PL89174B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL89174B1 PL89174B1 PL16183873A PL16183873A PL89174B1 PL 89174 B1 PL89174 B1 PL 89174B1 PL 16183873 A PL16183873 A PL 16183873A PL 16183873 A PL16183873 A PL 16183873A PL 89174 B1 PL89174 B1 PL 89174B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- nickel
- coercive force
- anisotropy field
- layers
- magnetic
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 10
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 9
- OGKAGKFVPCOHQW-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate heptahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.[Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O OGKAGKFVPCOHQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 claims description 9
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 claims description 9
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 claims description 9
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 claims description 9
- LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L nickel chloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Ni+2] LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 5
- IMBKASBLAKCLEM-UHFFFAOYSA-L ferrous ammonium sulfate (anhydrous) Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O IMBKASBLAKCLEM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002211 L-ascorbic acid Substances 0.000 claims description 4
- 235000000069 L-ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- MEYVLGVRTYSQHI-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate heptahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.[Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O MEYVLGVRTYSQHI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 claims 1
- NSVFPFUROXFZJS-UHFFFAOYSA-N nickel;hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Ni] NSVFPFUROXFZJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 21
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 3
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N (2,4,5-trichlorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC(Cl)=C(Cl)C=C1Cl FTLYMKDSHNWQKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018499 Ni—F Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004141 Sodium laurylsulphate Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 150000001572 beryllium Chemical class 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- GFHNAMRJFCEERV-UHFFFAOYSA-L cobalt chloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Co+2] GFHNAMRJFCEERV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- -1 nickel sulphate heptahydrate cobalt chloride hexahydrate boric acid Chemical compound 0.000 description 1
- 229940085605 saccharin sodium Drugs 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania warstw magnetycznych na podlozu niemagnetycznym,
np: w postaci drutu metalicznego, majacy zastosowanie w ukladach elektronicznych, jako elementy automatyki,
zwlaszcza jako elementy pamieci elektronicznych maszyn cyfrowych- stalych i operacyjnych.
W znanych sposobach wytwarzania warstw magnetycznych na drodze elektrochemicznej dla elementów
tego rodzaju stosuje sie najczesciej podloza w postaci drutu z brazu berylowego, brazu cynowego lub wolframu,
które podlega takim operacjom wstepnym, jak odtluszczanie w roztworach alkalicznych i aktywacja powierzchni
w roztworach kwasnych. Na podloze to nanosi sie najpierw posrednie warstwy metalu niemagnetycznego np:
z miedzi oraz warstwy magnetyczne np: ze stopu nikiel-zelazo, przy czym w koncowym etapie procesu nastepuje
wygrzewanie w temperaturze 200-500°C. Dla uzyskania pozadanych parametrów magnetycznych, w szczegól¬
nosci wartosci sily koerqi i pola anizotropii, istotny jest rodzaj, grubosc i gladkosc warstw posrednich oraz sklad
i grubosc warstwy magnetycznej. Ustalenie wlasciwych wartosci sily koercji nastepuje przez odpowiednie
schropowacenie powierzchni warstw posrednich, co jest operaqa szczególnie uciazliwa ze wzgledu na trudnosci
w bezposredniej kontroli stanu powierzchni warstw posrednich. Celem natomiast uzyskania wlasciwych wartosci
pola anizotropii stosuje sie zlozone uklady trójskladnikowe stopu, najczesciej nikiel- zelazo- kobalt, przy
czym utrzymanie scisle stalego skladu takiej warstwy jest równiez bardzo trudne. Jednakze podstawowa
niedogodnoscia stosowanych dotychczas sposobów jest niemoznosc dokonywania równoczesnych, kontrolowa¬
nych zmian obu tych parametrów dla osiagniecia pozadanych w/w wlasciwosci warstw magnetycznych.
