RU175205U1 - MAGNETRON SPRAY SYSTEM OF CYLINDRICAL TYPE - Google Patents

MAGNETRON SPRAY SYSTEM OF CYLINDRICAL TYPE Download PDF

Info

Publication number
RU175205U1
RU175205U1 RU2017106971U RU2017106971U RU175205U1 RU 175205 U1 RU175205 U1 RU 175205U1 RU 2017106971 U RU2017106971 U RU 2017106971U RU 2017106971 U RU2017106971 U RU 2017106971U RU 175205 U1 RU175205 U1 RU 175205U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
magnetic system
support pipe
fixed shaft
spline coupling
guide
Prior art date
Application number
RU2017106971U
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Александр Алексеевич Ясюнас
Виталий Владимирович Михалкович
Сергей Павлович Марышев
Original Assignee
Общество С Ограниченной Ответственностью "Изовак"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество С Ограниченной Ответственностью "Изовак" filed Critical Общество С Ограниченной Ответственностью "Изовак"
Application granted granted Critical
Publication of RU175205U1 publication Critical patent/RU175205U1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Полезная модель относится к плазменной технике и предназначена для вакуумного ионно-плазменного нанесения тонких пленок металлов, полупроводников, диэлектриков и их соединений на поверхность твердых тел. Технический результат: сокращение времени на регулировку, повышение точности регулировки и упрощение конструктивного исполнения системы.Магнетронная распылительная система цилиндрического типа содержит распылительный блок (1) с опорной трубой (3) и установленной на ней магнитной системой (4). Узел (5) крепления МРС к камере (на чертеже не показано) включает ведущий вал вращения (7) и неподвижный вал (9) с винтами фиксации (11) и направляющую (12) магнитной системы (4) с разъемным соединением (13) неподвижного вала (9) с опорной трубой (3). Один конец неподвижного вала (9) содержит зубчатую нарезку (10), а разъемное соединение (13) направляющей (12) магнитной системы (4) неподвижного вала (9) и опорной трубы (3) выполнено в виде зубчатой передачи со шлицевой муфтой (14) со шлицевой поверхностью (15). Шлицевая муфта (14) снабжена фиксатором (16) и регулировочной шкалой (18) для измерения угла поворота опорной трубы (3) и последующей фиксацией магнитной системы (4) в заданном положении. 2 з.п. ф-лы, 3 фиг.The utility model relates to plasma technology and is intended for vacuum ion-plasma deposition of thin films of metals, semiconductors, dielectrics and their compounds on the surface of solids. EFFECT: reduced adjustment time, improved adjustment accuracy and simplified design of the system. The cylindrical magnetron spraying system comprises a spraying unit (1) with a support pipe (3) and a magnetic system mounted on it (4). The assembly (5) of fastening the MPC to the camera (not shown in the drawing) includes a driving rotation shaft (7) and a fixed shaft (9) with fixing screws (11) and a guide (12) of the magnetic system (4) with a detachable connection (13) of the fixed shaft (9) with support pipe (3). One end of the fixed shaft (9) contains gear cutting (10), and the detachable connection (13) of the guide (12) of the magnetic system (4) of the fixed shaft (9) and the support pipe (3) is made in the form of a gear with a spline coupling (14) ) with a spline surface (15). The spline coupling (14) is equipped with a latch (16) and an adjustment scale (18) for measuring the angle of rotation of the support pipe (3) and then fixing the magnetic system (4) in a predetermined position. 2 s.p. f-ly, 3 Fig.

Description

Полезная модель относится к плазменной технике и предназначена для вакуумного ионно-плазменного нанесения тонких пленок металлов, полупроводников, диэлектриков и их соединений на поверхность твердых тел.The utility model relates to plasma technology and is intended for vacuum ion-plasma deposition of thin films of metals, semiconductors, dielectrics and their compounds on the surface of solids.

