PL91567B1 - - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do za¬ tykania kwasem akrylowym porów warstw powie¬ rzchniowych wysoko spolimeryzowanych materia¬ lów, korzystnie tekstylnych wykonanych z wlókien poliestrowych lub poliamidowych napromieniowa¬ nych wstepnie promieniami jonizujacymi.Napromieniowywane wstepnie powierzchnie, w szczególnosci z wlókien poliestrowych pokrywa sie w celu modyfikacji wlasciwosci za pomoca kwasu akrylowego w drodze ich traktowania roz¬ cienczonym wodnym roztworem kwasu akrylo¬ wego w temperaturze okolo 100°C przez okolo 30 minut.Ulegajacy przy tym rozcienczeniu kwas akrylo¬ wy musi byc równoczesnie zageszczany w apara¬ turze do zatykania porów. Wystepuje przy tym, na granicznej powierzchni warstw gazowej i cie¬ klej, silne tworzenie sie wyzszych polimerów kwasu akrylowego. Skutkiem tego, taka aparatu¬ ra musi byc czesto demontowana w celu mecha¬ nicznego usuniecia utworzonego polimeru.Znane sa urzadzenia do zatykania porów, w których kwas akrylowy sluzy do zatykania po¬ rów, posiadajace stabilizator dla zapobiegania wy¬ stepowania homopolimeryzacji. Jednak wrzacy kwas akrylowy nie podlega stabilizacji, poniewaz stabilizator nie przechodzi w stan pary. Z tego powodu na metalowych scianach urzadzenia osia¬ da wolny od stabilizatora kwas akrylowy, który ma duze sklonnosci do homopolimeryzacji.Stwierdzono przy tym, ze stosowany w skali przemyslowej stabilizator-eter hydrochinojednome- tylowy nie dziala wlasciwie we wrzacym roztwo¬ rze kwasu akrylowego.Stwierdzono, ze miedz ogranicza polimeryzacje kwasu akrylowego.Celem wynalazku jest unikniecie klopotliwego demontazu aparatury do zatykania porów i ko¬ niecznosci mechanicznego wydalania produktów polimeryzacji.Zadaniem technicznym wiodacym do tego celu jest opracowanie urzadzenia do zatykania kwa¬ sem akrylowym porów warstw powierzchniowych wysoko spolimeryzowanych materialów, korzy¬ stnie tekstylnych wykonanych z wlókien poliestro¬ wych lub poliamidowych napromieniowanych wstepnie promieniami jonizujacymi, uniemozliwia¬ jacego unikniecie wad znanych urzadzen.Wedlug wynalazku zadanie to rozwiazano w ten sposób, ze w kadzi do zatykania porów sa osa¬ dzone elementy z miedzi izolowane elektrycznie od obudowy kadzi. Korzystne jest usytuowanie elementów z miedzi w postaci pretów lub siatki pomiedzy pasami zawracanej wstegi materialu.Równiez korzystne jest wykonanie rury odply¬ wowej i doplywowej dla kwasu akrylowego z me¬ talicznej miedzi.Zastosowanie metalicznej miedzi w kapieli za¬ mykajacej pory likwiduje skutecznie polimeryza¬ cje. Konstrukcyjnie niewielkie powierzchnie kon- 9156791 567 3 densacyjne z miedzi sluza temu samemu celowi.W celu zmniejszenia powierzchni kondensacyj¬ nych naczynie, w którym odbywa sie zamykanie porów, jest otoczone plaszczem grzewczym. Kon¬ densacja powinna przy tym nastepowac jedynie na niewielkich powierzchniach z materialu stano¬ wiacego czesciowo lub calkowicie miedz.Przedmiot wynalazku uwidoczniony na rysun¬ ku, na którym fig. 1 przedstwia usytuowanie ele¬ mentów z miedzi w kadzi do zatykania porów, fig. 2 — urzadzenie w widoku z góry fig. 3 — usytuowanie malych miedzianych powierzchni kondensacyjnych, fig. 4 — usytuowanie rur od- odplywowej i doplywowej.Urzadzenie 4( do zatykania porów sklada sie z kadzi z miedziana rura 1 dla doplywu kwasu a- krylowego i miedziana rura 7 dla odplywu kwa¬ su akrylowego, które sa elektrycznie izolowane od obudowy kadzi. Prety lub siatki 2 miedziane sa umieszczone pomiedzy rolkami prowadzacymi dla przenoszenia obrabianych materialów 5. Te prety lub siatki sa umieszczone pod katem