PT100448A

PT100448A - Processo e dispositivo de afericao de um pirometro optico e placas de calibracao correspondentes

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Publication number: PT100448A
Application number: PT100448A
Authority: PT
Original assignee: Europ Communities
Priority date: 1991-05-02
Filing date: 1992-05-04
Publication date: 1994-04-29
Also published as: IE921487A1; CA2108571A1; US5553939A; JPH06509638A; ATE115721T1; EP0582645A1; DE69200926D1; EP0582645B1; IE72191B1; WO1992019943A1; LU87933A1

Description

PATENTE DE INVENÇÃO d e "PROCESSO E DISPOSITIVO DE AFERIÇÃO DE UM PIRÓMETRO ÓPTICO E PLACAS DE CALIBRAÇÃO CORRESPONDENTES"

Requerente COMMUNAUTE ECONOMIQUE EUROPEENNE (CEE), luxembur-guesa, industrial e comercial, com sede em Bâti-ment Jean Monnet, Plateau du Kirchberg, L-2920 LUXEMBURGO. A presente invenção refere-se a um processo e a ura dispositivo de aferição de um pirómetro óptico e das placas de calibração ou aferidoras correspondentes. Uma das aplicações da presente invenção visa em particular a calibração de pirómetros associados a fornos de tratamento térmico rápido de placas semicondutoras de silício, germânio, arsenieto de gálio, etc.. É habitual, em especial na aplicação atrás referida, medir a temperatura que reina no interior de um forno por meio de um pirómetro óptico. Um tal instrumento permite determinar a temperatura de um corpo (placas a tratar) analisando a radiação emitida por este, sem qualquer contacto físico com o próprio corpo.

Todavia, um pirómetro está sujeito a desajustes e/ou derivas, em especial em função do número de medições efectuadas. Até ao presente, para reaferir um tal pirómetro, fixava-se um termopar de referência na face superior de uma placa colocada num forno e aferia-se o pirómetro de modo que as indicações dadas pelo termopar e as dadas pelo pirómetro coincidissem. ¢- 2

Um tal modo de aferição, apresenta numerosos inconvenientes, o mais importante dos quais é que ele necessita da instalação de um termopar no forno, com as suas ligações, eléctricas e ainda os meios de tratamento dos sinais. Na maior parte das aplicações, é imperativo que os objectos tratados (placas) o sejam na ausência de qualquer poluição e portanto de qualquer manutenção. Ora, a introdução do termopar no forno de tratamento e a passagem das ligações eléctricas são factores de poluição. Além disso, os fios do termopar devem ser soldados na placa por soldaduras que são feitas com um material diferente do da placa. Por isso, a indicação da temperatura dada pelo termopar, está corrompida por um erro inerente à natureza e à forma das soldaduras. Este erro, dificilmente previsível, não pode ser corrigido de maneira reprodutível. 0 objecto da presente invenção consiste em ultrapassar o conjunto destes inconvenientes, proporcionando um processo e um dispositivo de aferição de um pirómetro óptico, que não precise da introdução de corpos estranhos no forno e permitindo a aferição "in loco" do pirómetro.

Para isso, o processo segundo a presente invenção para a aferição de um pirómetro óptico consiste em: a) colocar num forno uma placa provida de uma zona de aferição em pelo menos uma parte de uma das suas faces, dita face activa, apresentando a zona chamada de aferição, uma descontinuidade de reflexão das ondas electromagnéticas, a uma temperatura conhecida; b) emitir uma onda electromagnética na direcção da zona de aferição; c) medir e registar a intensidade da onda reflectida pela dita zona de aferição; d) medir e registar a temperatura da zona de aferição, - 3 - por meio do pirómetro óptico a aferir; e) aumentar a temperatura do forno; f) determinar o instante em que se observa uma desconti- nuidade de reflexão da onda electromagnética; g) referenciar o valor de temperatura medida pelo pirómetro nesse instante; h) comparar esse valor de temperatura medida com o valor de temperatura conhecida; i) fazer coincidir o valor de temperatura medida pelo pirómetro e o valor de temperatura conhecida.