При проведении реактивных процессов с использованием магнетронных распылительных систем (МРС) необходимо обеспечить высокую равномерность формируемой пленки, кроме этого необходимо учитывать и управлять интенсивностью электронной бомбардировки обрабатываемой поверхности. Одна из возможностей управления такими технологическими параметрами заключается в выборе угла поворота магнитной системы магнетронно-распылительного устройства. Обычно угол поворота магнитной системы МРС закладывают при проектировании и впоследствии не меняют. Однако, возможно изготовление более сложных систем, в которых настройку положения магнитной системы МРС выполняют при сервисном обслуживании. Первый вариант не обладает гибкостью, а второй ведет к увеличению затрат при изготовлении таких устройств.When carrying out reactive processes using magnetron sputtering systems (MRS), it is necessary to ensure high uniformity of the formed film, in addition, it is necessary to take into account and control the intensity of electronic bombardment of the treated surface. One of the possibilities to control such technological parameters is to select the angle of rotation of the magnet system of the magnetron-spraying device. Typically, the angle of rotation of the magnetic system of the MPC is laid during design and subsequently does not change. However, it is possible to manufacture more complex systems in which the position of the magnetic system of the MPC is adjusted during servicing. The first option does not have flexibility, and the second leads to increased costs in the manufacture of such devices.

Известно устройство магнетронной распылительной системы цилиндрического типа [US №4466877, 21.08.1984]. В устройстве для регулировки положения магнитной системы используется опорная труба, на которой закреплена магнитная система и кронштейн с множеством отверстий и фиксирующим элементом. Труба вместе с магнитной системой может поворачиваться вокруг своей оси.A device of the magnetron spray system of the cylindrical type [US No. 4466877, 08.21.1984]. In the device for adjusting the position of the magnetic system, a support pipe is used, on which a magnetic system and a bracket with many holes and a fixing element are fixed. The pipe together with the magnetic system can rotate around its axis.

Недостатками такой конструкции являются утечки охлаждающей жидкости из магнетрона через уплотнения вращающегося и неподвижного валов, отсутствие возможности продольной и радиальной регулировки магнитной системы, а также низкая точность регулировки положения магнитной системы, обусловленная использованием для этой цели не только регулировочного кронштейна, но и магнитного блока.The disadvantages of this design are the leakage of coolant from the magnetron through the seals of the rotating and stationary shafts, the inability to longitudinally and radially adjust the magnetic system, as well as the low accuracy of adjusting the position of the magnetic system due to the use of not only an adjustment bracket, but also a magnetic unit.

Известно также устройство магнетронной распылительной системы цилиндрического типа с регулировочной шкалой [ЕР №1412964, 29.06.2011]. Устройство содержит неподвижную опорную трубу, кронштейны держателей магнитной системы с наклонными прорезями для регулировки, опорные кронштейны рамы, подвижный резьбовой сухарик и регулировочный винт.A device of the cylindrical type magnetron spraying system with an adjustment scale is also known [EP No. 1412964, 06/29/2011]. The device comprises a fixed support pipe, brackets of the holders of the magnetic system with inclined slots for adjustment, frame support brackets, a movable threaded cracker and an adjusting screw.

Недостатками известной конструкции МРС являются: ограничение регулировки положения магнитной системы только в радиальном направлении и сложность самой операции регулировки, требующей освобождения, по меньшей мере, четырех болтов крепления и последующую их обратную установку с одновременной фиксацией магнитной системы в заданном положении.The disadvantages of the known design of the MPC are: limiting the adjustment of the position of the magnetic system only in the radial direction and the complexity of the adjustment operation, requiring the release of at least four mounting bolts and their subsequent reinstallation with the simultaneous fixation of the magnetic system in a predetermined position.

