RU1378681C - Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold - Google Patents
Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold Download PDFInfo
- Publication number
- RU1378681C RU1378681C SU3984959A RU1378681C RU 1378681 C RU1378681 C RU 1378681C SU 3984959 A SU3984959 A SU 3984959A RU 1378681 C RU1378681 C RU 1378681C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- transistors
- control
- bus
- transistor
- buses
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к вычислительной технике и может быть использовано при проектировании интегральных схем электрически репрограммируемых постоянных запоминающих устройств (ЭРПЗУ). The invention relates to computer technology and can be used in the design of integrated circuits of electrically reprogrammable read-only memory devices (EEPROM).
Целью изобретения является повышение быстродействия. The aim of the invention is to increase performance.
На фиг. 1 представлена электрическая схема накопителя; на фиг. 2 - типовые временные диаграммы работы накопителя в режимах записи и считывания информации; на фиг. 3 - пример выполнения накопителя (по п. 1 ф-лы). In FIG. 1 shows the electrical circuit of the drive; in FIG. 2 - typical time diagrams of the drive in the modes of recording and reading information; in FIG. 3 - an example of the implementation of the drive (p. 1 file).
Накопитель содержит группы запоминающих транзисторов 1, которые образуют ячейки памяти 2, истоки и стоки транзисторов 1 объединены соответственно с истоковыми 3 и стоковыми 4 разрядными шинами, затворы транзисторов 1 подключены к числовым шинам 5. Кроме того, накопитель снабжен дополнительными разрядными шинами 6,7, дополнительными числовыми шинами 8-11, шиной 12 управления и управляющими МДП-транзисторами 13,14, например n-канальными, по два на каждую ячейку. The drive contains a group of memory transistors 1, which form
Для программирования выбранного запоминающего транзистора 1, пусть для определенности это будет верхний транзистор 1, в левой верхней ячейке (см. фиг. 1), на затворную шину 5, подключенную к затвору выбранного транзистора, подают напряжение программирования с амплитудой 20-25 В и длительностью 1-3 мс (см. фиг. 2). To program the selected memory transistor 1, let it be the upper transistor 1 for definiteness, in the upper left cell (see Fig. 1), a programming voltage with an amplitude of 20-25 V and a duration is applied to the
Дополнительную разрядную шину 6, подключенную к выбранной секции, заземляют и затем, открывая дополнительный транзистор 13 высоким потенциалом на шине 8, соединяют шину 6 с истоковой шиной 3 этой секции. Вторые дополнительные транзисторы 14 при этом закрыты низким потенциалом на дополнительной числовой шине 9. В результате этого потенциал канала выбранного транзистора 1 будет равен нулю и под воздействием напряжения программирования, целиком приложенного к подзатворному диэлектрику этого транзистора, его пороговое напряжение увеличится, например, с 1,5 до 6 В. Для того, чтобы предотвратить программирование невыбранного транзистора 1, расположенного в той же строке (т. е. МНОП-транзистора, расположенного в правой верхней ячейке и затвор которого подключен к той же затворной числовой шине 5) на невыбранные дополнительные разрядные шины, например на шину 7, подают напряжение полувыборки амплитудой, например, 10-15 В и той же длительности, что и импульс программирования. Это напряжение через открытый транзистор 13 подается на истоковую шину и каналы невыбранных транзисторов 1, приложенного к их подзатворному диэлектрику напряжения величиной, например 10 В, недостаточно для изменения их порогового напряжения, которое сохраняет свое прежнее значение 1,5 В. An
Если в соответствии с вторым пунктом формулы соответствующие затворные числовые шины каждой секции соединены между собой, то для предотвращения программирования невыбранных МНОП-транзисторов в других строках секций (например, нижних секциях на фиг. 2) на их канал также подается напряжение полувыборки. Для этого напряжение полувыборки устанавливают на шине управления 12, которую через транзисторы 14, открытые высоким потенциалом на другой числовой шине 10, соединяют со стоковыми разрядными шинами невыбранных секций. If, in accordance with the second paragraph of the formula, the corresponding gate numeric buses of each section are interconnected, then to prevent the programming of unselected MNOS transistors in other sections of the sections (for example, the lower sections in Fig. 2), a half-sample voltage is also applied to their channel. To do this, the half-sampling voltage is set on the
Для считывания выбранного транзистора 1 (пусть это по-прежнему будет верхний транзистор в левой верхней секции на фиг. 1) стоковую разрядную шину 4 выбранной секции соединяют через открытый транзистор 14 с шиной управления 12, на которой предварительно устанавливают напряжение, например, 5 В. Дополнительный транзистор 13 выбранной секции открывают напряжением 5 В на шине 8, а дополнительную разрядную шину 6 выбранной секции через дешифратор столбцов соединяют с входом усилителя считывания. Затем подают на выбранную затворную числовую шину 5 напряжение считывания с амплитудой, например, 5 В. Если пороговое напряжение выбранного запоминающего транзистора равно 1,5 В, он откроется, и потенциал на шине 6 начнет нарастать, что будет зафиксировано усилителем считывания как логическое состояние "0" этого транзистора. Если пороговое напряжение выбранного транзистора равно 5 В или более, то выбранный транзистор будет закрыт, потенциал на дополнительной разрядной шине 6 нарастать не будет и это будет соответствовать логическому состоянию "1" этого транзистора. To read the selected transistor 1 (let it still be the upper transistor in the upper left section in Fig. 1), the drain bit line 4 of the selected section is connected via an