Celem wynalazku jest unikniecie tych niedogodnosci i opracowanie takiego sposobu wytwarzania warstw
magnetycznych, który pozwalalby na osiaganie pozadanych wartosci zarówno sily koercji jak i pola anizotropii
Jednoczesnie, z mozliwoscia latwego dobierania tych parametrów w zaleznosci od przeznaczenia wytwarzanych
elementów. Cel ten spelnia sposób wedlug wynalazku, który polega na osadzaniu na podlozu niemagnetycznym
co najmniej dwóch warstw magnetycznych o niskich wartosciach sily koercji i pola anizotropii i co najmniej
jednej warstwy magnetycznej o wysokich wartosciach sily koercji i pola anizotropii, polozonej miedzy tymi
warstwami. Jako warstwe magnetyczna o niskich wartosciach sily koercji i pola anizotrpii stosuje sie stop
nikiel-zelazo, a jako warstwe o wysokich wartosciach sily koercji i pola anizotropii stosuje sie stop nikiel-kobalt2 89174
W sposobie wedlug wynalazku mozliwe jest nanoszenie wielu warstw o niskich wartosciach sily koercji
i pola anizotropii i wielu warstw o wysokich wartosciach tych parametrów z tym, ie warstwy te ukladane sa na
przemian.
Pozadane wartosci sily koercji i pola anizotropii osiaga sie przez zmiane stosunku grubosci warstw stopu
nikiel-zelazo i warstw stopu nikiel-kobalt.
Warstwe magnetyczna o niskich wartosciach sily koercji i pola anizotropii nanosi sie elektrochemicznie
z roztworu zawierajacego 200—300 g/l siedmiowodnego siarczanu niklawego, 0-50 g/l szesciowodnego chlorku
niklawego, 20*40 g/l kwasu borowego, 0,5-3 g/l sacharyny, 0,1-1 g/l laurylosiarczanu sodowego, 0-5 g/l kwasu
askorbinowego, 3-10 g/l dwunastowodnego siarczanu zelazawo-amonowego. Dla roztworu tego stosuje sie
temperature 20-70°C, pH 2-3 i wprowadza cyrkulacje z wydajnoscia 0,5-3 l/min.
Warstwe magnetyczna o wysokich wartosciach sily koercji i pola anizotropii nanosi sie elektrochemicznie
z roztworu zawierajacego 150-250 g/l siedmiowodnego siarczanu niklawego, 0-100 g/l szesciowodnego chlorku
niklawego, 0-150 g/l siedmiowodnego siarczanu kobaltawego, 0-120 g/l szesciowodnego chlorku kobaltawego,
-40 g/l kwasu borowego, 0,5-3 g/l sacharyny, 0,1-1 g/l laurylosiarczanu sodowego, dla roztworu tego stosuje
sie temperature 20-70°C, pH 2-5 i wprowadza cyrkulacje z wydajnoscia 0,5-3 l/min.
Sposób wedlug wynalazku pozwala na równoczesne dokonywanie kontrolowanych zmian zarówno
wartosci sily koercji, jak i pola anizotropii, jak równiez innych pochodnych parametrów magnetycznych.
Dodatkowa zaleta tego sposobu jest mozliwosc nanoszenia warstw magnetycznych na podloze bez koniecznosci
uprzedniego chropowacenia jego powierzchni. Ponadto proces nanoszenia warstw magnetycznych sposobem
wedlug wynalazku charakteryzuje sie wieksza wydajnoscia i szybkoscia w porównaniu ze znanymi sposobami.
Przedmiot wynalazku jest blizej objasniony na przykladach wykonania, które jednakze nie ograniczaja
zakresu stosowania wynalazku.
Przyklad I. Drut z brazu berylowego o przekroju cylindrycznym i srednicy 120 mikrometrów po
oczyszczeniu powierzchni 20% wodnym roztworem wodorotlenku sodu i aktywacji 5% wodnym roztworem
kwasu siarkowego przepuszcza sie przez pojemhik zawierajacy roztwór wodny pieciowodnego siarczanu miedzi
o stezeniu 225 g/l, kwas siarkowy o stezeniu 50 g/l oraz wyblyszczacz o nazwie handlowej UBAC 1 o,stezeniu
6 g/l. Z roztworu tego osadzana jest elektrolitycznie warstwa miedzi grubosci 2 mikrometrów. Nastepnie na tak
przygotowane podloze nanosi sie warstwy magr tyczne. W tym celu podloze to przepuszcza sie przez pojemnik
zawierajacy roztwór o skladzie:
siarczan niklawy siedmiowodny 250 g/l
kwasborowy 30 g/l
sacharyna 1 #5 g/l
laurylo-siarczansodowy 0,5 g/l
kwasaskorbinowy 2,0 g/l
siarczan amonowo-zelazawy dwunastowodny 6,0 g/l
PH 2,4
Roztwór ten ma temperature 40°C j cyrkuluje z wydajnoscia 1,2 l/min, z roztworu tego osadza sie warstwe
stopu nikiel-zelazo o grubosci 4.500 Angstremów z gestoscia pradu katodowego 30 A/dm2.