Наиболее близкими к предлагаемой полезной модели является магнетронная распылительная система цилиндрического типа с узлом крепления к вакуумной камере, выполненная с возможностью изменения угла поворота магнитной системы [US №5445721, 29.08.1995]. Устройство содержит вращающийся распылительный блок с цилиндрической мишенью и опорной трубой, на которой установлена магнитная система, узел крепления магнетронной распылительной системы к вакуумной камере с механизмом привода вращения цилиндрической мишени. Привод включает ведущий вал вращения с уплотнительными манжетами и неподвижный вал с винтами фиксации, направляющую магнитной системы с разъемным соединением неподвижного вала с опорной трубой. Узел крепления обеспечивает передачу вращения от мотора к вращающемуся распылительному блоку с цилиндрической мишенью. Вакуум-плотное отделение привода вращения от рабочего объема камеры напыления позволяет выбирать угол поворота магнитной системы относительно узла крепления при разгерметизации распылительного блока и узла крепления.Closest to the proposed utility model is a cylindrical-type magnetron spray system with a mount to the vacuum chamber, configured to change the angle of rotation of the magnetic system [US No. 5445721, 08/29/1995]. The device comprises a rotating spray unit with a cylindrical target and a support pipe on which a magnetic system is mounted, a mounting unit of the magnetron spray system to the vacuum chamber with a drive mechanism for rotating the cylindrical target. The drive includes a drive shaft of rotation with sealing cuffs and a fixed shaft with fixing screws, a guide of the magnetic system with a detachable connection of the fixed shaft with the support pipe. The mounting unit provides the transmission of rotation from the motor to the rotating spray unit with a cylindrical target. The vacuum-tight separation of the rotation drive from the working volume of the spraying chamber allows you to choose the angle of rotation of the magnetic system relative to the mount when depressurizing the spray unit and mount.

Недостатками описанной МРС являются:The disadvantages of the described MPC are:

сложность измерения и установки угла поворота магнитной системы относительно узла крепления, что требует использования дополнительного измерительного приспособления и снижает технологичность сборки конструкции;the complexity of measuring and installing the angle of rotation of the magnetic system relative to the mount, which requires the use of additional measuring devices and reduces the manufacturability of the assembly structure;

для установки угла поворота требуется разгерметизация узла крепления МРС к вакуумной камере, что снижает надежность системы и увеличивает объем профилактических работ;to set the angle of rotation, depressurization of the mounting unit of the MPC to the vacuum chamber is required, which reduces the reliability of the system and increases the amount of preventive work;

невозможность однозначно фиксировать положение узла крепления относительно магнитной системы при проведении профилактики, что снижает точность регулировки угла поворота магнитной системы.the inability to uniquely fix the position of the mount relative to the magnetic system during the prevention, which reduces the accuracy of the angle of rotation of the magnetic system.

Задачей полезной модели является устранение указанных недостатков и повышение технологичности системы управление углом поворота магнитной системы магнетронной распылительной системы цилиндрического типа.The objective of the utility model is to eliminate these drawbacks and improve the manufacturability of the system by controlling the rotation angle of the magnetic system of the cylindrical magnetron spray system.

Техническим результатом полезной модели является сокращение времени на регулировку и повышение точности установки угла поворота магнитной системы, а также упрощение конструкции магнетронной распылительной системы цилиндрического типа.The technical result of the utility model is to reduce the time to adjust and improve the accuracy of setting the angle of rotation of the magnetic system, as well as simplifying the design of the cylindrical magnetron spray system.

