RO133345B1 - Procedeu de obţinere a unor aliaje sb-te-zn-sn cu proprietăţi termoelectrice - Google Patents

Procedeu de obţinere a unor aliaje sb-te-zn-sn cu proprietăţi termoelectrice Download PDF

Info

Publication number
RO133345B1
RO133345B1 ROA201700906A RO201700906A RO133345B1 RO 133345 B1 RO133345 B1 RO 133345B1 RO A201700906 A ROA201700906 A RO A201700906A RO 201700906 A RO201700906 A RO 201700906A RO 133345 B1 RO133345 B1 RO 133345B1
Authority
RO
Romania
Prior art keywords
deposition
electrolyte
electrodeposition
layers
temperature
Prior art date
Application number
ROA201700906A
Other languages
English (en)
Other versions
RO133345A2 (ro
Inventor
Marian Burada
Daniela Violeta Dumitrescu
Dumitru Mitrică
Ionuţ Constantin
Mihai Tudor Olaru
Victoria Soare
Mihai Ghiţă
Valentin Dumitru Drăguţ
Original Assignee
Institutul Naţional De Cercetare Dezvoltare Pentru Metale Neferoase Şi Rare -Imnr
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institutul Naţional De Cercetare Dezvoltare Pentru Metale Neferoase Şi Rare -Imnr filed Critical Institutul Naţional De Cercetare Dezvoltare Pentru Metale Neferoase Şi Rare -Imnr
Priority to ROA201700906A priority Critical patent/RO133345B1/ro
Publication of RO133345A2 publication Critical patent/RO133345A2/ro
Publication of RO133345B1 publication Critical patent/RO133345B1/ro

