Przedmiotem wynalazku jest sposób i urzadzenie do i utrzymania i stalego poziomu cieczy w naczyniu zasilanym, a zwlaszcza plynnego metalu w krystalizatorze.Zasadnicza trudnosc w zautomatyzowaniu regulacji poziomu plynnego metalu w krystalizatorze sprawia brak nie tylko odpowiednich czynników, ale i metod pomiarowych.Znany jest sposób i urzadzenie do automatycznej regulacji poziomu plynnego metalu, opierajacy sie na pomiarze poziomu metalu w krystalizatorze za pomoca elektrody grafitowej. Sposób ten i urzadzenie opisal G.A. Burger w czasopismie Control Engineering nr 7, 1959 r., w artykule pod tytulem: „Reliable level measure- ment for liguid metals".Znane urzadzenie sklada sie z dwóch elektrod grafitowych polaczonych z przekaznikowym ukladem sterujacym, który steruje praca serwomotoru. Jedna elektrode zanurza sie w plynnym metalu, a druga umieszcza sie nad jego powierzchnia. Odleglosc miedzy elektrodami uzalezniona jest od dopuszczalnej zmiany poziomu metalu w krystalizatorze. Jezeli poziom metalu w krystalizatorze wzrosnie tak, ze wyzej usytuowana elektroda grafitowa zostanie z nim zwarta, informacja ta przeslana do ukladu sterujacego spowoduje wlaczenie serwomoto¬ ru w takim kierunku, ze bedzie on zmniejszal doplyw metalu do krystalizatora. Odwrotnie, jezeli elektroda usytuowana wyzej traci kontakt z metalem, serwomotor bedzie przeciwdzialal tej zmianie.Wedlug wynalazku sposób utrzymania stalego poziomu cieczy polega na samoczynnym uzupelnianiu cieczy w naczyniu zasilanym z próznioszczelnego zbiornika, który ustawia sie powyzej poziomu cieczy w naczy¬ niu zasilanym, przy czym wylot rury spustowej zbiornika umieszcza sie w naczyniu zasilanym na takiej gleboko¬ sci, jaka odpowiada zadanemu poziomowi cieczy. Zbiornik dozujacy napelnia sie dozowana ciecza korzystnie do wysokosci barometrycznego podniesienia cieczy. Nastepnie nad powierzchnia cieczy w tym zbiorniku wytwarza sie podcisnienie o wartosci co najmniej zapewniajacej utrzymanie slupa cieczy na wysokosci odpowiadajacej odleglosci od zwierciadla cieczy w naczyniu zasilanym, do zwierciadla cieczy w zbiorniku dozujacym, po czym otwiera sie zawór umieszczony na rurze spustowej zbiornika dozujacego, której wylot umieszczony jest pod~t 95171 powierzchnia cieczy w naczyniu zasilanym otwartym lub cisnieniowo zamknietym i od tego momentu utrzymy¬ wanie zadanego poziomu cieczy w naczyniu zasilanym odbywa sie samoczynnie az do obnizenia sie poziomu cieczy w zbiorniku dozujacym na wysokosc minimalna ustalona znanym czujnikiem poziomu, po czym zamyka sie zawór umieszczony na rurze spustowej zbiornika dozujacego. W celu utrzymania ciaglosci dozowania cieczy, regulacje poziomu cieczy w naczyniu zasilanym prowadzi sie korzystnie przy uzyciu co najmniej dwóch zbiorni¬ ków dozujacych.Jesli sposób wedlug wynalazku stosuje sie do cieczy, zwlaszcza cieklych metali, których kontakt z powie¬ trzem jest niewskazany ze wzgledów technologicznych, wówczas naczynie zasilane zamyka sie cisnieniowo, a nad powierzchnia cieczy w naczyniu zasilanym wprowadza sie pod zadanym cisnieniem odpowiedni technologicznie gaz. Mozna wówczas zastosowac dodatkowe zabezpieczenie, polegajace na tym, ze w momencie podniesienia sie poziomu cieczy w naczyniu zasilanym powyzej dolnej krawedzi rury spustowej, zwieksza sie automatycznie poprzez uklad znanych przetworników podcisnienie w zbiorniku dozujacym.Urzadzenie wedlug wynalazku jest to zbiornik próznioszczelny, posiadajacy w górnej czesci rure zalewowa wyposazona w zawór odcinajacy oraz wkróciec z zaworem sterujacym odpowietrzeniem lub podcisnieniem, a w dolnej czesci wyposazony w rure spustowa z umieszczonym na niej zaworem odcinajacym.Urzadzenie wedlug wynalazku przedstawiono w przykladzie wykonania na rysunku przedstawiajacym pionowy przekrój urzadzenia z