Assim, emitindo uma onda electromagnética, e em especial uma onda de raios laser, para a zona chamada de aferição da placa, cria-se uma radiação reflectida por esta zona de aferição. A medição e o registo da intensidade desta radiação reflectida, permitem seguir a evolução do coeficiente de reflexão da zona de aferição durante a subida de temperatura do forno. Simultâneamente, o pirómetro a aferir mede a temperatura da zona de aferição. A determinação do instante em que aparece uma descon-tinuidade de reflexão permite referenciar o valor da temperatura medida pelo pirómetro neste instante. Por comparação deste valor de temperatura medida e do valor de temperatura conhecida correspondente à descontinuidade observada, determina-se a correcção a introduzir no pirómetro a aferir.

Efectua-se assim uma aferição "in loco" do pirómetro óptico associado a um forno determinado, sem introdução de corpos estranhos no forno.

Numa forma de realização preferida do processo, utiliza-se uma placa cuja zona de aferição é constituída por um material activo que apresenta uma descontinuidade de reflexão na sua passagem do estado sólido para o estado líquido. De preferência, a temperatura conhecida é o ponto de fusão deste material activo.

De preferência e para afinar a medida da intensidade da radiação reflectida, faz-se uma filtragem cromática antes da medição, para eliminar toda a onda electromagnética parasita, (proveniente dos elementos calefactores do forno, por exemplo). A presente invenção refere-se igualmente a um dispositivo de aferição de um pirómetro óptico associado a um forno, com vista a fornecer num sinal eléctrico função da temperatura, caracterizado por compreender : - uma placa provida de uma zona chamada de aferição, que apresenta uma descontinuidade de reflexão das ondas electromagnéticas a uma temperatura conhecida e adaptada para ser alojada no forno de modo que a sua zona de aferição fique no eixo de mira do pirómetro a aferir; - um emissor de ondas electromagnéticas adaptado para emitir uma onda electromagnética na direcção da zona de aferição da placa; - um sensor de ondas electromagnéticas disposto para receber a radiação reflectida pela zona de aferição e adaptado para fornecer um sinal eléctrico proporcional à intensidade desta radiação; - meios de tratamento de sinais dispostos para receber os sinais eléctricos provenientes do sensor e do pirómetro a aferir e adaptados para detectar o instante do aparecimento de uma descontinuidade no sinal proveniente do sensor e para fornecer um sinal, denominado de temperatura de aferição, representativo do sinal de temperatura proveniente do pirómetro neste instante; - meios de comparação do sinal de temperatura de aferição e de um sinal prescrito representativo da temperatura conhecida correspondente à descontinuidade de reflexão atrás mencionadas, adaptados para fornecer um sinal de correcção representativo da diferença entre estes sinais; 5 - % - e meios de correcção do pirómetro dispostos para receber o sinal de correcção e adaptados para aplicar este sinal a meios de aferição do pirómetro a fim de fazer coincidir os valores de temperatura de aferição e da temperatura conhecida.

Graças a estas disposições, por um lado, o sensor envia um sinal eléctrico aos meios de tratamento dos sinais, o que permite seguir a evolução do coeficiente de reflexão da zona de aferição e, por outro lado, e simultaneamente, o pirómetro a aferir permite seguir a evolução da temperatura da zona de aferição è enviar para os meios de tratamento dos sinais o valor da temperatura que ele mede. Quando os meios de oratamento dos sinais detectarem uma descontinuidade da reflexão, o valor de temperatura, denominada de aferição, medido nesse instante pelo pirómetro, é referenciado. Os meios de comparação, constituídos por exemplo por memórias electrónicas, comparam o valor de temperatura de aferição com um valor de temperatura conhecida, determinando depois a correcção a introduzir no pirómerro para fazer coincidir estes dois valores.

Realiza-se assim uma aferição do pirómetro "in loco" de maneira automática e sem a introdução de um corpo estranho no forno.