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/48After-treatment of electroplated surfaces
    • C25D5/50After-treatment of electroplated surfaces by heat-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Prezenta invenție se referă la un procedeu de obținere a unor materiale termoelectrice din sistemul Sb-Te-Zn-Sn, utilizând depunerea electrochimică secvențială unor straturi de filme Sb-Te/Zn-Sn/Sb-Te/pe substrat de Cu, urmată de un tratament termic de omogenizare-difuzie.
Criza mondială de energie și poluarea mediului înconjurător generată de arderea combustibililor fosili au îndreptat atenția în ultimele decenii asupra metodelor de obținere a energiei din surse regenerabile și reziduale.
Se cunoaște că una din metodele de obținere a energiei electrice din surse regenerabile și reziduale o constituie efectul termoelectric. Acest efect se referă la fenomenul de conversie directă a diferențelor de temperatură în energie electrică (efectul Seebeck) sau un curent electric într-o diferență de temperatură (efectul Peltier), ce apare într-un circuit format din doi conductori (semiconductori) diferiți, unul de tip n și celălalt de tip p, supuși unui gradient de temperatură )T, uniți într-o latură printr-o joncțiune metalică caldă, aflată la temperatura Tc, și în cealaltă latură de două joncțiuni reci, menținute la TR < TC de o sursă rece, care poate fi, de exemplu, mediul ambiant.
Performanța unui material termoelectric este reprezentată prin mărimea adimensională numită factorul de merit ZT = S2oT/k, unde S, σ, k și T sunt, respectiv, coeficientul Seebeck, conductivitatea electrică, conductivitatea termică și temperatura (în grade Kelvin).
Printre materialele cu proprietăți semiconductoare, cele mai folosite la fabricarea generatoarelor termoelectrice, pentru aplicații la temperaturi de lucru scăzute, maximum 150°C sunt telururile de Pb, Bi, Sb: PbTe, Bi2Te3, Sb2Te3.
Acestea prezintă dezavantajul că sunt elemente scumpe, deficitare și cu potențial toxic ridicat. De asemenea au o valoare a factorului de merit ZT < 1.
În vederea îmbunătățirii caracteristicilor termoelectrice, a diminuării conținutului de elemente critice și toxice, s-au folosit o serie de metode, cum ar fi: alierea, tehnologia filmelor subțiri, obținerea de materiale micro și nanostructurate.
În urma alierii telururilor cu alte elemente sau compuși au apărut o serie de noi materiale semiconductoare, cum ar fi cele din sistemele: Sb-Te-Pb-Ag, Sb-Te-Ag-Pb-Sn, SbTe-Ag-Ge, Sb-Te-Pb-Na, Pb-Te-S(Sb), Zn-Sb etc. cu proprietăți termoelectrice îmbunătățite: factor de merit ridicat (ZT = 1...1,8), temperaturi de lucru de până la 300°C, stabilitate chimică și mecanică.
Alierea cu alte elemente prezintă și avantajul obținerii unui anumit material semiconductor cu tip de conducție p sau n prestabilită, în funcție de concentrația și raportul relativ al elementelor de aliere.
Procedeele cunoscute pentru obținerea materialelor termoelectrice menționate sunt: metalurgia pulberilor (alierea mecanică), alierea directă prin topire în atmosferă controlată (gaz inert), depunere fizică din stare de vapori, depunere chimică din stare de vapori etc. Aceste procedee necesită utilizarea de echipamente și instalații speciale: mori tip attritor, cuptoare cu atmosferă controlată (vid sau gaz inert), instalații de evaporare și depunere cu flux de electroni.
Problema pe care o rezolvă invenția constă în obținerea unor materiale termoelectrice din sistemul Sb-Te-Zn-Sn prin electrodepunere secvențială de straturi de aliaj Sb-Te și, respectiv, aliaj Zn-Sn, cu un număr de straturi de la 2 la 5, urmată de un tratament termic de omogenizare-difuzie. Se obțin materiale termoelectrice cu o compoziție (%g) Sb = 20...30, Te = 35...45, Zn = 15...25, Sn = 0,5...5 și cu proprietăți termoelectrice cum ar fi o valoare a rezistivității electrice de 2...5 pohm-m, o valoare a conductivității termice de 5...7 W/m-K la 25°C.
Această compoziție se obține prin controlul parametrilor tehnologici ai proceselor de 1 electrodepunere și a compoziției electrolitului.
Printr-un tratament termic în atmosferă de gaz inert a straturilor secvențiale depuse 3 se îmbunătățește aderența la substrat și cristalinitatea depunerilor și au loc reacții în fază solidă cu formarea de compuși cu proprietăți termoelectrice: Sb2Te3, Zn4Sb3, ZnTe, etc. 5
Conform brevetului EP 2982779 A2 este cunoscută o metodă de obținere prin depunere electrochimică a materialelor semiconductoare, în particular compuși antimoniați, 7 arseniați, seleniați și telurați, din soluții apoase de săruri cu adaos de agenți de complexare, în particular acid dietilen triamine pantaacetic (DTPA) precum și cel puțin un agent de com- 9 plexare adițional: acid tricarboxilic și/sau acid aminocarboxilic. Prin metoda prezentată s-au depus electrochimic compuși semiconductori pentru aplicații termoelectrice și fotoelectrice: 11 Bi2Te3, Sb2Te3, Pb(Tl)Te, CuInSe, Bi2(Se,Te)3, CdSe, CdTe, CoSb3, CoAs.
De asemenea, din brevetul DE 102006014505 A1 este cunoscută o metodă de 13 depunere electrochimică de compuși semiconductori Sb-Te și Bi-Sb-Te din soluții electrolit suport de pirofosfat de sodiu sau potasiu în care sunt dizolvate săruri ale metalelor depuse: 15 tartrat de stibiu și potasiu, telurură de potasiu, clorură de bismut împreună cu agent de complexare DTPA. 17
