RU1378681C - Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold - Google Patents

Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold Download PDF

Info

Publication number
RU1378681C
RU1378681C SU3984959A RU1378681C RU 1378681 C RU1378681 C RU 1378681C SU 3984959 A SU3984959 A SU 3984959A RU 1378681 C RU1378681 C RU 1378681C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
transistors
control
bus
transistor
buses
Prior art date
Application number
Other languages
Russian (ru)
Inventor
А.П. Нагин
В.А. Милошевский
В.М. Тюлькин
А.И. Мальцев
Ю.Р. Чернышев
Original Assignee
Нагин Александр Петрович
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Нагин Александр Петрович filed Critical Нагин Александр Петрович
Priority to SU3984959 priority Critical patent/RU1378681C/en
Application granted granted Critical
Publication of RU1378681C publication Critical patent/RU1378681C/en

Links

Images

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

FIELD: computer engineering. SUBSTANCE: stray capacitance of memory access bus which charging time is about 40-60% overall access time. So, this effects access speed a lot. EFFECT: increased speed. 2 cl, 3 dwg

Description

Изобретение относится к вычислительной технике и может быть использовано при проектировании интегральных схем электрически репрограммируемых постоянных запоминающих устройств (ЭРПЗУ). The invention relates to computer technology and can be used in the design of integrated circuits of electrically reprogrammable read-only memory devices (EEPROM).

Целью изобретения является повышение быстродействия. The aim of the invention is to increase performance.

На фиг. 1 представлена электрическая схема накопителя; на фиг. 2 - типовые временные диаграммы работы накопителя в режимах записи и считывания информации; на фиг. 3 - пример выполнения накопителя (по п. 1 ф-лы). In FIG. 1 shows the electrical circuit of the drive; in FIG. 2 - typical time diagrams of the drive in the modes of recording and reading information; in FIG. 3 - an example of the implementation of the drive (p. 1 file).

Накопитель содержит группы запоминающих транзисторов 1, которые образуют ячейки памяти 2, истоки и стоки транзисторов 1 объединены соответственно с истоковыми 3 и стоковыми 4 разрядными шинами, затворы транзисторов 1 подключены к числовым шинам 5. Кроме того, накопитель снабжен дополнительными разрядными шинами 6,7, дополнительными числовыми шинами 8-11, шиной 12 управления и управляющими МДП-транзисторами 13,14, например n-канальными, по два на каждую ячейку. The drive contains a group of memory transistors 1, which form memory cells 2, the sources and drains of transistors 1 are combined with the source 3 and 4 drain buses, respectively, the gates of the transistors 1 are connected to the number buses 5. In addition, the drive is equipped with additional discharge buses 6,7, additional numeric buses 8-11, the control bus 12 and the control MOS transistors 13,14, for example n-channel, two for each cell.

Для программирования выбранного запоминающего транзистора 1, пусть для определенности это будет верхний транзистор 1, в левой верхней ячейке (см. фиг. 1), на затворную шину 5, подключенную к затвору выбранного транзистора, подают напряжение программирования с амплитудой 20-25 В и длительностью 1-3 мс (см. фиг. 2). To program the selected memory transistor 1, let it be the upper transistor 1 for definiteness, in the upper left cell (see Fig. 1), a programming voltage with an amplitude of 20-25 V and a duration is applied to the gate bus 5 connected to the gate of the selected transistor 1-3 ms (see Fig. 2).

Дополнительную разрядную шину 6, подключенную к выбранной секции, заземляют и затем, открывая дополнительный транзистор 13 высоким потенциалом на шине 8, соединяют шину 6 с истоковой шиной 3 этой секции. Вторые дополнительные транзисторы 14 при этом закрыты низким потенциалом на дополнительной числовой шине 9. В результате этого потенциал канала выбранного транзистора 1 будет равен нулю и под воздействием напряжения программирования, целиком приложенного к подзатворному диэлектрику этого транзистора, его пороговое напряжение увеличится, например, с 1,5 до 6 В. Для того, чтобы предотвратить программирование невыбранного транзистора 1, расположенного в той же строке (т. е. МНОП-транзистора, расположенного в правой верхней ячейке и затвор которого подключен к той же затворной числовой шине 5) на невыбранные дополнительные разрядные шины, например на шину 7, подают напряжение полувыборки амплитудой, например, 10-15 В и той же длительности, что и импульс программирования. Это напряжение через открытый транзистор 13 подается на истоковую шину и каналы невыбранных транзисторов 1, приложенного к их подзатворному диэлектрику напряжения величиной, например 10 В, недостаточно для изменения их порогового напряжения, которое сохраняет свое прежнее значение 1,5 В. An additional discharge bus 6 connected to the selected section is grounded and then, opening an additional transistor 13 with high potential on the bus 8, connect the bus 6 to the source bus 3 of this section. In this case, the second additional transistors 14 are closed by low potential on the additional numerical bus 9. As a result, the channel potential of the selected transistor 1 will be equal to zero and under the influence of the programming voltage applied entirely to the gate dielectric of this transistor, its threshold voltage will increase, for example, from 1, 5 to 6 V. In order to prevent programming of an unselected transistor 1 located on the same line (i.e., an MNOS transistor located in the upper right cell and the gate It is connected to the same gate numerical bus 5) to unselected additional bit buses, for example, to bus 7, a half-sampling voltage with an amplitude, for example, 10-15 V and the same duration as the programming pulse, is applied. This voltage through an open transistor 13 is supplied to the source bus and channels of the unselected transistors 1, applied to their gate gate voltage dielectric, for example 10 V, is not enough to change their threshold voltage, which retains its previous value of 1.5 V.

