RO109245B1 - >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice - Google Patents

>Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice Download PDF

Info

Publication number
RO109245B1
RO109245B1 RO92-200218A RO92200218A RO109245B1 RO 109245 B1 RO109245 B1 RO 109245B1 RO 92200218 A RO92200218 A RO 92200218A RO 109245 B1 RO109245 B1 RO 109245B1
Authority
RO
Romania
Prior art keywords
substrate
roughness
peak
corrugations
phase
Prior art date
Application number
RO92-200218A
Other languages
English (en)
Inventor
Benedict Popescu
Stefan Iovan
Original Assignee
Inst De Cercetari Pentru Compo
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst De Cercetari Pentru Compo filed Critical Inst De Cercetari Pentru Compo
Priority to RO92-200218A priority Critical patent/RO109245B1/ro
Publication of RO109245B1 publication Critical patent/RO109245B1/ro

Links

Landscapes

  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Abstract

Invenția se referă la o metodă care permite evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, cu aplicații în domeniul tehnologiei straturilor subțiri. Metoda constă în depunerea, simultan, pe un substrat etalon cu rugozitate foarte mică și pe substratul de caracterizat, al unui strat rezistiv, din nichel-crom și măsurarea rezistenței pe pătrat, prin măsurarea raportului V/I rezultat pe ambele substraturi, determinarea distanței medii vârf-vârf (d„) a ondulațiilor în planul suprafeței substratului cu rugozitate pe o fotografie realizată prin microscopie electronică și calcularea, pe baza unei formule de calcul deduse teoretic, a amplitudinii vârf-vale (Aj) a ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafața substratului, obținându-se astfel extinderea domeniului de caracterizare cu mai mult de un ordin de mărime pentru rugozități cuprinse între 2,5 /xm și aproximativ 1000 A .