În lucrarea Dual-bath electrodeposition of n-type Bi-Te/Bi-Se multilayer thin films, autori K.Matsuoka, M.Okuhata, M.Takashiri, Journal of Alloys and Compounds, 19 649 (2015), pp. 721-725, este cunoscută o metodă de obținere a filmelor multistrat Bi-Te/BiSe prin imersarea alternantă a electrozilor în două băi de electrolit separate, conținând 21 dizolvate săruri ale metalelor stratului depus.
Este cunoscută din articolul Tin-zinc electrodeposition from sulphate-gluconate 23 baths, autori E.Guaus, J.Torrent-Burgues, Journal of Electroanalytical Chemistry, Voi.
549, (2003), pp. 25-36 o metodă de depunere electrochimică de filme Sn-Zn din băi acide 25 de sulfați cu agent de complexare acid gluconic. Funcție de raportul Sn/Zn respectiv gluconat/(Sn+Zn) din baie s-au obținut depozite cu concentrații de Zn de până la 30% g. 27
Din RO 127532 B1 este cunoscut un proces electrochimic de obținere a unor filme subțiri de Cu, In și Se pentru aplicații fotovoltaice care constă din co-depunerea electro- 29 chimică din soluție de electrolit urmată de un tratament termic sub atmosferă de argon la o temperatură de 350°C timp de 45 min. 31
Shivaji M. Sonawane și N.B. Chaure descriu în articolul “Studies on antimony telluride thin films as buffer layer for solar cell applications”, Journal of Renewable 33 and Sustainable Energy 5, abstract, publicat on-line 07 iunie 2013 depunerea electrochimică a filmelor de Sb2Te3 utilizând Sb2O3 și TeO2 ca surse pentru ionii de Sb și Te 35 cu utilizarea acidului tartric ca agent de complexare și electrolit.
Procedeul propus pentru obținerea de materiale cu proprietăți termoelectrice din 37 sistemul Sb-Te-Zn-Sn, sub formă de strat subțire, printr-un proces electrochimic desfășurat în regim potențiostatic, în mai multe etape, constă în esență în depunerea secvențială de 39 straturi de Sb-Te, respectiv de Zn-Sn pe un substrat de Cu, utilizând două băi de electroliză. Drept electrolit se utilizează o soluție apoasă acidă de oxid de Sb și oxid de Te, respectiv o 41 soluție apoasă acidă de sulfat de zinc și sulfat de Sn.
Fig. 1, ilustrează depunerile secvențiale Sb-Te/Zn-Sn obținute, cu un număr de 43 5 straturi, cu grosime totală de 2...10 microni și compoziție chimică (%g) Sb = 20...30, Te = 35...45, Zn = T5...25, Sn = 0,5...5, care ulterior sunt tratate termic pentru îmbunătățirea 45 aderenței, a cristalinității și inițierea de reacții în fază solidă prin difuzie cu formarea de compuși cu proprietăți termoelectrice. 47
Procedeul conform invenției are ca fundament procesele electrochimice de reducere a speciilor active din soluție a metalelor ce alcătuiesc filmele subțiri depuse, procese exprimate prin reacții caracteristice care sunt prezentate în continuare:
Pentru Sb: SbO+ + 2H+ + 3e θ H2O + Sb(s) cu un potențial de descărcare ε = 0,212 - 0,039 p H + 0,0197 log (SbO+) [V]
Pentru Te: HTeO2 + + 3H+ + 4e θ 2H2O + Te(s) cu un potențial de descărcare ε = 0,555 - 0,044 p H + 0,015 log (HTeO2 +) [V]
Pentru Zn: Zn2 + + 2e θ Zn(s) cu un potențial de descărcare ε = 0,763 - 0,059 p H + 0,0296 log (Zn2+) [V]
Pentru Sn: Sn2+ + 2e θ Sn(8) (s) cu un potențial de descărcare ε = - 0,136 - 0,059 p H + 0,0125 log (Sn2+) [V]
Deși potențialele de descărcare ale celor două metale din fiecare baie de depunere sunt diferite, depunerea electrochimică simultană este posibilă prin utilizarea de agenți complexanți ce deplasează potențialul de depunere spre valori mai negative, și prin folosirea unor concentrații diferite ale cationilor metalelor în electrolit și ajustării valorii p H-ului.
În cadrul procesului de electrodepunere secvențială s-au utilizat două celule de electroliză cu capacitatea de 600 cm3, având trei electrozi.
Electrodul de referință a fost constituit dintr-un electrod de calomel saturat (ECS), iar drept contraelectrod (anod) a fost utilizată o folie de platină. Electrodul de lucru (catod) este constituit din tablă de Cu de grosime 0,5-1,0 mm.
Cei trei electrozi au fost fixați într-un disc suport de material plastic (plexiglas) pentru a fi mutați ușor din baia de depunere aliaj Sb-Te în baia de depunere aliaj Zn-Sn.
Procesul de electrodepunere și monitorizarea a variației tensiunii și curentului au fost realizate cu un potențiostat/galvanostat model Princeton Applied Research 263A, cu interfață PC. Celulele de electroliză au fost încălzite electric pentru a menține temperatura electrolitului la valorile dorite. Agitarea băilor de electrolit s-a realizat cu ajutorul unui agitator magnetic.
Parametrii principali ai procesului de electrodepunere sunt:
- pentru filme de aliaj Sb-Te: compoziția electrolitului, tensiunea aplicată (0,2...0,5 V), intensitatea curentului (5...20 mA), timpul de depunere (15...60 min);
- pentru filme de aliaj Zn-Sn: compoziția electrolitului, tensiunea aplicată (1,5...2,0 V), intensitatea curentului (5...20 mA), timpul de depunere (15...60 min).
După depunerea unui strat, electrozii sunt spălați cu apă distilată pentru îndepărtarea urmelor de electrolit și introduși în următoarea baie de depunere.
La finalul procesului electrochimic folia de Cu (catod) cu straturile secvențiale depuse este spălată cu apă bidistilată pentru îndepărtarea urmelor de electrolit și uscată în curent de Ar. Pentru îmbunătățirea aderenței, cristalinității și a compoziției chimice și structurale a filmelor depuse electrochimic acestea sunt tratate termic la o temperatură de 430...400°C, în atmosferă inertă (Ar purificat).
Comparativ cu metodele cunoscute de obținere a materialelor termoelectrice din sistemul Sb-Te-Zn-Sn invenția prezintă următoarele avantaje:
