RO109245B1 - >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice - Google Patents
>Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice Download PDFInfo
- Publication number
- RO109245B1 RO109245B1 RO92-200218A RO92200218A RO109245B1 RO 109245 B1 RO109245 B1 RO 109245B1 RO 92200218 A RO92200218 A RO 92200218A RO 109245 B1 RO109245 B1 RO 109245B1
- Authority
- RO
- Romania
- Prior art keywords
- substrate
- roughness
- peak
- corrugations
- phase
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 title description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 51
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 abstract 1
- 235000019592 roughness Nutrition 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
Invenția se referă la o metodă care
permite evaluarea rugozităților mici ale suprafeței
substraturilor dielectrice, cu aplicații în domeniul
tehnologiei straturilor subțiri. Metoda constă în
depunerea, simultan, pe un substrat etalon cu
rugozitate foarte mică și pe substratul de
caracterizat, al unui strat rezistiv, din nichel-crom
și măsurarea rezistenței pe pătrat, prin măsurarea
raportului V/I rezultat pe ambele substraturi,
determinarea distanței medii vârf-vârf (d„) a
ondulațiilor în planul suprafeței substratului cu
rugozitate pe o fotografie realizată prin microscopie
electronică și calcularea, pe baza unei formule de
calcul deduse teoretic, a amplitudinii vârf-vale (Aj)
a ondulațiilor într-un plan perpendicular pe
suprafața substratului, obținându-se astfel
extinderea domeniului de caracterizare cu mai mult
de un ordin de mărime pentru rugozități cuprinse
între 2,5 /xm și aproximativ 1000 A .
Description
Invenția se referă la o metodă care permite evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, cu aplicații în domeniul tehnologiei structurilor subțiri.
Se cunoaște o metodă de măsurare a rugozității suprafețelor obiectelor metalice, constând din plasarea obiectului într-o cameră vidată cu un electrod de măsurare, suprafața de măsurat constituind un al doilea electrod, măsurarea curentului care rezultă între cei doi electrozi pentru diverse tensiuni aplicate între electrozi și aprecierea parametrilor de rugozitate funcție de curentul măsurat. Metoda are dezavantajul că nu este aplicabilă direct în cazul suprafețelor nemetalice ale obiectelor.
Se mai cunoaște o metodă de control al rugozității suprafețelor, aplicată și în cazul obiectelor nemetalice, constând din plasarea pe suprafața de măsurat a unui element piezoelectric, alimentat de la un generator de înaltă frecvență, reglarea tensiunii generatorului până când elementul piezoelectric alunecă pe suprafața de măsurat și aprecierea rugozității funcție de tensiunea măsurată, pe baza unei curbe determinată experimental. Metoda are dezavantajul că nu se pot obține informații privind amplitudinea ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafața substratului și totodată nu este aplicabilă în domeniul rugozităților mici.
Problema pe care o rezolvă invenția este realizarea unei metode care să permită evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice în domeniul sute de A 4-2,5 /im, prin determinarea amplitudinii ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafață.
Metoda pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice înlătură dezavantajele de mai sus, prin aceea că, în scopul obținerii de informații privind amplitudinea ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafața substratului și al extinderii domeniului de caracterizare, într-o primă fază, un strat rezistiv de nichel-crom, cu compoziția în domeniul (40:60) - (80:20) și cu grosimea de la câteva sute până la 1000 Â este depus simultan, prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică, pe un substrat etalon cu rugozitate foarte mică, practic, fără rugozitate și pe substratul de caracterizat, cantitatea de material rezistiv corespunzătoare unității de suprafață la scară macroscopică, distribuindu-se pe o suprafață mai mare la scară microscopică în cazul substratului cu rugozitate, având ca efect micșorarea grosimii stratului rezistiv, într-o a doua fază se determină valorile medii ale rezistenței pe pătrat prin măsurarea raportului V/I, atât pe suportul etalon , cât și pe suportul de caracterizat, într-o a treia fază se realizează o fotografie a suprafeței substratului de caracterizat, cu ajutorul căreia se determină distanța medie vârf-vârf a ondulațiilor în planul suprafeței, amplitudinea ondulațiilor, într-un plan perpendiucular pe suprafața substratului, rezultând din calcul, în funcție de valorile măsurate.