Description

Invenția se referă la o metodă care permite evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, cu aplicații în domeniul tehnologiei structurilor subțiri.
Se cunoaște o metodă de măsurare a rugozității suprafețelor obiectelor metalice, constând din plasarea obiectului într-o cameră vidată cu un electrod de măsurare, suprafața de măsurat constituind un al doilea electrod, măsurarea curentului care rezultă între cei doi electrozi pentru diverse tensiuni aplicate între electrozi și aprecierea parametrilor de rugozitate funcție de curentul măsurat. Metoda are dezavantajul că nu este aplicabilă direct în cazul suprafețelor nemetalice ale obiectelor.
Se mai cunoaște o metodă de control al rugozității suprafețelor, aplicată și în cazul obiectelor nemetalice, constând din plasarea pe suprafața de măsurat a unui element piezoelectric, alimentat de la un generator de înaltă frecvență, reglarea tensiunii generatorului până când elementul piezoelectric alunecă pe suprafața de măsurat și aprecierea rugozității funcție de tensiunea măsurată, pe baza unei curbe determinată experimental. Metoda are dezavantajul că nu se pot obține informații privind amplitudinea ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafața substratului și totodată nu este aplicabilă în domeniul rugozităților mici.
Problema pe care o rezolvă invenția este realizarea unei metode care să permită evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice în domeniul sute de A 4-2,5 /im, prin determinarea amplitudinii ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafață.
Metoda pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice înlătură dezavantajele de mai sus, prin aceea că, în scopul obținerii de informații privind amplitudinea ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafața substratului și al extinderii domeniului de caracterizare, într-o primă fază, un strat rezistiv de nichel-crom, cu compoziția în domeniul (40:60) - (80:20) și cu grosimea de la câteva sute până la 1000 Â este depus simultan, prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică, pe un substrat etalon cu rugozitate foarte mică, practic, fără rugozitate și pe substratul de caracterizat, cantitatea de material rezistiv corespunzătoare unității de suprafață la scară macroscopică, distribuindu-se pe o suprafață mai mare la scară microscopică în cazul substratului cu rugozitate, având ca efect micșorarea grosimii stratului rezistiv, într-o a doua fază se determină valorile medii ale rezistenței pe pătrat prin măsurarea raportului V/I, atât pe suportul etalon , cât și pe suportul de caracterizat, într-o a treia fază se realizează o fotografie a suprafeței substratului de caracterizat, cu ajutorul căreia se determină distanța medie vârf-vârf a ondulațiilor în planul suprafeței, amplitudinea ondulațiilor, într-un plan perpendiucular pe suprafața substratului, rezultând din calcul, în funcție de valorile măsurate.
Metoda pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, conform invenției, prezintă următoarele avantaje:
- este nedistructivă (asigură evaluarea rugozității fără deteriorarea suprafeței);
- utilizează pentru caracterizare o parte din procesele de decapare, depunere, corodare etc., aflate în mod obișnuit pe fluxul de fabricație a componentelor și circuitelor microelectronice bazate pe straturi subțiri;
- permite extinderea domeniului de caracterizare pe mai mult de un ordin de mărime (de la 2,5 /im până la 1000 Â).
în cele ce urmează este descris un exemplu de realizare a invenției în legătură cu figurile 1...3, care reprezintă:
-fig.l, reprezentare schematică la scară microscopică pentru:
a) suprafața substratului etalon (fără rugozitate) și
b) suprafața substratului de caracterizat (cu rugozitate);
- fig.2, determinarea valorilor medii ale raportului V/I din valorile obținute în 9 puncte pe stratul rezistiv de nichel-crom pentru:
a) suprafața substratului etalon și
b) suprafața substratului de caracterizat;
- fig.3, obținerea valorii medii a dis109245 tanței vârf-vârf pe substratul de caracterizat pe o fotografie a suprafeței realizată prin microscopie electronică.
Metoda pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, conform invenției, se desfășoară în următoarele faze:
- faza 1, un strat rezistiv de nichelcrom, cu compoziție în domeniul (40:60) până la (80: 20) și cu grosimi care pot fi de la câteva sute până la 1000 A este depus simultan pe un substrat etalon 1 și pe substratul de caracterizat 2. Depunerea se poate face prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică.