Segundo uma forma de realização preferida da presente invenção, o valor de temperacura conhecido é a temperatura de fusão de um material activo da zona de aferição. A presente invenção refere-se igualmente a uma placa de calibração para a aferição de um pirómetro óptico, caracterizada por apresentar uma face activa e uma face inactiva e uma espessura tal que as faces activa e inactiva sejam sensivelmente isotérmicas, e por compreender em pelo menos uma parte da sua face activa uma zona chamada de aferição, que possui uma camada de material activo que apresenta uma descontinuidade de reflexão no seu ponto de fusão. ο

Graças a tal disposição, quando o material activo da zona de aferição estiver no seu ponto de fusão, observa-se uma descontinuidade de reflexão. Como a temperatura de fusão é conhecida de maneira muito precisa, a descontinuidade de reflexão observada permite determinar com precisão o instante em que é atingida esta temperatura conhecida. É assim possível aferir um pirómetro óptico associado a esta placa.

Numa primeira forma de realização, a zona chamada de aferição cobre a totalidade da superfície activa da placa.

Numa segunda forma de realização, a zona dita de aferição, apenas cobre uma parte da superfície activa, destinando-se a restante a receber um tratamento usual.

De preferência, o material activo é um corpo puro cristalino e a placa é constituída por uma pluralidade de camadas finas de materiais. 0 processo, o dispositivo e a placa de calibra-ção ou aferição referidos, permitem aferir "in loco" (num forno) um aparelho de medição da temperatura e isso sem introduzir corpos estranhos no forno.

Outros objectos, características e vantagens da presente invenção serão evidenciados na descrição que vai seguir-se, a título de exemplo, com referência aos desenhos anexos, cujas figuras representam: A Fig. 1 - uma vista esquemática, parcialmente em perspectiva, que mostra o dispositivo segundo a presente invenção; A Fig. 2 - uma vista esquemática em corte e numa escala maior de uma placa segundo a presente invenção e de um pirómetro associado. $ 4.·

De acordo com a forma de realizaçãc descrita e ilustrada nas Figs. 1 e 2, o dispositivo de aferição (10) segundo a presente invenção, compreende u.n emissor de ondas electromagnéticas (11), um sensor (12), meios de tratamento dos sinais (32), meios de comparação (31), meios de correcção (33) e uma placa de aferição (18). Este dispositivo permite aferir um pirómetro (14) associado a um forno (15) que contém uma pluralidade de elementos calefactores (16) distribuídos de um lado e do outro de uma célula de quartzo (17). 0 forno (15) está fechado por uma porta (não representada) que dá acesso à célula (17) e permite a colocação no lugar, nesta célula, de um elemento a tratar (18), denominado placa.

Esta placa (18) assenta com a sua face inferior, dita inactiva, em suportes pontuais (não representados). A sua face superior, dita activa é, nc exemplo, inteiramente constituída por uma zona de calibração que compreende um material activo. Este material activo apresenta uma descontinuidade de reflexão no seu ponto de fusão. (Esta placa será descrita mais adiante com mais pormenor). 0 emissor de ondas electromagnéticas (11) é geralmente um dispositivo de laser (por exemplo do tipo comercializado com a designação de "Spectra Physics 155"). 0 sensor óptico (12) associado a este tipo de emissor é, por exemplo, um fotodíodo (do tipo comercializado com a designação de "OCLY 110C"). Esse sensor óptico está provido de um filtro cromático (19) (por exemplo um filtro óptico comercializado com a designação de "ORIEL”, com faixa de passagem de 1 nm centrada no comprimento de onda de 0,6328 micrómetros, e de ur. diafragma (20). 0 sensor óptico está ligado aos meios de zratamento dos sinais (32), aos quais fornece um sinal eléctrico proporcional à intensidade da radiação que recebe. 0 pirómetro (14) está provido de um conjunto de aferição, remotamente comandado. Representando, distingue-se apenas um potenció- - 8 - metro de regulação (25). Esse pirómetro óptico é do tipo comercializado com a designação "IRCON" ou análogo. Este pirómetro é. colocado fora do forno (15) em frente de uma abertura (26) feita neste forno e visa a face inactiva da placa. 0 pirómetro está ligado aos meios de tratamento dos sinais (32) aos quais fornece um sinal proporcional à temperatura do corpo que ele visa.

Formam-se também aberturas (27) e (28) no forno (sem no entanto prejudicar o bom isolamento do forno) para a passagem de um raio incidente (A) e um raio reflectido (R).