zaznaczonym schematycznie wyposazeniem dodatkowym.Urzadzenie sklada sie z dwóch próznioszczelnych zbiorników 1 i 2 dozujacych, wyposazonych w dolnej czesci w rure 3 spustowa. Pod kazdym ze zbiorników na rurze 3 spustowej umieszczonyjest zawór 4 i 5 odcinaja¬ cy. W górnej czesci zbiorników znajduja sie rury 6 i 7 zalewowe, z umieszczonymi na nich zaworami 8 i 9 odcina¬ jacymi, przez które doprowadza sie ciecz do zbiorników 1 i 2 dozujacych. W górnej czesci kazdego ze zbiorni¬ ków 1 i 2 dozujacych umieszczone sa równiez zawory 10 i 11 laczace te zbiorniki poprzez zbiornik 12 wyrów¬ nawczy prózni z pompa 13 prózniowa.Rura 3 spustowa umieszczona jest w naczyniu 14 zasilanym zamknietym od góry próznioszczelna pokry¬ wa 15. Naczyniem zasilanym w przykladzie wykonania jest krystalizator. Zbiorniki 1 i 2 dozujace zasilane sa w plynny metal z kadzi 25. Górna czesc naczynia 14 zasilanego polaczona jest poprzez zawór 16 zwrotny i regu¬ lator 17 cisnienia z butla 18 cisnieniowa zawierajaca gaz ochronny. Pomiedzy zaworem 16 zwrotnym a naczy¬ niem 14 zasilanym wlaczony jest manometr 19 i czujnik 20 nadcisnienia, nadajacy sygnal do ukladu 21 steruja¬ cego. Dolna czesc kazdego ze zbiorników 1 i 2 dozujacych wylozona jest wykladzina 22 ceramiczna i ogrzewana przy pomocy oporowych elementów 23 grzewczych.Dozowanie i utrzymanie stalego poziomu w naczyniu 14 zasilanym odbywa sie nastepujaco. Zbiornik 1 dozujacy przy zamknietym zaworze 5 spustowym i otwartym zaworze 11 napelnia sie cieklym metalem. Gdy poziom cieczy w zbiorniku 1 dozujacym osiagnie okolo 2/3 jego wysokosci, zamyka sie zawór 9 odcinajacy i zawór 11, a otwiera sie zawór 5 spustowy. Ciekly metal ze zbiornika 1 dozujacego wyplywa do naczynia 14 zasilanego tak dlugo, az wylot rury 3 spustowej nie zostanie zakryty, a wytworzone nad slupem cieczy podcisnie¬ nie utrzyma go na danym poziomie. W tym samym czasie w sposób identyczny jak opisano wyzej napelnia sie cieklym metalem zbiornik 2 dozujacy.Po napelnieniu zbiornika 2 dozujacego zamyka sie zawór 8 odcinajacy i zawór 10. W tym samym czasie, na skutek obnizenia sie wlewka 24, obniza sie poziom cieklego metalu w naczyniu 14 zasilanym i odkrywa sie wylot rury 3 spustowej. Gaz znajdujacy sie nad poziomem cieklego metalu w naczyniu 14 zasilanym przedostaje sie przez rure 3 spustowa nad poziom cieklego metalu w zbiorniku 1 dozujacym, co powoduje wyplywanie z niego cieklego metalu do naczynia 14 zasilanego, tak dlugo, az wylot rury 3 spustowej zostanie zakryty.Samoczynne uzupelnianie poziomu cieklego metalu w naczyniu 14 zasilanym odbywa sie az do opróznienia zbiornika 1 dozujacego. Przy czym zbiornika 1 dozujacego nie opróznia sie calkowicie, zostawiajac w dolnej jego czesci co najmniej kilkucentymetrowa warstwe cieklego metalu.Po opróznieniu zbiornika 1 dozujacego zamyka sie zawór 5 spustowy i otwiera sie zawór 4 spustowy i rozpoczyna sie dozowanie cieklego metalu ze zbiornika 2 dozujacego napelniajac w tym samym czasie zbior¬ nik 1 dozujacy cieklym metalem. W czasie calego procesu dozowania nad poziomem cieczy w naczyniu 14 zasilanym utrzymuje sie stale nadcisnienie, a male zmiany nadcisnienia wywolane wyplywaniem cieklego meta¬ lu do naczynia 14 zasilanego, przekazywane sa poprzez czujnik 20 nadcisnienia do ukladu 21 sterujacego, który poprzez podlaczenie pracujacego w danej chwili zbiornika dozujacego ze zbiornikiem 12 wyrównawczym prózni, pozwala na utrzymanie nad poziomem cieklego metalu w pracujacym zbiorniku dozujacym odpowiedniego pod¬ cisnienia.Zaleta sposobu i urzadzenia wedlug wynalazku jest - oprócz spelnienia merytorycznej funkcji - mozli¬ wosc jednoczesnego przeprowadzenia operacji technologicznych odgazowania dozowanej cieczy, jak równiez mozliwosc zabezpieczenia strugi odlewanego metalu lub cieczy przed utlenieniem.95171 3 PL