- faza 2, se determină valorile medii ale rezistenței pe pătrat, definită ca Ra = 4,5 (V/Γ), din valorile medii ale raportului V/I pentru substratul etalon (V7/)o și pentru substratul de caracterizat (V//)],obținute prin medierea valorilor V/I măsurate în nouă puncte plasate într-o grilă pe suprafața celor două substraturi, așa cum reiese din fig.2 a, respectiv b.
- faza 3, se realizează prin microscopie electronică o fotografie a suprafeței de caracterizat, cu stratul rezistiv depus, pe care se determină distanța medie vârf-vârf (d0) a ondulațiilor în planul suprafeței, prin măsurarea acestei distanțe în mai multe puncte și calcularea mediei.
Pe baza datelor experimentale obținute în faza 2 și 3 se calculează amplitudinea vârfvale Aj a ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafață.
în cele ce urmează vor fi făcute unele considerații pe baza cărora a fost dedusă relația matematică pentru calculul amplitudinii vârf-vale a ondulațiilor suprafeței într-un plan perpendicular pe aceasta. Astfel, fig.l conține reprezentările schematice (rezultate prin secționarea cu acest plan) ale suprafeței la scară microscopică. Fig. la corespunde unui substrat etalon 1 a cărui suprafață a fost considerată perfect plană , iar fig.lb unui substrat de caracterizat 2, cu o rugozitate care se presupune a fi în domeniul între 1000 A și câțiva ^m. S-a notat cu h0 și h} grosimea unui strat rezistiv 3 de nichel-crom depus pe substratul etalon, respectiv pe cel de caracterizat. La scară microscopică, pe suprafața rugoasă grosimea stratului rezistiv este mai mică decât pe cea netedă, ceea ce înseamnă valori mai mari ale raportului V/I (sau ale rezistentei pe pătrat). în același timp, dacă se ia o lungime d0 egală cu distanța vârfvârf a ondulațiilor suprafeței substratului rugos, se observă că lungimea reală a liniei de rezistor este mai mare pe substratul rugos. Se precizează că, deși ondulațiile suprafeței au în general o formă neregulată, acestea au fost aproximate cu forma sinusoidală. Notând cu A, amplitudinea vârf-vale a ondulațiilor suprafeței rugoase, cu (V/I)o și (V/I)t valorile medii ale acestor raporturi pe substratul etalon, respectiv pe cel rugos, calculele matematice au dus la următoarea relație:
/ _,_\2
Datorită valorilor foarte mici ale rugozității suprafeței, ca etalon a fost ales substratul de sticlă Corning 7059. Se precizează că rugozitățile mai mici de 60 Â, garantate de firma producătoare, sunt de aproape 20 ori mai mici decât minimul domeniului (1000 Â) în care este aplicabilă metoda, astfel încât, la această scară, suprafața reală a substratului Corning 7059 poate fi aproximată cu suprafața netedă reprezentată schematic în fig. la. Estimându-se că, prin lustruire chimică, rugozitățile obținute pot fi de ordinul a mii de Â, ca substrat de caracterizat a fost ales safirul. După o degresare prin ultrasonare succesivă câte 5 min în tricloretilenă, acetonă, respectiv metanol, urmată de o fierbere timp de 24-3h într-o soluție 5% de detergent neionic, cele două substraturi au fost clătite în apă deionizată, după care au fost uscate întâi prin suflare cu jet de azot și apoi în etuvă la 110° C, timp de 1 h. Prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică, a fost depus un strat rezistiv de Ni-Cr (50: 50) cu grosimea de 500 Â. După efectuarea depunerii, s-au obținut pentru raportul V/I (măsurări în 9 puncte) valorile prezentate în fig.2. Din aceste determinări au fost calculate valorile medii: (V/I)o = 11,54 0 pentru substratul de sticlă Corning 7059, respectiv (V/I)I = 12,91Ω pentru substratul de safir.
Fără a îndepărta prin corodare stratul rezistiv de nichel-crom, prin microscopie electronică a fost realizată o fotografie ( cu mărire 6000 ) a suprafeței substratului de safir, această fotografie fiind prezentată în fig.3. Pentru a obține valoarea medie d0 a distanței vârf-vârf, în planul suprafeței substratului, pe fotografie au fost trasate 100 de segmente vârf-vârf. In etapa următoare, utilizând o riglă de precizie, au fost măsurate lungimile acestor segmente. Din aceste date rezultă o distanță medie vârf-vârf (la scara fotografiei): dmediu = 6,0505 mm. Având în vedere faptul că fotografia a fost realizată cu o mărire de 6000 ori, rezultă că distanța reală vârf-vârf va fi egală cu 10084 Â.
înlocuind datele obținute în relația (1), rezultă amplitudinea vârf-vale a ondulației Aj = 1700 Â.
Pentru a reduce erorile datorate structurii discontinue a straturilor de nichelcrom cu grosimea de câteva sute de Â, se recomandă utilizarea unor straturi cu valori ale grosimii înjur de 1000 Â (limita de jos la care stratul are o structură continuă). De asemenea, odată ce evaluarea a fost făcută, stratul de nichel-crom poate fi ușor îndepărtat de pe cele două substraturi, prin corodare chimică într-o soluție preparată cu: 164,5 g nitrat de ceriu și amoniu + 43 ml acid percloric + apă deionizată până la 1 1.