Os meios de tratamento dos sinais (32) estão ligados ao sensor e ao pirómetro e são constituídos por um conjunto de memórias electrónicas.

Os meios de comparação (31) estão ligados ao meio de tratamento dos sinais (32) e são constituídos por uma unidade central de cálculo.

Finalmente, os meios de correcção (33) estão ligados aos meios de comparação (31 ) e fornecem um sinal de comando ao conjunto de aferição (25). 0 dispositivo segundo a presente invenção funciona da maneira descrita a seguir.

Emite-se um feixe de raios laser incidente (A) pelo emissor (11) na direcção da placa (18), mais exactamente, na direcção da zona de calibração desta placa. 0 feixe incidente (A) passa assim pela abertura (27) do forno e depois contacta com a placa (18) numa zona (I). Um feixe reflectido (R) é por sua vez enviado e, depois de passar pela abertura (28) do forno, é captado através do filtro (19) pelo sensor (12). Este sensor fornece aos meios de tratamento dos sinais (32) um sinal elêctrico proporcional à intensidade da luz que captou. Este sinal é portanto função de coeficiente de reflexão da zona de calibração.

Simultaneamente, o pirómetro a aferir (14) mede a temperatura da plaqueta (18), visando a face inactiva da plaqueta (18) abaixo da zona (I). ‘v - 9 -

Como será explicado mais adiante, a temperatura da .placa (18) na sua face activa e na sua face inactiva é sensivelmente idêntica.

Quando se fecha a porta do forno, os elementos calefactores (16) são postos em funcionamento, subindo a temperatura no interior da célula. Quando a temperatura na célula for tal, que provoque a fusão da camada activa da placa (18), a intensidade reflectida da zona de aferição (I) varia de maneira importante e intantânea. Os meios de tratamento, dos sinais anotam então a temperatura medida, ou seja a temperatura de aferição, pelo pirómetro no instante em que se observa a descontinuidade de reflexão.

Os meios de comparação (31 ) comparam o valor de temperatura de aferição e o sinal prescrito representativo da temperatura conhecida (t ) correspondente ao ponto de fusão do material activo. Desta comparação resulta um sinal de correcção representativo da diferença entre estes sinais. Este sinal de correcção é fornecido aos meios de correcção (33), que enviam um sinal de comando ao conjunto de aferição (25) do pirómetro. Assim, o valor de temperatura de aferição corresponde agora à temperatura de fusão conhecida (t ). 0 pirómetro é então aferido correctamente.

Deve notar-se que o dispositivo anteriormente descrito pode ser provido de um emissor, um sensor, etc. diferentes dos qpe têm as designações comerciais indicadas. Estas designações foram dadas apenas a título de informação, para maior clareza da presente descrição.

Deve notar-se que o dispositivo laser empregado pode ser um laser contínuo ou um laser pulsatório, associado neste caso, a uma detecção síncrona.

Quando se utiliza um laser contínuo, o sensor (II) associado está provido de um diafragma (20) para eliminar as ondas electromagnéticas parasitas.

Em variante, é possível substituir os meios de tratamento dos’ sinais (32), de comparação (31) e de correcção (33) por uma mesa traçadora e um utilizador. % 10 % 10 ν

Neste caso, os meios de tratamento dos sinais são constituídos pela mesa traçadora. Esta mesa imprime curvas da intensidade da radiação em função do tempo e da temperatura em função do tempo. 0 utilizador substitui os meios de comparação (31) e de correcção (33). Quando a curva da intensidade da radiação reflectida mostrar uma variação brusca, anota--se o instante em que se observa esta variação. 0 utilizador lê então na curva de temperatura medida o valor da temperatura de aferição medida nesse instante. 0 utilizador compara este valor de temperatura de aferição com a temperatura conhecida (t ) correspondente à temperatura de fusão do material activo da zona dita de aferição. Determina assim a diferença entre a temperatura de aferição e a temperatura conhecida. Então actua no potenciómetro de aferição (25) para levar essa diferença ao zero. 0 pirómetro está então aferido correctamente.