- utilizează materii prime cu un cost mai scăzut, oxizi în cazul depunerii Sb-Te și respectiv sulfați în cazul depunerii Zn-Sn, în loc de metale pure, scumpe și critice;
- procedeul implică un număr mic de operații, cu durate reduse, cu consumuri scăzute de materii prime și energie;
- nu sunt necesare echipamente complexe, scumpe, ce necesită vid înaintat;
- procedeul permite obținerea de materiale semiconductoare strat subțire cu compoziție chimică variabilă, în funcție de parametrii electrochimici - compoziție electrolit, tensiune de depunere, durată proces;
- materialele termoelectrice obținute au o cristalinitate bună și o compoziție 1 multifazică;
- filmele depuse electrochimic sunt omogene, compacte, au o aderență ridicată atât 3 pe substratul de Cu, cât și inter-straturi și o grosime totală de 2...10 microni;
- număr limitat de straturi depuse secvențial (3...9), pentru diminuarea riscului de 5 apariție a fazelor parazite ce pot influența negativ proprietățile termoelectrice ale materialului.
Celulele de electroliză utilizate pentru obținerea de materiale termoelectrice din 7 sistemul Sb-Te-Zn-Sn prin depunerea electrochimică secvențială filme de Sb-Te, respectiv filme de Zn-Sn, constau din două cuve de capacitate 600 cm3, realizate din sticlă termo- 9 rezistentă (1). Catodul (3) este constituit din tablă de Cu de dimensiuni 30 x 10 x 0,5 mm. Contactul electric dintre catod și sursa de curent s-a realizat prin intermediul unui conductor 11 de Cu, de 3 mm diametru, de care la un capăt s-a fixat prin sudare o clemă electrică tip crocodil. Anodul (5) a fost realizat dintr-o foiță din platină cu dimensiuni de 30 x 30 x 0,2 mm; 13 pentru realizarea contactului electric, de foiță s-a fixat prin sudare un conductor de Cu de 3 mm diametru. Drept electrod de referință (4) a fost utilizat un electrod de calomel saturat 15 (ECS). Electrozii au fost montați într-un disc suport (2) realizat din material plastic (plexiglax) în care au fost realizate orificii pentru conductoarele de Cu ale anodului și catodului și pentru 17 electrodul de ESC. Distanța dintre anod și catod poate fi variată în limitele 2-5 cm. Pentru încălzirea și agitarea electrolitului în timpul procesului s-a folosit un încălzitor-agitator 19 magnetic (7) cu turație variabilă, cu agitator magnetic încastrat în teflon (6). Schița celulei de electroliză este prezentată în fig. 2. Schema modului de lucru în cazul electrodepunerii 21 secvențiale este prezentată în fig. 3.
Pentru obținerea unor materiale termoelectrice de aliaj Sb-Te-Zn-Sn, cu o grosime 23 de 2-10 pm, conform invenției, se efectuează operațiile descrise în continuare. Se prepară o cantitate de 500 cm3 de electrolit cu următoarea compoziție (g/l): Sb2O3 = 3, Ted = 3, 25 H2SO4 = 100, agent de complexare: acid tartric = 75, valoare p H = 1...2, pentru electrodepunerea de straturi Sb-Te. Se pregătește o cantitate de 500 cm3 de electrolit cu următoarea 27 compoziție (g/l): ZnSO4 = 40, SnSO4 = 4, H2SO4 = 100, Al2(SO4)3 = 10, agent de complexare: acid gluconic = 50, agent de luciu: fenol = 2, valoarea p H = 1...2, pentru electrodepunerea 29 de straturi Zn-Sn. Catodul celulei, este confecționat din foaie de tablă de Cu la dimensiunile de 30 x 10 mm; deoarece depunerea se va realiza doar pe o parte, cealaltă parte a catodului 31 va fi izolată cu un strat de vopsea. Partea expusă, este șlefuită pe hârtie abrazivă cu granulație crescătoare, degresată cu acetonă, spălată cu apă distilată și uscată. Înainte de 33 introducerea în prima baie de electrodepunere, catodul este activat prin cufundare pentru circa 1 min în soluție de HNO3 50%v/v și spălat cu apă distilată. După introducerea 35 electrozilor în prima baie de depunere (Sb-Te), se pornește procesul electrochimic, în regim potențiostatic, cu următorii parametri: tensiunea: 0,5 V; distanța anod-catod: 2 cm; tempe- 37 ratura de lucru: 25°C; timp de depunere: 30 min. La finalul procesului de depunere a primului strat, se oprește tensiunea de alimentare și electrozii sunt scoși din baia de depunere, spălați 39 cu apă distilată (în special catodul), pentru îndepărtarea urmelor de electrolit. Electrozii sunt introduși în baia de depunere Zn-Sn, se pornește procesul electrochimic, în regim potențio- 41 static, cu următorii parametri: tensiunea: 1,8 V; distanța anod-catod: 2 cm; temperatura electrolitului: 40°C; timp de depunere: 30 min. La finalul procesului de depunere a celui de 43 al doilea strat, se oprește tensiunea de alimentare, electrozii sunt scoși din baia de depunere și spălați cu apă distilată. 45
Procesul poate continua cu depunerea de noi straturi, prin desfășurarea electrodepunerii în baia 1, urmată de baia 2 etc. La finalul procesului, după depunerea numărului 3 dorit de straturi secvențiale, catodul este spălat cu apă distilată din abundență și uscat în curent de argon. Stratul de vopsea aplicat este îndepărtat prin răzuire. Ulterior straturile 5 depuse sunt tratate termic, în vederea inițierii de reacții în fază solidă prin difuziune cu scopul obținerii de faze cu proprietăți semiconductoare termoelectrice: Sb2Te3, Zn4Sb3, ZnTe etc.
Operația de tratament termic va consta în menținerea foliei de cupru cu straturile depuse la o temperatură de 350-400°C timp de 4 h în atmosferă de argon uscat și purificat. În final a 9 fost obținut un strat subțire de aliaj metalic din sistemul Sb-Te-Zn-Sn, cu caracteristici chimico-structurale, electrice și termice corespunzătoare pentru utilizarea în aplicații 11 termoelectrice.