Технический результат достигается тем, что в магнетронной распылительной системе цилиндрического типа, содержащей распылительный блок с опорной трубой и установленной на ней магнитной системой, узел крепления магнетронной распылительной системы к камере с механизмом привода вращения цилиндрической мишени, включающий ведущий вал вращения с уплотнительными манжетами и неподвижный вал с винтами фиксации, направляющую магнитной системы с разъемным соединением неподвижного вала с опорной трубой, согласно полезной модели, один конец неподвижного вала содержит зубчатую нарезку, а разъемное соединение направляющей магнитной системы неподвижного вала и опорной трубы выполнено в виде зубчатой передачи через шлицевую муфту, которая снабжена фиксатором и регулировочной шкалой с возможностью измерения угла поворота опорной трубы и последующей фиксацией магнитной системы в заданном положении.The technical result is achieved by the fact that in a cylindrical type magnetron spray system containing a spray unit with a support pipe and a magnetic system mounted on it, a magnetron spray system mounts to a chamber with a cylindrical target rotation drive mechanism, including a rotation drive shaft with sealing cuffs and a fixed shaft with fixing screws, the guide of the magnetic system with detachable connection of the fixed shaft with the support pipe, according to the utility model, one end of the sliding shaft contains gear cutting, and the detachable connection of the guide of the magnetic system of the fixed shaft and the support pipe is made in the form of a gear transmission through a spline coupling, which is equipped with a clamp and an adjustment scale with the ability to measure the angle of rotation of the support pipe and subsequent fixation of the magnetic system in a predetermined position.

Фиксатор шлицевой муфты выполнен в виде цилиндрического стержня с крепежными оголовками, который диаметрально смонтирован в полости шлицевой муфты в торцевой части с регулировочной шкалой и выполнен с возможностью зацепления с направляющей магнитной системы.The lock of the spline coupling is made in the form of a cylindrical rod with mounting heads, which is diametrically mounted in the cavity of the spline coupling in the end part with an adjustment scale and is made to engage with the guide of the magnetic system.

Регулировочная шкала выполнена в форме насечек с заданным шагом на торцевой поверхности шлицевой муфты, которая оппозитно расположена относительно конца муфты со шлицевыми пазами.The adjustment scale is made in the form of notches with a predetermined pitch on the end surface of the spline coupling, which is opposite to the end of the coupling with spline grooves.

Сущность полезной модели поясняется чертежами на фиг. 1-3.The essence of the utility model is illustrated by the drawings in FIG. 1-3.

На фиг. 1 показан вид в разрезе магнетронной распылительной системы цилиндрического типа.In FIG. 1 is a cross-sectional view of a cylindrical type magnetron spray system.

На фиг. 2 - разъемное соединение.In FIG. 2 - detachable connection.

На фиг. 3 - шлицевая муфта в сечении.In FIG. 3 - slotted coupling in cross section.

МРС цилиндрического типа включает вращающийся распылительный блок 1 с цилиндрической мишенью 2, опорную трубу 3 с магнитной системой 4, узел 5 крепления магнетронной распылительной системы к вакуумной камере (на рисунке не показана), механизм 6 привода вращения с мотором, содержащий ведущий вал вращения 7, уплотнительные манжеты 8, неподвижный вал 9 с зубчатой нарезкой 10 и винтами фиксации 11, направляющую 12 магнитной системы 4, разъемное соединение 13 неподвижного вала 9 с опорной трубой 3 через зубчатую передачу посредством шлицевой муфты 14 со шлицевой поверхностью 15; шлицевая муфта 14 во внутренней полости содержит фиксатор 16 в виде цилиндрического стержня с крепежными оголовками 17 и регулировочную шкалу 18 в форме насечек на торцевой поверхности, оппозитно расположенной относительно торца со шлицевой поверхностью 15.A cylindrical-type MPC includes a rotating spray unit 1 with a cylindrical target 2, a support pipe 3 with a magnetic system 4, a magnetron spray system mounting unit 5 to a vacuum chamber (not shown in the figure), a rotation drive mechanism 6 with a motor containing a rotation drive shaft 7, sealing cuffs 8, a fixed shaft 9 with gear cutting 10 and fixing screws 11, a guide 12 of the magnetic system 4, a detachable connection 13 of the fixed shaft 9 with the support pipe 3 through a gear transmission by means of a spline coupling 14 with front surface 15; the spline coupling 14 in the inner cavity contains a latch 16 in the form of a cylindrical rod with fixing heads 17 and an adjustment scale 18 in the form of notches on the end surface opposite to the end face with the spline surface 15.