Como atrás se indicou, a placa (18) está provida de uma zona chamada de aferição. De preferência, esta placa é constituída como se descreve a seguir. A placa (18) apresenta a forma geral de um disco. É constituída por uma pluralidade de materiais depositados sob a forma de camadas finas e compreende uma face activa (29) e uma face inactiva (30). Da face activa para a face inactiva, encontrám-se sucessivamente uma camada de protecção (24), uma camada activa (21), uma camada de separação (22) e uma camada de suporte (23). A camada de protecção (24) pode eventualmente ser omitida. A temperatura de fusão desta camada de protecção é mais elevada do que a temperatura de fusão da camada activa. A camada activa (21) é constituída por um corpo puro cristalino que apresenta uma descontinuidade de reflexão à sua temperatura de fusão. A camada de separação destina-se a impedir a mistura da camada activa e da camada de suporte quando a camada activa está em fusão. Esta camada de separação apresenta uma boa condutividade térmica. É muito importante que a temperatura de fusão da camada activa seja inferior às temperaturas de fusão das camadas que envolvem a mesma (isto é, das camadas de separação e de protecção e da camada de suporte). Para isso, a camada de protecção (24) é feita à base de nitreto de silício (Si^ N^), geralmente depositado quimicamente na fase de vapor, a camada activa é à base de germânio (Ge), a camada de separação é à base de óxido de silício (Si02 ) e a camada de suporte é è base de silício (Si).

Os materiais atrás referidos são apenas exemplos de realização. Podem ser usados muitos outros materiais, desde que satisfaçam as condições impostas e atrás mencionadas . 0 facto de a camada activa (21) ser constituída por um corpo puro cristalino implica que a sua temperatura de fusão é conhecida com muito grande precisão. Por isso, a aferição do pirómetro pode ser efectuada com uma precisão da ordem de 1o ou menos.

Deve notar-se que a camada de protecção (24) pode ser omitida. Nesse caso, ficamos sujeitos a que o material activo em fusão vá depositar-se na célula de quartzo (17) do forno. Para certas aplicações pode conceber--se que um tal depósito não seja um inconveniente.

Deve sublinhar-se que, graças à realização da placa sob a forma de camadas finas de materiais, ela representa uma espessura muito pequena.

De preferência, numa camada muito fina de silício, da ordem de 250 micrómetros, a camada de separação de óxido de silício tem uma espessura de 5000 %, a camada activa de germânio apresenta igualmente uma espessura o , . de 5000 A e a camada de protecção de nitreto de silício é de cerca de 1000 A. A espessura total da placa é pois da ordem de 250 micrómetros, podendo ser inferior.

Dada a boa condutividade térmica do conjunto dos materiais que constituem a placa e o seu depósito sob a forma de camadas finas, obtém-se uma placa em equilíbrio térmico na direcção vertical. Pode assim considerar--se que a zona de impacto do feixe laser na face activa da placa e a zona de mira do pirómetro situada na face inactiva, por baixo da zona de incidência do feixe laser, constituem duas superfícies sensivelmente isotérmicas.

Uma tal placa cuja face activa é. completamente constituída por uma zona de aferição, destina-se a ser colocada regularmente no forno por meio de um robô que introduz as placas nesse forno. Isso para aferir o pirómetro associado a esse forno. Uma mesma placa pode ser reutilizada pelo menos uma dezena de vezes. É pois fácil prever um ciclo automático de aferição de n em n placas.

Em variante, a placa está dotada, na sua face activa, com uma zona de aferição que ocupa apenas uma parte da sua face. Neste caso, o resto da face activa fica livre para receber qualquer tratamento apropriado. 0 interesse de uma tal placa é que pode fazer-se uma aferição do pirómetro em cada placa ou em algumas placas de entre as mesmas, sem ter de colocar no forno qualquer placa especial. Com efeito, é a placa clássica a tratar que apresenta na sua face activa, mas fora da zona de tratamento, uma zona de aferição.

Qualquer que seja o tipo de placa utilizado, deve. notar-se que não se introduz qualquer corpo estranho no forno quando da aferição do pirómetro. Não é assim introduzida qualquer poluição (poeiras). Além disso, a medição da temperatura de referência, efectuada por detecção de uma descontinuidade de reflexão, não necessita de qualquer contacto (soldadura) físico com a placa. É claro que a presente invenção não se limita aos diferentes modos de realização descritos, englobando qualquer variante ao alcance dos especialistas. Assim, a forma e as dimensões da placa de calibração podem ser outras. 0 feixe de onda electromagnética usado pode ser de qualquer género. 0 material activo não é obrigatoriamente germânio. Igualmente, o forno associado ao pirómetro pode muito bem não ser um forno de tratamento térmico rápido, mas muito simplesmente um forno clássico.