prostym do obrabianego pasma materialu 5 i sa rozmieszczo¬ ne na calej szerokosci tego pasma. Dla unikniecia duzej powierzchni kondensacji urzadzenie 4' do zatykania porów jest otoczone ze wszystkich stron plaszczem ogrzewczym 6. Z tego powodu kondensacja kwasu akrylowego wystepuje tylko w miejscach 2 wykonanych z miedzi metalicznej, na przyklad na chlodnicy 3 chronionych równiez izolacja 8 przed polaczeniem elektrycznym z in¬ nymi czesciami urzadzenia. Duzej powierzchni kon¬ densacji unika sie przez nadanie specjalnego ksztaltu, przykrywie urzadzenia do zatykania po¬ rów co uwidoczniono na fig. 4. Korpusy chlodza¬ ce 3 sluza równiez jako powierzchnie kondensacji.Urzadzenie wedlug wynalazku dziala nastepuja¬ co.Przyklad I. Poliestrowa dzianine z dziewiar¬ ki okraglej o gramaturze 150 g/m2 napromienio- wuje sie pod dzialaniem przyspieszacza elektro¬ nów w sposób ciagly dawka 30 Mrad. Energia elektryczna elektronów wynosi przy tym 0,5 MeV.Tak potraktowany wyrób przeprowadza sie w spo¬ sób ciagly przez urzadzenie do zatykania porów 4 wedlug fig. 1 i 2, zawierajace 25% roztwór wod¬ ny kwasu akrylowego, stabilizowany za pomoca 200 ppm eteru hydrochinojednometylowego. W u- rzadzeniu tym miedz metaliczna 2 jest umieszczo¬ na w postaci pretów lub siatek pod katem pros- 4 tym do powierzchni materialu 5. Czas przebywa¬ nia dzianiny w urzadzeniu wynosi 1 godzine, przy temperaturze kapieli 100°C. Nastepnie osad kwasu akrylowego gruntownie przeplukuje sie zi¬ mna woda. Przyrost masy wyrobu tekstylnego wy¬ nosi okolo 10%.Przyklad II. Poliestrowa plaska dzianine lan¬ cuszkowa stanowiaca material 5 o gramaturze 150 g/m2 poddaje sie napromieniowaniu przyspieszo¬ nymi elektronami (energia elektronów 0,5 MeV) dawka 8 Mrad i nastepnie traktuje w ciagu 2 minut 15% roztworem wodnym kwasu akrylowe¬ go w temperaturze do 40°C w urzadzeniu do zamy¬ kania porów L W celu zmniejszenia powierzchni kondensacyjnej, urzadzenie 4 jest ze wszystkich stron otoczone plaszczem grzewczym 6. Kondensa¬ cja kwasu akrylowego nastepuje jedynie na powierz¬ chniach stanowiacych metaliczna miedz 2 izolowa¬ nych elektrycznie od innych czesci urzadzenia. Po¬ wierzchnia kondensacji w urzadzeniu do zatykania porów 4 ogranicza sie przez to, ze przecietny stan napelnienia okresla sie tak, iz powierzchnia kwa¬ su akrylowego znajduje sie powyzej kadzi urza¬ dzenia przez co kondensacja ma miejsce jedynie na miedzianych elementach chlodzacych 3. Na¬ stepna czynnoscia jest plukanie urzadzenia za po¬ moca zimnej wody. Stosowany kwas akrylowy sta¬ bilizuje sie za pomoca 200 ppm eteru hydrochino- monometylu. Przyrost masy wyrobu wynosi 20%. PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do zatykania kwasem akrylowym porów warstw powierzchniowych wysoko spolime- ryzowanych materialów, korzystnie tekstylnych wykonanych z wlókien poliestrowych i poliami¬ dowych napromieniowanych wstepnie promieniami jonizujacymi, skladajace sie z kadzi do zatykania porów, która ma rolki zwrotne do przewijania materialu, znamienne tym, ze w kadzi do zatyka¬ nia porów sa osadzone elementy z miedzi, izo¬ lowane elektrycznie od obudowy kadzi.
2. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze elementy z miedzi (2) w postaci pretów lub siatek sa umieszczone pomiedzy pasami nawra¬ canej wstegi materialu.
3. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze rura doplywowa (1) i odplywowa (7) dla kwasu akrylowego lub jego roztworów sa wykonane z metalicznej miedzi. 10 15 20 25 30 35 4091567 Fig.1 ¦fft / / * 5 Fig. 2 Fig. 3Fig. 4 LZG, Zakl. Nr 3 w Pab., Zarn. nr 487-77. Nakl. 115 + 20 egz. Cena 10 zl PL