Metoda pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, conform invenției, prezintă următoarele avantaje:
- este nedistructivă (asigură evaluarea rugozității fără deteriorarea suprafeței);
- utilizează pentru caracterizare o parte din procesele de decapare, depunere, corodare etc., aflate în mod obișnuit pe fluxul de fabricație a componentelor și circuitelor microelectronice bazate pe straturi subțiri;
- permite extinderea domeniului de caracterizare pe mai mult de un ordin de mărime (de la 2,5 /im până la 1000 Â).
în cele ce urmează este descris un exemplu de realizare a invenției în legătură cu figurile 1...3, care reprezintă:
-fig.l, reprezentare schematică la scară microscopică pentru:
a) suprafața substratului etalon (fără rugozitate) și
b) suprafața substratului de caracterizat (cu rugozitate);
- fig.2, determinarea valorilor medii ale raportului V/I din valorile obținute în 9 puncte pe stratul rezistiv de nichel-crom pentru:
a) suprafața substratului etalon și
b) suprafața substratului de caracterizat;
- fig.3, obținerea valorii medii a dis109245 tanței vârf-vârf pe substratul de caracterizat pe o fotografie a suprafeței realizată prin microscopie electronică.
Metoda pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, conform invenției, se desfășoară în următoarele faze:
- faza 1, un strat rezistiv de nichelcrom, cu compoziție în domeniul (40:60) până la (80: 20) și cu grosimi care pot fi de la câteva sute până la 1000 A este depus simultan pe un substrat etalon 1 și pe substratul de caracterizat 2. Depunerea se poate face prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică.
- faza 2, se determină valorile medii ale rezistenței pe pătrat, definită ca Ra = 4,5 (V/Γ), din valorile medii ale raportului V/I pentru substratul etalon (V7/)o și pentru substratul de caracterizat (V//)],obținute prin medierea valorilor V/I măsurate în nouă puncte plasate într-o grilă pe suprafața celor două substraturi, așa cum reiese din fig.2 a, respectiv b.
- faza 3, se realizează prin microscopie electronică o fotografie a suprafeței de caracterizat, cu stratul rezistiv depus, pe care se determină distanța medie vârf-vârf (d0) a ondulațiilor în planul suprafeței, prin măsurarea acestei distanțe în mai multe puncte și calcularea mediei.
Pe baza datelor experimentale obținute în faza 2 și 3 se calculează amplitudinea vârfvale Aj a ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafață.
