса (см.таблицу).
П р и м е р 1. В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой (до 1400 об/мин подают 1 мас.% пирогенной двуокиси кремни , 0,3 мас.% водного раствора аммиака, 0,3 мас.% гидроокиси кали , 1,0 мас.% эти- ленгликол  и перемешивают в течение 10 мин. Затем добавл ют 97,2 мас.% деио- низированной воды и перемешивают в течение 15 мин. В приготовленную суспензию перед употреблением добавл ют 0,2 мас.% кремнийорганической добавки, перемешивают в течение 5 мин и примен ют дл  полировки кремниевых пластин.
Пример 2. В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой (до 1400 об/мин подают 5 мас.% пирогенной двуокиси кремни , 0,6 мас.% водного раствора аммиака, 0,6 мас.% гидроокиси кали , 2,1 мас.% эти- ленгликол  и перемешивают в течение 10 мин. Затем добавл ют 91,5 мас.% деио- низированной воды и перемешивают в течение 15 мин. В приготовленную суспензию перед употреблением добавл ют 0,2 мас.% кремнийорганической добавки, перемешивают в течение 5 мин и примен ют дл  полировки кремниевых пластин.
Пример 3. В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой, подают7,0 мас.% пирогенной двуокиси кремни , 0,5 мас.% водного раствора аммиака, 0,5 мас.% гидроокиси кали , 1,2 мас.% этиленгликол  и перемешивают в течение 15 мин. Затем добавл ют 90,2 мас.% деионизированной воды и перемешивают в течение 15 минут. В приготовленную суспензию перед употреблением добавл ют 0,6 мас.% кремний- органической добавки, перемешивают в течение 5 мин и примен ют дл  полировки кремниевых пластин,
Пример 4. В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой, подают 9,0 мае. % пирогенной двуокиси кремни , 1,2 мас.% водного раствора гидроокиси кали , 4,0 мае. % этиленгликол  и перемешивают в течение 15 мин. Затем, добавл ют 84,0 мас.% деионизированной воды и перемешивают в течение 15 мин. В приготовленную суспензию перед употреблением добавл ют 0,6 мас.% кремнийорганической добавки, перемешивают в течение 5 мин и примен ют дл  полировки кремниевых пластин.
Пример 5. В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой, подают 6,0 мае. % пирогенной двуокиси кремни , 0,7 мас.% водного раствора аммиака, 0,7 мас.% гидроокиси кали , 2,0 мас,% этиленгликол  и перемешивают в течение 10 мин. Затем добавл ют 90,0 мас.% деионизированной воды и перемешивают в течение 10 мин. В приготовленную суспензию перед употреблением добавл ют 0.6 мае % кремнийорга- нической добавки, перемешивают в течение 5 мин и примен ют дл  полировки кремниевых пластин.
Примерб. В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой, подают 6,0 мас.% пирогенной двуокиси кремни , 1,0 мас.% водного раствора аммиака. 1,0 мас.% гидроокиси кали , 2,0 мас.% этиленгликол  и перемешивают в течение 10 мин. Затем добавл ют 90,0 мас.% деионизированной воды, перемешивают в течение 20 мин и примен ют дл  полировки кремниевых пластин .
Пример, В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой, подают 6,0 мае, % пирогенной двуокиси кремни , 0,8 мас.% водного раствора аммиака, 2,0 мас.% этиленгликол  и перемешивают в течение 15 мин. Затем добавл ют 90,7 мас.% деио- низированной воды и перемешивают в течение 10 мин. В приготовленную суспензию перед употреблением добавл ют 0,5 мас.% кремнийорганической добавки, перемешивают в течение 5 мин и примен ют дл  пол- ировки кремниевых пластин.
Пример 8. В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой, подают 6,0 мас.% пирогенной двуокиси кремни , 0,8 мас.% гидроокиси кали . 2.0 мас.% эти- ленгликол  и перемешивают в течение 15 мин. Затем добавл ют 90,7 мас.% деионизированной воды и перемешивают в течение 10 мин, В приготовленную суспензию перед употреблением добавл ют 0,5 мас.% кремнийорганической добавки, перемешивают в течение 5 мин и примен ют дл  полировки кремниевых пластин.
П р и м е р 9 (прототип). В реактор, снабженный высокооборотной мешалкой, подают 9,5 мас.% пирогенной двуокиси кремни , 0,4 мас.% водного раствора аммиака и перемешивают в течение 10 мин. Затем добавл ют 90,1 мас.% деионизированной воды и перемешивают в течение 10 мин и примен ют дл  полировани  кремниевых пластин.
Применение исходных компонентов предлагаемого состава в количестве, превышающем или недостаточном, указанных в формуле, приводит к снижению скорости съема, производительности процесса полировани  и выхода годных пластин (см.табл. пример 1 и пример 4). В случае применени  только одного травител  водного аммиака или гидроокиси кали  также наблюдаетс  снижение производительности процесса полировани  (см.пример 7 и пример 8).
Использование предлагаемого состава без кремнийорганической добавки резко уменьшает производительность химико-механической полировки на 10 мкм/ч, падает выход годных пластин на 6% (см. пример 6).