Claims (3)

1. Procedeu de obținere a unor materiale cu proprietăți termoelectrice din sistemul 3 Sb-Te-Zn-Sn, utilizând drept substrat un catod de cupru, anodul fiind constituit din platină și un electrod de referință de calomel saturat, caracterizat prin aceea că, materialul este 5 obținut prin depunerea secvențială de straturi de aliaj Sb-Te, respectiv aliaj Zn-Sn, din băi de electrolit diferite, electrodepunerea fiind urmată de un tratament termic de omogenizare- 7 difuzie în atmosferă de argon la o temperatură de 350-400°C timp de 30...120 min, numărul de straturi fiind cuprins între 3 și 9. 9
2. Procedeu conform revendicării 1, caracterizat prin aceea că, electrodepunerea stratului de Sb-Te are loc prin co-depunere în soluții de electrolit cu următoarea compoziție 11 exprimată în g/l: Sb2O3 = 3...5, TeO2 = 3...6, H2SO4 - 100, agent de complexare: acid tartric = 75, cu o valoare de p H = 1...2, la o tensiune de 0,2...0,5 V, o densitate de curent catodică 13 de 1...5 mA/cm2 și o temperatură a electrolitului de 20...25°C.
3. Procedeu conform revendicării 1, caracterizat prin aceea că, electrodepunerea 15 stratului de Zn-Sn are loc prin co-depunere în soluții de electrolit cu următoarea compoziție exprimată în g/l: ZnSO4 = 40...50, SnSO4 = 2...10, H2SO4 = 100, Al2(SO4)3 = 5...10, agent de 17 complexare: acid gluconic = 50...100, agent de luciu: fenol = 1...3, la o valoare de p H = 1...2, o tensiune de 1,5...2,0 V, o densitate de curent catodică de 5...10 mA/cm2 și o temperatură 19 a electrolitului de 40...60°C.
ROA201700906A 2017-11-08 2017-11-08 Procedeu de obţinere a unor aliaje sb-te-zn-sn cu proprietăţi termoelectrice RO133345B1 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ROA201700906A RO133345B1 (ro) 2017-11-08 2017-11-08 Procedeu de obţinere a unor aliaje sb-te-zn-sn cu proprietăţi termoelectrice