Перед записью в накопитель новой информации выполняют стирание ранее записанной информации, т. е. выравнивают пороговые напряжения всех транзисторов 1 на уровне, например, 1-1,5 В. Эта процедура отличается от описанного выше режима программирования только тем, что подаваемое на затворы транзисторов 1 напряжение стирания отличается по амплитуде от напряжения программирования, например, меньше его и равно 15-20 В. Такая организация стирания дает возможность выполнять эту операцию избирательно. Можно также сразу стереть информацию из всего накопителя. Для этого достаточно подать напряжение стирания на все затворные числовые шины, а все истоковые шины 3 соединить с дополнительными разрядными шинами, которые в свою очередь все соединить с землей. Before writing new information to the drive, the previously recorded information is erased, i.e., the threshold voltages of all transistors 1 are aligned at, for example, 1-1.5 V. This procedure differs from the programming mode described above only in that the transistors are supplied to the gates 1, the erase voltage differs in amplitude from the programming voltage, for example, less than it and is equal to 15-20 V. Such an organization of erasure makes it possible to perform this operation selectively. You can also immediately erase information from the entire drive. To do this, it is enough to apply the erase voltage to all the gate numeric buses, and connect all the
Повышение быстродействия в накопителе предлагаемой конструкции достигается благодаря уменьшению паразитной емкости разрядной шины, время зарядки которой при считывании составляет, как правило, 40-60% от общего времени выборки и поэтому оказывает значительное влияние на быстродействие. (56) Заявка (ЕПВ) N 0081951, кл. H 01 L 29/60, 1983. The increase in performance in the drive of the proposed design is achieved by reducing the parasitic capacitance of the discharge bus, the charging time of which when reading is usually 40-60% of the total sampling time and therefore has a significant impact on performance. (56) Application (EPO) N 0081951, cl. H 01 L 29/60, 1983.
Заявка (ЕПВ) N 0209006, кл. G 11 C 29/00, 1984. Application (EPO) N 0209006, CL G 11 C 29/00, 1984.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU3984959 RU1378681C (en) | 1985-12-01 | 1985-12-01 | Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU3984959 RU1378681C (en) | 1985-12-01 | 1985-12-01 | Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1378681C true RU1378681C (en) | 1994-03-30 |
Family
ID=30440340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU3984959 RU1378681C (en) | 1985-12-01 | 1985-12-01 | Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1378681C (en) |
-
1985
- 1985-12-01 RU SU3984959 patent/RU1378681C/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5097152A (en) | Buffer circuit used in a semiconductor device operating by different supply potentials and method of operating the same | |
US6240020B1 (en) | Method of bitline shielding in conjunction with a precharging scheme for nand-based flash memory devices | |
US4893275A (en) | High voltage switching circuit in a nonvolatile memory | |
JPS62117196A (en) | Electrically erasable/programmable memory cell and making thereof | |
EP0083194A3 (en) | Electrically erasable programmable read only memory cell having a single transistor | |
JPS5856199B2 (en) | semiconductor storage device | |
US5303189A (en) | High-speed memory with a limiter of the drain voltage of the cells | |
US4635229A (en) | Semiconductor memory device including non-volatile transistor for storing data in a bistable circuit | |
US7388789B2 (en) | NAND memory device and programming methods | |
JPS5792488A (en) | Nonvolatile memory | |
JP2964982B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
US5058062A (en) | Nonvolatile semiconductor memory circuit including a reliable sense amplifier | |
DE69500009T2 (en) | Non-volatile programmable flip-flop with reduction of parasitic effects when reading for memory redundancy circuit | |
RU1378681C (en) | Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold | |
JPH0766675B2 (en) | Programmable ROM | |
US5978261A (en) | Non-volatile electronic memory and method for the management thereof | |
JPH0581999B2 (en) | ||
JPH0734313B2 (en) | IC memory device | |
US4241424A (en) | Semiconductor devices | |
JPS63106852A (en) | Safety device for programming of electrically programmable non-volatile memory | |
EP0268288A2 (en) | Semiconductor memory device | |
JPS6050697A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JPH0318275B2 (en) | ||
KR100193450B1 (en) | Isolated Sense Amplifiers in Nonvolatile Semiconductor Memory | |
SU1317481A1 (en) | Storage |