Магнетронная распылительная система цилиндрического типа, в соответствии с полезной моделью, работает следующим образом. Для изменения угла поворота магнитной системы 4 относительно узла 5 крепления к камере, необходимо провести слив воды из магнетронной распылительной системы, снять вращающийся распылительный блок 1 с цилиндрической мишенью 2, при этом происходит разгерметизация распылительного блока 1. Снимают опорную трубу 3 вместе с магнитной системой 4 по разъемному соединению 13, при этом шлицевая муфта 14 выходит из зацепления с неподвижным валом 9, осуществляют поворот шлицевой муфты 14 на требуемый угол в соответствии с регулировочной шкалой 18, выполненной в виде насечек на торцевой поверхности, и вводят шлицевую муфту 14 по шлицевой поверхности 15 в зацепление с неподвижным валом 9 по зубчатой нарезке 10. Далее, направляющую 12 магнитной системы 4 вводят в зацепление с фиксатором 16 выполненным в виде цилиндрического стержня, который крепежными оголовками 17 закреплен в шлицевой муфте 14, и устанавливают вращающийся распылительный блок 1 с цилиндрической мишенью 2 в заданном положении. При этом магнитную систему 4 через ведущий вал вращения 7 с уплотнительными манжетами 8 подсоединяют к механизму привода вращения 6 с мотором и завершают поворот магнитной системы 4. При этом винты фиксации 11 остаются на своих местах во время проведения всей операции поворота магнитной системы, что позволяет не проводить разгерметизацию узла крепления 5 магнетронной распылительной системы к вакуумной камере.The cylindrical magnetron spray system, in accordance with the utility model, operates as follows. To change the angle of rotation of the magnetic system 4 relative to the mounting unit 5 to the chamber, it is necessary to drain the water from the magnetron spray system, remove the rotating spray unit 1 with the cylindrical target 2, and the spray unit 1 is depressurized. The support tube 3 is removed together with the magnetic system 4 through a detachable connection 13, while the spline coupling 14 disengages from the fixed shaft 9, the spline coupling 14 is rotated by the desired angle in accordance with the adjustment scale 18, in the form of notches on the end surface, and the spline coupling 14 is introduced along the spline surface 15 into engagement with the fixed shaft 9 along the gear cutting 10. Next, the guide 12 of the magnetic system 4 is engaged with the latch 16 made in the form of a cylindrical rod, which is fastened with ends 17 is fixed in the spline coupling 14, and a rotating spray unit 1 is mounted with a cylindrical target 2 in a predetermined position. In this case, the magnetic system 4 through the drive shaft of rotation 7 with sealing cuffs 8 is connected to the rotation drive mechanism 6 with the motor and complete the rotation of the magnetic system 4. In this case, the locking screws 11 remain in place during the entire operation of the rotation of the magnetic system, which allows not depressurize the mount 5 of the magnetron spray system to the vacuum chamber.

Из уровня техники и описания следует, что полезная модель удовлетворяет условиям патентоспособности «новизна» и «промышленная применимость», а магнетронная система цилиндрического типа в отличие от прототипа проще по конструктивному исполнению и позволяет существенно сократить время и трудозатраты на ее регулировку.From the prior art and description it follows that the utility model satisfies the conditions of patentability "novelty" and "industrial applicability", and the cylindrical magnetron system, unlike the prototype, is simpler in design and can significantly reduce the time and labor required to adjust it.