Если в соответствии с вторым пунктом формулы соответствующие затворные числовые шины каждой секции соединены между собой, то для предотвращения программирования невыбранных МНОП-транзисторов в других строках секций (например, нижних секциях на фиг. 2) на их канал также подается напряжение полувыборки. Для этого напряжение полувыборки устанавливают на шине управления 12, которую через транзисторы 14, открытые высоким потенциалом на другой числовой шине 10, соединяют со стоковыми разрядными шинами невыбранных секций. If, in accordance with the second paragraph of the formula, the corresponding gate numeric buses of each section are interconnected, then to prevent the programming of unselected MNOS transistors in other sections of the sections (for example, the lower sections in Fig. 2), a half-sample voltage is also applied to their channel. To do this, the half-sampling voltage is set on the control bus 12, which is connected through transistors 14, open with high potential on another numerical bus 10, to the drain discharge buses of unselected sections.

Для считывания выбранного транзистора 1 (пусть это по-прежнему будет верхний транзистор в левой верхней секции на фиг. 1) стоковую разрядную шину 4 выбранной секции соединяют через открытый транзистор 14 с шиной управления 12, на которой предварительно устанавливают напряжение, например, 5 В. Дополнительный транзистор 13 выбранной секции открывают напряжением 5 В на шине 8, а дополнительную разрядную шину 6 выбранной секции через дешифратор столбцов соединяют с входом усилителя считывания. Затем подают на выбранную затворную числовую шину 5 напряжение считывания с амплитудой, например, 5 В. Если пороговое напряжение выбранного запоминающего транзистора равно 1,5 В, он откроется, и потенциал на шине 6 начнет нарастать, что будет зафиксировано усилителем считывания как логическое состояние "0" этого транзистора. Если пороговое напряжение выбранного транзистора равно 5 В или более, то выбранный транзистор будет закрыт, потенциал на дополнительной разрядной шине 6 нарастать не будет и это будет соответствовать логическому состоянию "1" этого транзистора. To read the selected transistor 1 (let it still be the upper transistor in the upper left section in Fig. 1), the drain bit line 4 of the selected section is connected via an open transistor 14 to the control bus 12, on which a voltage, for example, 5 V. An additional transistor 13 of the selected section is opened with a voltage of 5 V on the bus 8, and an additional discharge bus 6 of the selected section is connected through the column decoder to the input of the readout amplifier. Then, a read voltage with an amplitude of, for example, 5 V is supplied to the selected gate digital bus 5. If the threshold voltage of the selected memory transistor is 1.5 V, it opens and the potential on the bus 6 starts to increase, which will be detected by the read amplifier as a logical state " 0 "of this transistor. If the threshold voltage of the selected transistor is 5 V or more, then the selected transistor will be closed, the potential on the additional discharge bus 6 will not increase and this will correspond to the logical state "1" of this transistor.

Перед записью в накопитель новой информации выполняют стирание ранее записанной информации, т. е. выравнивают пороговые напряжения всех транзисторов 1 на уровне, например, 1-1,5 В. Эта процедура отличается от описанного выше режима программирования только тем, что подаваемое на затворы транзисторов 1 напряжение стирания отличается по амплитуде от напряжения программирования, например, меньше его и равно 15-20 В. Такая организация стирания дает возможность выполнять эту операцию избирательно. Можно также сразу стереть информацию из всего накопителя. Для этого достаточно подать напряжение стирания на все затворные числовые шины, а все истоковые шины 3 соединить с дополнительными разрядными шинами, которые в свою очередь все соединить с землей. Before writing new information to the drive, the previously recorded information is erased, i.e., the threshold voltages of all transistors 1 are aligned at, for example, 1-1.5 V. This procedure differs from the programming mode described above only in that the transistors are supplied to the gates 1, the erase voltage differs in amplitude from the programming voltage, for example, less than it and is equal to 15-20 V. Such an organization of erasure makes it possible to perform this operation selectively. You can also immediately erase information from the entire drive. To do this, it is enough to apply the erase voltage to all the gate numeric buses, and connect all the source buses 3 to additional discharge buses, which in turn connect everything to ground.