Claims

- 13 - 13 $.

REIVINDICAÇÕES
12. - Processo de aferição de um pirómetro óptico, caracterizado por consistir em: a) colocar num forno uma placa provida de uma zona de calibração, em pelo menos uma parte de uma das suas faces, denominada face activa, a zona de calibração, apresenta uma descontinuidade de reflexão das ondas electromagnéticas, a uma temperatura conhecida; b) emitir uma onda electromagnética na direcção da zona de calibração; c) medir e registar a intensidade da onda reflectida pela zona de calibração; d) medir e registar a temperatura da zona de calibração com o auxilio do pirómetro óptico a aferir; e) aumentar a temperatura do forno; f) determinar o instante em que se observa uma descontinuidade de reflexão da onda electromagnética; g) assinalar o valor de temperatura medida pelo pirómetro nesse instante; h) comparar este valor de temperatura medida com o valor de temperatura conhecido; i) fazer coincidir este valor de temperatura medido pelo pirómetro, com o valor de temperatura conhecido.
22. - Processo de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por se utilizar uma placa cuja zona de calibração ou aferidora é constituída por um material activo que apresenta uma descontinuidade de reflexão na sua passagem do estado sólido para o estado líquido e por o valor de temperatura conhecido ser o ponto de fusão deste material activo. $ - 14 - *4
32. - Processo de acordo com as reivindicações 1 ou 2, caracterizado por se efectuar uma filtragem cromática da onda electromagnética reflectida antes de medir a sua intensidade, a fim de eliminar as ondas.electromagnéti-cas parasitas não provenientes da reflexão da onda electromagnética emitida para a zona aferidora ou de calibração.
42. - Processo de acordo com qualquer das reivindicações anteriores, caracterizado por se colocar 0 pirómetro óptico a aferir de modo que ele "veja" a face oposta à face activa da placa numa zona situada directamente sob a zona aferidora, ficando o seu eixo de simetria perpendicular à face da placa de calibração.
52. - Processo de acordo com qualquer das reivindicações anteriores, caracterizado por se utilizar uma placa cuja zona aferidora recobre inteiramente a face activa.
62. - Processo de acordo com qualquer das reivindicações 1 a 4, caracterizado por se utilizar uma placa cuja zona aferidora ou de calibração, ocupa apenas uma parte da face activa.
72. - Dispositivo de aferição de um pirómetro óptico associado a um forno com vista a fornecer um sinal eléctrico função da temperatura, caracterizado por compreender: - uma placa (18) dotada com uma zona aferidora que apresenta uma descontinuidade de reflexão das ondas electromagnéticas a uma temperatura conhecida (t ) e adaptada para ser alojada no forno de modo que a sua zona aferidora fique no eixo de mira do pirómetro a aferir; - um emissor (11) de ondas electromagnéticas, adaptado para emitir uma onda electromagnética na direcção da zona aferidora da.placa; - um captador (12) de ondas electromagnéticas, disposto para receber a radiação reflectida pela zona aferido- - 15 - - 15 - j