Указанный эффект достигается за счет того, что один конец неподвижного вала 9 выполнен с зубчатой нарезкой 10, а его соединение с опорной трубой 3 выполнено с помощью съемной шлицевой муфты 14 с фиксатором 16. Удобство регулировки угла поворота магнитной системы 4 обеспечивается за счет выполнения регулировочной шкалы 18 в форме насечек на торцевой поверхности шлицевой муфты 14, тем самым повышается скорость определения и выбора угла ее поворота относительно неподвижного вала 9. Расположение разъемного соединения 13 в распылительном блоке 1 позволяет проводить операцию поворота магнитной системы без разгерметизации узла 5 крепления магнетронной распылительной системы к вакуумной камере, что уменьшает время профилактических работ и увеличивает надежность системы в целом.This effect is achieved due to the fact that one end of the fixed shaft 9 is made with gear cutting 10, and its connection with the support pipe 3 is made using a removable spline coupling 14 with a lock 16. The adjustment of the angle of rotation of the magnetic system 4 is ensured by adjusting the scale 18 in the form of notches on the end surface of the spline coupling 14, thereby increasing the speed of determining and selecting the angle of rotation relative to the fixed shaft 9. The location of the detachable connection 13 in the spray unit 1 pos olyaet conduct an operation of rotation of the magnetic system without unsealing fastening assembly 5 magnetron sputtering system to the vacuum chamber, which reduces the maintenance work and increases the reliability of the system as a whole.

Claims (3)

1. Магнетронная распылительная система цилиндрического типа, содержащая распылительный блок с опорной трубой и установленной на ней магнитной системой, узел крепления магнетронной распылительной системы к вакуумной камере с механизмом привода вращения цилиндрической мишени, включающий ведущий вал вращения с уплотнительными манжетами и неподвижный вал с винтами фиксации, направляющую магнитной системы с разъемным соединением неподвижного вала с опорной трубой, отличающаяся тем, что один из концов неподвижного вала выполнен с зубчатой нарезкой, а разъемное соединение направляющей магнитной системы неподвижного вала и опорной трубы выполнено в виде зубчатой передачи через шлицевую муфту, которая выполнена с фиксатором и регулировочной шкалой с возможностью измерения угла поворота опорной трубы и последующей фиксацией магнитной системы в заданном положении.1. A cylindrical-type magnetron spraying system comprising a spraying unit with a support pipe and a magnetic system mounted on it, a magnetron spraying system attachment unit to a vacuum chamber with a cylindrical target rotation drive mechanism, including a rotation drive shaft with sealing cuffs and a fixed shaft with fixing screws, magnetic system guide with detachable connection of the fixed shaft to the support pipe, characterized in that one of the ends of the fixed shaft is made with gear threaded, and the detachable connection of the guide of the magnetic system of the fixed shaft and the support pipe is made in the form of a gear via a spline coupling, which is made with a lock and an adjustment scale with the ability to measure the angle of rotation of the support pipe and subsequent fixation of the magnetic system in a given position. 2. Система по п. 1, отличающаяся тем, что фиксатор шлицевой муфты выполнен в виде цилиндрического стержня с крепежными оголовками, который диаметрально смонтирован в полости шлицевой муфты в торцевой части с регулировочной шкалой и выполнен с возможностью зацепления с направляющей магнитной системы.2. The system according to claim 1, characterized in that the lock of the spline coupling is made in the form of a cylindrical rod with fixing heads, which is diametrically mounted in the cavity of the spline coupling in the end part with an adjustment scale and is adapted to engage with the guide of the magnetic system. 3. Система по п. 1, отличающаяся тем, что регулировочная шкала выполнена в форме насечек с заданным шагом на торцевой поверхности шлицевой муфты, которая оппозитно расположена относительно конца муфты со шлицевыми пазами.3. The system according to claim 1, characterized in that the adjustment scale is made in the form of notches with a predetermined pitch on the end surface of the spline coupling, which is opposite to the end of the coupling with spline grooves.
RU2017106971U 2016-10-07 2017-03-02 MAGNETRON SPRAY SYSTEM OF CYLINDRICAL TYPE RU175205U1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BYU20160309 2016-10-07
BY20160309 2016-10-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU175205U1 true RU175205U1 (en) 2017-11-28

Family

ID=60581759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017106971U RU175205U1 (en) 2016-10-07 2017-03-02 MAGNETRON SPRAY SYSTEM OF CYLINDRICAL TYPE