Повышение быстродействия в накопителе предлагаемой конструкции достигается благодаря уменьшению паразитной емкости разрядной шины, время зарядки которой при считывании составляет, как правило, 40-60% от общего времени выборки и поэтому оказывает значительное влияние на быстродействие. (56) Заявка (ЕПВ) N 0081951, кл. H 01 L 29/60, 1983. The increase in performance in the drive of the proposed design is achieved by reducing the parasitic capacitance of the discharge bus, the charging time of which when reading is usually 40-60% of the total sampling time and therefore has a significant impact on performance. (56) Application (EPO) N 0081951, cl. H 01 L 29/60, 1983.

Заявка (ЕПВ) N 0209006, кл. G 11 C 29/00, 1984. Application (EPO) N 0209006, CL G 11 C 29/00, 1984.

Claims (2)

1. МАТРИЧНЫЙ НАКОПИТЕЛЬ НА МДП-ТРАНЗИСТОРАХ С ИЗМЕНЯЕМЫМ ПОРОГОВЫМ ВКЛЮЧЕНИЕМ , содеpжащий ячейки памяти, каждая из котоpых состоит из гpуппы запоминающих тpанзистоpов, пpичем в каждой стpоке затвоpы гpупп тpанзистоpов подключены к соответствующей числовой шине, а истоки и стоки гpупп тpанзистоpов в каждом столбце соответственно объединены, отличающийся тем, что, с целью повышения быстpодействия матpичного накопителя, он содеpжит дополнительные числовые pазpядные и упpавляющие шины, а в каждую ячейку памяти введены упpавляющие МДП-тpанзистоpы, исток пеpвого упpавляющего МДП-тpанзистоpа подключен к истокам запоминающих тpанзистоpов данной ячейки памяти, к стокам котоpых подключен сток втоpого упpавляющего МДП-тpанзистоpа, пpичем в каждой стpоке затвоpы пеpвого и втоpого упpавляющих МДП-тpанзистоpов каждой ячейки памяти подключены соответственно к пеpвой и втоpой дополнительным числовым шинам, истоки втоpого и пеpвого упpавляющих МДП-тpанзистоpов соответственно нечетной и четной стpок подключены к шине упpавления. 1. MATRIX DRIVE ON MOSFET TRANSISTORS WITH VARIABLE THRESHOLD INCLUSIONS, containing memory cells, each of which consists of a group of memory transistors, each of which has a corresponding group of gates connected to a terminal and connected to a terminal , characterized in that, in order to increase the speed of the matrix drive, it contains additional numerical discharging and control buses, and control MIS transistors are inserted into each memory cell, ok the first control MIS transistor is connected to the sources of the memory transistors of this memory cell, the drains of which are connected to the drain of the second control MIS transistor, moreover, in each line of the shutter of the first and second control wires to the second , the sources of the second and first control MOS transistors of odd and even lines, respectively, are connected to the control bus. 2. Накопитель по п. 1, отличающийся тем, что соответствующие затвоpные числовые шины каждой ячейки памяти объединены. 2. The drive according to claim 1, characterized in that the corresponding gate numerical buses of each memory cell are combined.
SU3984959 1985-12-01 1985-12-01 Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold RU1378681C (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3984959 RU1378681C (en) 1985-12-01 1985-12-01 Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU3984959 RU1378681C (en) 1985-12-01 1985-12-01 Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1378681C true RU1378681C (en) 1994-03-30

Family

ID=30440340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU3984959 RU1378681C (en) 1985-12-01 1985-12-01 Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1378681C (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5097152A (en) Buffer circuit used in a semiconductor device operating by different supply potentials and method of operating the same
US6240020B1 (en) Method of bitline shielding in conjunction with a precharging scheme for nand-based flash memory devices
US4893275A (en) High voltage switching circuit in a nonvolatile memory
JPS62117196A (en) Electrically erasable/programmable memory cell and making thereof
EP0083194A3 (en) Electrically erasable programmable read only memory cell having a single transistor
JPS5856199B2 (en) semiconductor storage device
US5303189A (en) High-speed memory with a limiter of the drain voltage of the cells
US4635229A (en) Semiconductor memory device including non-volatile transistor for storing data in a bistable circuit
US7388789B2 (en) NAND memory device and programming methods
JPS5792488A (en) Nonvolatile memory
JP2964982B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
US5058062A (en) Nonvolatile semiconductor memory circuit including a reliable sense amplifier
DE69500009T2 (en) Non-volatile programmable flip-flop with reduction of parasitic effects when reading for memory redundancy circuit
RU1378681C (en) Matrix memory storage made in mosfet with variable threshold
JPH0766675B2 (en) Programmable ROM
US5978261A (en) Non-volatile electronic memory and method for the management thereof
JPH0581999B2 (en)
JPH0734313B2 (en) IC memory device
US4241424A (en) Semiconductor devices
JPS63106852A (en) Safety device for programming of electrically programmable non-volatile memory
EP0268288A2 (en) Semiconductor memory device
JPS6050697A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0318275B2 (en)
KR100193450B1 (en) Isolated Sense Amplifiers in Nonvolatile Semiconductor Memory
SU1317481A1 (en) Storage