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ROA201700906A RO133345B1 (ro) 2017-11-08 2017-11-08 Procedeu de obţinere a unor aliaje sb-te-zn-sn cu proprietăţi termoelectrice

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RO133345A2 RO133345A2 (ro) 2019-05-30
RO133345B1 true RO133345B1 (ro) 2023-05-30

Family

ID=66635651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ROA201700906A RO133345B1 (ro) 2017-11-08 2017-11-08 Procedeu de obţinere a unor aliaje sb-te-zn-sn cu proprietăţi termoelectrice

Country Status (1)

Country Link
RO (1) RO133345B1 (ro)

Also Published As

Publication number Publication date
RO133345A2 (ro) 2019-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Vinayakumar et al. CuSbS2 thin films by rapid thermal processing of Sb2S3-Cu stack layers for photovoltaic application
Lokhande et al. Electrodeposition of thin film semiconductors
Jiang et al. Pure Sulfide Cu 2 ZnSnS 4 Thin Film Solar Cells Fabricated by Preheating an Electrodeposited Metallic Stack.
TWI739759B (zh) 熱電發電元件及包含彼之熱電發電模組、以及使用彼之熱電發電方法
Mitzi Solution processing of chalcogenide semiconductors via dimensional reduction
JP5827689B2 (ja) 光起電装置のp−型半導体層を形成する方法及び熱界面を形成する方法
Olusola et al. Growth and characterisation of n-and p-type ZnTe thin films for applications in electronic devices
US20140124362A1 (en) Methods for fabricating thin film solar cells
Feng et al. Reliable contact fabrication on nanostructured Bi 2 Te 3-based thermoelectric materials
Rohom et al. Rapid thermal processed CuInSe2 layers prepared by electrochemical route for photovoltaic applications
US20130230933A1 (en) Methods for fabricating thin film solar cells
Mandati et al. Pulsed electrodeposition of CuInSe2 thin films with morphology for solar cell applications
KR101208065B1 (ko) 열전 반도체의 제조방법
Kabilan et al. Fabrication and characterization of electro-deposited Cu2ZnSnS4 thin film absorber layer for solar power engineering applications
CN104032336A (zh) 制造用于太阳能电池应用的吸光材料的非真空方法
Eguchi et al. Enhanced thermoelectric properties of electrodeposited Bi2Te3 thin films using TiN diffusion barrier layer on a stainless-steel substrate and thermal annealing
Yamamoto et al. Electrodeposition of Co–Sb thermoelectric film from ethylene glycol–CoCl2–SbCl3 solution
Desarada et al. CuInGaSe2 (CIGS) thin film on flexible Mo substrates from non-aqueous one-step electrodeposition process
RO133345B1 (ro) Procedeu de obţinere a unor aliaje sb-te-zn-sn cu proprietăţi termoelectrice
Rohom et al. Study of electrochemically grown copper indium diselenide (CIS) thin films for photovoltaic applications
Azmi et al. Comparative study on Cu 2 ZnSnS 4 (CZTS) thin film using different sulfur precursor
DK2982779T3 (en) Process for electrochemical separation of semiconducting materials and electrolytes therefor
Dergacheva et al. Electrodeposition of CuInxGa1− xSe2 thin films from sulfosalicylic acid
Indubala et al. Non-vacuum synthesis of CZTS by sulphurization of electrochemically layered zinc and tin on copper
JP2015195318A (ja) 金属カルコゲナイド化合物塗布組成物及び金属カルコゲナイド化合物膜付基板並びに光電変換素子