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN206986278U (en)
RU (1) RU175205U1 (en)
TW (1) TWM558800U (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113445013A (en) * 2021-06-28 2021-09-28 哈尔滨工业大学 High-power magnetron sputtering film deposition device and method for inner wall of rotor bearing inner ring

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021129533A1 (en) 2021-11-12 2023-05-17 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Magnetron target coupling and storage device
CN114221147B (en) * 2021-12-23 2023-02-03 中国商用飞机有限责任公司 Combined wiring terminal capable of adjusting angle

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5053627A (en) * 1990-03-01 1991-10-01 Ibis Technology Corporation Apparatus for ion implantation
US5445721A (en) * 1994-08-25 1995-08-29 The Boc Group, Inc. Rotatable magnetron including a replacement target structure
RU2151439C1 (en) * 1998-03-12 2000-06-20 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете Magnetron sputtering system
RU41023U1 (en) * 2004-05-06 2004-10-10 Институт физики прочности и материаловедения СО РАН MAGNETRON SPRAYING DEVICE
RU2371514C1 (en) * 2008-08-20 2009-10-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский политехнический университет" Dual magnetron spray-type system

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5053627A (en) * 1990-03-01 1991-10-01 Ibis Technology Corporation Apparatus for ion implantation
US5445721A (en) * 1994-08-25 1995-08-29 The Boc Group, Inc. Rotatable magnetron including a replacement target structure
RU2151439C1 (en) * 1998-03-12 2000-06-20 Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете Magnetron sputtering system
RU41023U1 (en) * 2004-05-06 2004-10-10 Институт физики прочности и материаловедения СО РАН MAGNETRON SPRAYING DEVICE
RU2371514C1 (en) * 2008-08-20 2009-10-27 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский политехнический университет" Dual magnetron spray-type system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113445013A (en) * 2021-06-28 2021-09-28 哈尔滨工业大学 High-power magnetron sputtering film deposition device and method for inner wall of rotor bearing inner ring

Also Published As

Publication number Publication date
TWM558800U (en) 2018-04-21
CN206986278U (en) 2018-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU175205U1 (en) MAGNETRON SPRAY SYSTEM OF CYLINDRICAL TYPE
US7674360B2 (en) Mechanism for varying the spacing between sputter magnetron and target
US4426264A (en) Method and means for controlling sputtering apparatus
KR101413693B1 (en) Prediction and compensation of erosion in a magnetron sputtering target
CA2567372A1 (en) Cylindrical target with oscillating magnet from magnetron sputtering
US6736943B1 (en) Apparatus and method for vacuum coating deposition
CN104294232B (en) Ion sputtering film coating machine
US20040050690A1 (en) Magnetron sputtering apparatus
KR20150123818A (en) Method of HIPIMS sputtering and HIPIMS sputter system
KR20080000002U (en) Cooled pvd shield
KR20190066534A (en) Sputtering apparatus and control method thereof
US20060011470A1 (en) Sputtering magnetron control devices
US20110155568A1 (en) Indexing magnet assembly for rotary sputtering cathode
CN102080210A (en) Evaporation plating device
CN110965034A (en) High-entropy alloy target material preparation device
US20100044222A1 (en) Sputtering target including magnetic field uniformity enhancing sputtering target backing tube
JPH0565892A (en) Regulator for centrifugal pump impeller
CN219010438U (en) Baffle adjusting device and coating equipment comprising same
WO2020160757A1 (en) Deposition apparatus and method for monitoring the same
EP0801416A1 (en) Plasma processing chamber with epicyclic magnet source assembly
JP2008081771A (en) Shutter in vacuum film deposition system, and vacuum film deposition system
CN220520600U (en) Vacuum coating device
EP1567688A2 (en) Method and apparatus for processing substrates
CN110952066A (en) Target mounting structure and ion source sputtering system
CN218969349U (en) Vacuum coating device

Legal Events

Date Code Title Description
MM9K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20210303