Claims (1)

  1. Формула изобретени  Состав дл  химико-механического полировани  кремниевых пластин, содержащий двуокись кремни , этиленгликоль, травитель и воду, отличающийс  тем, что, с целью повышени  производительности полировани  и упрощени  процесса Отмывки , он в качестве травител  содержит смесь 25%-ного водного раствора аммиака и гидроокиси кали  в массовом соотношении 1 : 1 и дополнительно поверхностно-активную суспензию на основе полиметилсилоксана при следующем соотношении компонентов, мас.%: Двуокись кремни 2-7
    Этиленгликоль1,2-3,0
    Травитель0,5 - 1,0
    Поверхностно-активна  суспензи  на основе полиметилсилоксана 0,2 - 0,6 ВодаОстальное
    Содержание компонентов, мае.5
    Свойства полировального состава
    Известные составы (прототип)
    1,0-3,0 - 1,10,5
    SS-S
    0,3-1,0 0 ,6 -2,10,5 31,8
    Состав If 1 по ОСТ 1114.7603,86
    10,7-11,23 0.9S- 2,4-2,9 б.И-ьо.О 86,2-99,1
    1,06 11,31,0,2 2,66М99, Ь
SU904858366A 1990-05-14 1990-05-14 Состав дл химико-механического полировани кремниевых пластин RU1781270C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU904858366A RU1781270C (ru) 1990-05-14 1990-05-14 Состав дл химико-механического полировани кремниевых пластин

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU904858366A RU1781270C (ru) 1990-05-14 1990-05-14 Состав дл химико-механического полировани кремниевых пластин

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1781270C true RU1781270C (ru) 1992-12-15

Family

ID=21531655

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU904858366A RU1781270C (ru) 1990-05-14 1990-05-14 Состав дл химико-механического полировани кремниевых пластин

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1781270C (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0846741A1 (en) * 1996-12-05 1998-06-10 Fujimi Incorporated Polishing composition

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 1517345, кл. C09G 1/02, 1987. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0846741A1 (en) * 1996-12-05 1998-06-10 Fujimi Incorporated Polishing composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8114178B2 (en) Polishing composition for semiconductor wafer and polishing method
US3922393A (en) Process for polishing silicon and germanium semiconductor materials
JP5860587B2 (ja) 研磨用シリカゾル、研磨用組成物及び研磨用シリカゾルの製造方法
DE69905441T2 (de) Schleifmittelzusammensetzung zur Verwendung in der Elektronikindustrie
JPS6052845B2 (ja) 除泡剤調合物及びその製造法
FR2574064A1 (fr) Dispersion aqueuse d'anhydride silicique et composition abrasive comprenant cette dispersion
CN102337031A (zh) 低粘度有机硅组合物及其制备方法
US3250727A (en) Defoaming agents containing methylsiloxanes
JP2021086943A (ja) エッチング液
RU1781270C (ru) Состав дл химико-механического полировани кремниевых пластин
KR102357727B1 (ko) 양이온을 포함하는 레이저마크 주변의 융기를 해소하기 위한 연마용 조성물
CN102363713B (zh) 稳定的化学机械抛光组合物以及抛光基板的方法
CN113041660A (zh) 一种乳液型消泡剂及其制备方法
KR20110044998A (ko) 연마 조성물
US4101442A (en) Non-aqueous antifoam compositions
KR101638010B1 (ko) 자기 유화형 비실리콘 소포제 조성물
EP0853110B1 (en) CMP slurry with high selectivity
CN110872538B (zh) 硅片切割液及其制备方法和应用以及切割硅片的砂浆液
CN107686702A (zh) 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液
JP2020096160A (ja) エッチング液
US3650979A (en) Methyl-polysiloxane-containing defoaming agents and preparation thereof
US2141729A (en) Polishing composition
CN104099026A (zh) 稳定的可浓缩的硅晶片抛光组合物及相关方法
KR100449054B1 (ko) 선택비를 향상시킨 화학 기계적 연마 슬러리 조성물 및이를 이용한 반도체 소자의 평탄화 방법
CN104513625A (zh) 用于抛光硅晶片的化学机械抛光组合物及相关方法