în cele ce urmează vor fi făcute unele considerații pe baza cărora a fost dedusă relația matematică pentru calculul amplitudinii vârf-vale a ondulațiilor suprafeței într-un plan perpendicular pe aceasta. Astfel, fig.l conține reprezentările schematice (rezultate prin secționarea cu acest plan) ale suprafeței la scară microscopică. Fig. la corespunde unui substrat etalon 1 a cărui suprafață a fost considerată perfect plană , iar fig.lb unui substrat de caracterizat 2, cu o rugozitate care se presupune a fi în domeniul între 1000 A și câțiva ^m. S-a notat cu h0 și h} grosimea unui strat rezistiv 3 de nichel-crom depus pe substratul etalon, respectiv pe cel de caracterizat. La scară microscopică, pe suprafața rugoasă grosimea stratului rezistiv este mai mică decât pe cea netedă, ceea ce înseamnă valori mai mari ale raportului V/I (sau ale rezistentei pe pătrat). în același timp, dacă se ia o lungime d0 egală cu distanța vârfvârf a ondulațiilor suprafeței substratului rugos, se observă că lungimea reală a liniei de rezistor este mai mare pe substratul rugos. Se precizează că, deși ondulațiile suprafeței au în general o formă neregulată, acestea au fost aproximate cu forma sinusoidală. Notând cu A, amplitudinea vârf-vale a ondulațiilor suprafeței rugoase, cu (V/I)o și (V/I)t valorile medii ale acestor raporturi pe substratul etalon, respectiv pe cel rugos, calculele matematice au dus la următoarea relație:
/ _,_\2
Datorită valorilor foarte mici ale rugozității suprafeței, ca etalon a fost ales substratul de sticlă Corning 7059. Se precizează că rugozitățile mai mici de 60 Â, garantate de firma producătoare, sunt de aproape 20 ori mai mici decât minimul domeniului (1000 Â) în care este aplicabilă metoda, astfel încât, la această scară, suprafața reală a substratului Corning 7059 poate fi aproximată cu suprafața netedă reprezentată schematic în fig. la. Estimându-se că, prin lustruire chimică, rugozitățile obținute pot fi de ordinul a mii de Â, ca substrat de caracterizat a fost ales safirul. După o degresare prin ultrasonare succesivă câte 5 min în tricloretilenă, acetonă, respectiv metanol, urmată de o fierbere timp de 24-3h într-o soluție 5% de detergent neionic, cele două substraturi au fost clătite în apă deionizată, după care au fost uscate întâi prin suflare cu jet de azot și apoi în etuvă la 110° C, timp de 1 h. Prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică, a fost depus un strat rezistiv de Ni-Cr (50: 50) cu grosimea de 500 Â. După efectuarea depunerii, s-au obținut pentru raportul V/I (măsurări în 9 puncte) valorile prezentate în fig.2. Din aceste determinări au fost calculate valorile medii: (V/I)o = 11,54 0 pentru substratul de sticlă Corning 7059, respectiv (V/I)I = 12,91Ω pentru substratul de safir.
Fără a îndepărta prin corodare stratul rezistiv de nichel-crom, prin microscopie electronică a fost realizată o fotografie ( cu mărire 6000 ) a suprafeței substratului de safir, această fotografie fiind prezentată în fig.3. Pentru a obține valoarea medie d0 a distanței vârf-vârf, în planul suprafeței substratului, pe fotografie au fost trasate 100 de segmente vârf-vârf. In etapa următoare, utilizând o riglă de precizie, au fost măsurate lungimile acestor segmente. Din aceste date rezultă o distanță medie vârf-vârf (la scara fotografiei): dmediu = 6,0505 mm. Având în vedere faptul că fotografia a fost realizată cu o mărire de 6000 ori, rezultă că distanța reală vârf-vârf va fi egală cu 10084 Â.
înlocuind datele obținute în relația (1), rezultă amplitudinea vârf-vale a ondulației Aj = 1700 Â.
Pentru a reduce erorile datorate structurii discontinue a straturilor de nichelcrom cu grosimea de câteva sute de Â, se recomandă utilizarea unor straturi cu valori ale grosimii înjur de 1000 Â (limita de jos la care stratul are o structură continuă). De asemenea, odată ce evaluarea a fost făcută, stratul de nichel-crom poate fi ușor îndepărtat de pe cele două substraturi, prin corodare chimică într-o soluție preparată cu: 164,5 g nitrat de ceriu și amoniu + 43 ml acid percloric + apă deionizată până la 1 1.