Claims (1)

  1. Revendicare
    Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice, caracterizată prin aceea ca, în scopul obținerii de informații privind amplitudinea ondulațiilor într-un plan perpendicular pe suprafața substratului și al extinderii domeniului de caracterizare, într-o primă fază, un strat rezistiv de nichel-crom, cu compoziția în domeniul (40:60) - (80:20) și cu grosimea de la câteva sute până la 1000 Â, este depus simultan, prin evaporare instantanee în vid înalt sau prin pulverizare catodică, pe un substrat etalon cu rugozitate foarte mică, practic, fără rugozitate, și pe substratul de caracterizat, cantitatea de material rezistiv corespunzătoare unității de suprafață la scară macroscopică, distribuindu-se pe o suprafață mai mare la scară microscopică în cazul substratului cu rugozitate, având ca efect micșorarea grosimii stratului rezistiv, într-o a doua fază, se determină valorile medii ale rezistenței pe pătrat prin măsurarea raportului V/I atât pe suportul etalon (V/I)o, cât și pe substratul de caracterizat (V/I)j , într-o a treia fază, prin microscopie electronică se realizează o fotografie a suprafeței substratului de caracterizat, pe care se determină distanța medie vârf-vârf (î/0) a ondulațiilor în planul suprafeței, amplitudinea ondulațiilor (A,) întrun plan perpendicular pe suprafața substratului rezultând în funcție de valorile măsurate, conform formulei de calcul:
    1 )
RO92-200218A 1992-02-28 1992-02-28 >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice RO109245B1 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RO92-200218A RO109245B1 (ro) 1992-02-28 1992-02-28 >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RO92-200218A RO109245B1 (ro) 1992-02-28 1992-02-28 >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RO109245B1 true RO109245B1 (ro) 1994-12-30

Family

ID=20098391

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RO92-200218A RO109245B1 (ro) 1992-02-28 1992-02-28 >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice

Country Status (1)

Country Link
RO (1) RO109245B1 (ro)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Grimm et al. AC impedance study of anodically formed salt films on iron in chloride solution
Gardeniers et al. Preferred orientation and piezoelectricity in sputtered ZnO films
Marin et al. Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
US3253219A (en) Method using change of piezoelectric crystal frequency to determine corrosion rate and apparatus therefor
Steele et al. Capacitive humidity sensors with high sensitivity and subsecond response times
Marin et al. Chemical and mechanical characterization of TiO2/Al2O3 atomic layer depositions on AISI 316 L stainless steel
Webster et al. NbSi nanowire quantum phase-slip circuits: dc supercurrent blockade, microwave measurements, and thermal analysis
CN110487166B (zh) 薄膜应变传感器制备方法
Schneider et al. Non-destructive characterization of plasma-sprayed ZrO2 coatings by ultrasonic surface waves
Fedel et al. Corrosion protection of silver coated reflectors by atomic layer deposited Al2O3
Oates et al. Percolation threshold in ultrathin titanium films determined by in situ spectroscopic ellipsometry
Wu et al. Electrochemical characteristics of iridium coating by double glow plasma discharge process on titanium alloy substrates
Lisenkov et al. Aluminum anodization in deionized water as electrolyte
JP2002163808A5 (ro)
CN118111582A (zh) 一种负温度传感器、制备方法以及检测装置
Kameneva et al. Effect of structure, phase, and elemental composition of AlN, CrAlN, and ZrAlN coatings on their electrochemical behavior in 3% NaCl solution
RO109245B1 (ro) >Metodă pentru evaluarea rugozităților mici ale suprafeței substraturilor dielectrice
JP6869648B2 (ja) 多層膜の成膜方法
Ghosh et al. Impedance analysis of liquid film formed on electrically stressed Cr thin films
Koch et al. The AC electrical impedance of a fractal boundary to an electrolytic solution
Bartók et al. Application of surface roughness data for the evaluation of depth profile measurements of nanoscale multilayers
Lee et al. Pure ferroelectric polarization of lead-free Na0. 5K0. 5NbO3 thin films by using the double wave method
Obraztsov et al. Active control of the catalyst structure during sputtering the on surface of solid oxide electrolytes of fuel cells
JP7217876B2 (ja) 電子素子、温度センサー、磁気センサー、振動センサーおよび加速度センサー
Lee et al. Transient voltage analysis on a series capacitor of the floating probe for plasma diagnostics