ra e adaptado para fornecer um sinal eléctrico proporcional à intensidade desta radiação; - meios de tratamento de sinais, dispostos para receber os sinais eléctricos provenientes do captador (12) e do pirómetro a aferir (14) e adaptados para detectar o instante de aparição de uma desconti-nuidade no sinal proveniente do captador e para fornecr um sinal designado por sinal de temperatura de aferição, representativo do sinal de temperatura proveniente do pirómetro nesse instante; - meios de comparação (31) do sinal de temperatura de aferição e de um sinal prescrito representativo da temperatura conhecida (t ) correspondente à descontinuidade de reflexão atrás referida, adaptados para fornecer um sinal de correcção representativo da diferença entre estes sinais; e - meios de correcção do pirómetro dispostos para receber o sinal de correcção e adaptados para aplicar este sinal a meios de aferição do pirómetro a fim de fazer coincidir os valores de temperatura de aferição e conhecida (t ).
85. - Dispositivo de acordo com a reivindicação 7> caracterizado por o pirómetro a aferir (14) estar disposto em frente da face da placa oposta à que contém, a zona de aferição ou calibração, de modo a visar uma zona colocada por baixo da referida zona de aferição.
92. - Dispositivo de acordo com a reivindicação 7 ou a reivindicação 8, caracterizado por a placa compreender uma zona aferidora constituída por um material activo que apresenta uma descontinuidade de reflexão na sua passagem do estado sólido ao estado líquido e por a temperatura conhecida (t ) ser a temperatura de fusão do material activo.
102. - Dispositivo de acordo com qualquer das reivindicações 7 a 9, caracterizado por o emissor (11) ser um laser pulsado ou contínuo.
112. - Dispositivo de acordo com qualquer das reivindicações 7 a 10, caracterizado por o captador (12) estar dotado com um filtro cromático (19) adaptado para eliminar da onda electromagnética reflectida as ondas parasizas não provenientes do emissor (11) por reflexão na zona aferidora.
122. - Dispositivo de acordo com qualquer das reivindicações 7 a 11, caracterizado por os meios de tratamento dos sinais (32) serem memórias electrónicas, e os meios de comparação (31 ) serem uma unidade central de cálculo.
132. - Dispositivo de acordo com qualquer das reivindicações 7 a 11, caracterizado por os meios de tratamento dos sinais serem uma mesa traçadora (Plotter).
142. - Dispositivo de acordo com qualquer das reivindicações 7 a 13, caracterizado por a zona aferidora recobrir inteiramente uma das faces da placa (18).
152. - Dispositivo de acordo com qualquer das reivindicações 7 a 14, caracterizado por a zona aferidora apenas cobrir uma parte de uma das faces da placa (18).
162. - Placa de calibração aferidora ou para a aferição de um pirómetro óptico, caracterizada por apresentar uma face activa (29), uma face inactiva (30) e uma espessura tal que as faces activa e inactiva sejam sensivelmente 'isotérmicas e por compreender pelo menos numa parte da sua face activa, uma zona aferidora, que possui uma camada de material activo que apresenta uma descontinuidade de reflexão no seu ponto de fusão. Í- ·£' - 17 - 17-. - Placa de calibração de acordo com a reivindicação 16, caracterizada por a zona aferidora ser constituída por uma pluralidade de materiais depositados sob a forma de camadas finas. '182. - Placa de calibração de acordo com qualquer das reivindicações 16 a 17, caracterizada por a zona aferidora compreender sucessivamente, a partir da face activa para a face inactiva, uma camada de material activo (21), uma camada de separação (22) de boa condutividade térmica e uma camada de suporte (23), sendo a temperatura de fusão do material activo, inferior à temperatura de fusão da camada de separação, por sua vez inferior à temperatura de fusão da camada de suporte.
199. - Placa de calibração de acordo com qualquer das reivindicações 16 a 18, caracterizada por a zona aferidora estar provida de uma camada de protecção (24) depositada sobre a camada de material activo (21), cuja temperatura de fusão é superior à da referida camada de material activo.
202. - Placa de calibração de acordo com qualquer das reivindicações 16 a 19, caracterizada por o material activo ser um corpo cristalino.
212. - Placa de calibração de acordo com qualquer das reivindicações 16 a 20, caracterizada por a zona aferidora ser constituída por uma camada de protecção à base de nitrato de silício (Si^N^), de uma camada de material activo à base de germânio (Ge), de uma camada de separação à base de óxido de silício (SÍO2) e de uma camada de suporte, à base de silício (Si).
222. - Placa de calibração de acordo com qualquer das reivindicações 16 a 21, caracterizada por a zona aferidora cobrir inteiramente a face activa da plaqueta. Λ - 18 23-. - Placa de calibração de acordo com qualquer das reivindicações 16 a 21, caracterizada por a zona aferidora recobrir apenas uma parte da face activa da plaqueta. Lisboa, 4 de Maio de 1992

Agente Oficial da Preprisáada Industrial