Claims (1)
- RevendicareMetodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, caracterizată prin aceea ca, în scopul obținerii de informații privind amplitudinea ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafața substratului și al extinderii domeniului de caracterizare, într-o primă fază, un strat rezistiv de nichel-crom, cu compoziția în domeniul (40:60) - (80:20) și cu grosimea de la câteva sute până la 1000 Â, este depus simultan, prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică, pe un substrat etalon cu rugozitate foarte mică, practic, fără rugozitate, și pe substratul de caracterizat, cantitatea de material rezistiv corespunzătoare unității de suprafață la scară macroscopică, distribuindu-se pe o suprafață mai mare la scară microscopică în cazul substratului cu rugozitate, având ca efect micșorarea grosimii stratului rezistiv, într-o a doua fază, se determină valorile medii ale rezistenței pe pătrat prin măsurarea raportului V/I atât pe suportul etalon (V/I)o, cât și pe substratul de caracterizat (V/I)j , într-o a treia fază, prin microscopie electronică se realizează o fotografie a suprafeței substratului de caracterizat, pe care se determină distanța medie vârf-vârf (î/0) a ondulațiilor în planul suprafeței, amplitudinea ondulațiilor (A,) întrun plan perpendicular pe suprafața substratului rezultând în funcție de valorile măsurate, conform formulei de calcul:1 )
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RO92-200218A RO109245B1 (ro) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RO92-200218A RO109245B1 (ro) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RO109245B1 true RO109245B1 (ro) | 1994-12-30 |
Family
ID=20098391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RO92-200218A RO109245B1 (ro) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RO (1) | RO109245B1 (ro) |
-
1992
- 1992-02-28 RO RO92-200218A patent/RO109245B1/ro unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Grimm et al. | AC impedance study of anodically formed salt films on iron in chloride solution | |
| Gardeniers et al. | Preferred orientation and piezoelectricity in sputtered ZnO films | |
| Marin et al. | Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel | |
| US3253219A (en) | Method using change of piezoelectric crystal frequency to determine corrosion rate and apparatus therefor | |
| Steele et al. | Capacitive humidity sensors with high sensitivity and subsecond response times | |
| Marin et al. | Chemical and mechanical characterization of TiO2/Al2O3 atomic layer depositions on AISI 316 L stainless steel | |
| Webster et al. | NbSi nanowire quantum phase-slip circuits: dc supercurrent blockade, microwave measurements, and thermal analysis | |
| CN110487166B (zh) | 薄膜应变传感器制备方法 | |
| Schneider et al. | Non-destructive characterization of plasma-sprayed ZrO2 coatings by ultrasonic surface waves | |
| Fedel et al. | Corrosion protection of silver coated reflectors by atomic layer deposited Al2O3 | |
| Oates et al. | Percolation threshold in ultrathin titanium films determined by in situ spectroscopic ellipsometry | |
| Wu et al. | Electrochemical characteristics of iridium coating by double glow plasma discharge process on titanium alloy substrates | |
| Lisenkov et al. | Aluminum anodization in deionized water as electrolyte | |
| JP2002163808A5 (ro) | ||
| CN118111582A (zh) | 一种负温度传感器、制备方法以及检测装置 | |
| Kameneva et al. | Effect of structure, phase, and elemental composition of AlN, CrAlN, and ZrAlN coatings on their electrochemical behavior in 3% NaCl solution | |
| RO109245B1 (ro) | >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice | |
| JP6869648B2 (ja) | 多層膜の成膜方法 | |
| Ghosh et al. | Impedance analysis of liquid film formed on electrically stressed Cr thin films | |
| Koch et al. | The AC electrical impedance of a fractal boundary to an electrolytic solution | |
| Bartók et al. | Application of surface roughness data for the evaluation of depth profile measurements of nanoscale multilayers | |
| Lee et al. | Pure ferroelectric polarization of lead-free Na0. 5K0. 5NbO3 thin films by using the double wave method | |
| Obraztsov et al. | Active control of the catalyst structure during sputtering the on surface of solid oxide electrolytes of fuel cells | |
| JP7217876B2 (ja) | 電子素子、温度センサー、磁気センサー、振動センサーおよび加速度センサー | |
| Lee et al. | Transient voltage analysis on a series capacitor of the floating probe for plasma diagnostics |