W dalszej kolejnosci drut z naniesiona miedziowa warstwa posrednia i pierwsza warstwa magnetyczna
Ni—Fe przepuszcza sie przez pojemnik zawierajacy roztwór o skladzie:
siarczan niklawy siedmiowodny 220 g/l
chlorek niklawy szesciowodny 35 g/l
siarczan kobaltawy siedmiowodny 30 g/l
kwasborowy 30 g/l
sacharyna 1,2 g/l
laurylosiarczansodowy 0,3 g/l
PH 2,7
Roztwór ten ma temperature 35°C i cyrkuluje z wydajnoscia 1,2 l/min, z roztworu tego osadza sie warstwe
stopu nikiel-kobalt o grubosci 300 Angstremów z gestoscia pradu katodowego 2A/dm3. Po naniesieniu tej
drugiej warstwy magnetycznej Ni—Co drut przepuszcza sie przez nastepny pojemnik z identycznym roztworem
jak dla nanoszenia pierwszej warstwy magnetycznej Ni—Fe, stosujac dla tego roztworu te same warunki osadzania
warstwy o grubosci 4.000 Angstremów. Otrzymana w ten sposób warstwa magnetyczna Ni—Fe/Ni—Co/Ni—Fe
charakteryzuje sie nastepujacymi parametrami: sila koercji 150 A/m, pole anizotropii 360 A/m.
Przyklad II. Postepuje sie analogicznie jak w przykladzie I z ta róznica,ze po naniesieniu na podloze
*89174 3
posredniej warstwy miedzi osadza sie na przemian warstwy mangetyczne w kolejnosci: Ni-Fe/Ni—Co/Ni—Fe/Ni-
-Co/Ni-Fe.
Roztwór do osadzania warstw Ni—Fe zawiera:
siarczan niklawy siedmiowodny 225 g/l
chlorek niklawy szesciowodny 25 g/l
kwasborowy 25 g/l
sacharyna 0,9 g/l
laurylosiarczansodowy 0,4 g/l
kwasaskorbinowy 1,0 g/l
siarczan amonowo-zelazawy dwunastowodny 4,0 g/l
PH 2,5
Roztwór ten ma temperature 50°C i cyrkuluje z wydajnoscia, 1,5 l/m, z roztworu tego osadza sie warstwy
Ni—Fe o grubosci 2.000 Angstremów z gestoscia pradu katodowego 20 A/dm3.
Roztwór do osadzania warstw Ni—Co zawiera:
siarczan niklawy siedmiowodny 190 g/l
chlorek niklawy szesciowodny 45 g/l
siarczan kobaltawy siedmiowodny 50 g/l
kwasborowy 25, g/l
sacharyna 1,0 g/l
laurylosiarczansodowy 0,2 g/l
pH 3,0
Roztwór ten ma temperature 45°C i cyrkuluje z wydajnoscia 1,4 l/min, z roztworu tego osadza sie warstwy
Ni-Co o grubosci 600 Angstremów z gestoscia pradu katodowego 3 A/dm3. Otrzymana w ten sposób warstwa
magnetyczna Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fe charakteryzuje sie nastepujacymi parametrami: sila koercji
360 A/m, pole anizotropii 620 A/m.
Przyklad III. Postepuje sie analogicznie jak w przykladzie I, z ta róznica, ze po naniesieniu na
podloze posredniej warstwy miedzi, osadza sie na przemian warstwy magnetyczne w kolejnosci: Ni—Fe/Ni—CoA
Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fe/Ni-COjfNi-Fe.
Roztwór do osadzania warstw Ni—Fe zawiera:
siarczan niklawy siedmiowodny 220 g/l
chlorek niklawy szesciowodny 40 g/t
kwasborowy 20 g/l
sacharyna 2,0 g/l
laurylosiarczansodowy 0,2 g/l .
siarczan amonowo-zelazawy dwunastowodny 7,5 g/1
kwasaskorbinowy 3,5 g/l
PH 2,7
Roztwór ma temperature 65°C, cyrkuluje z wydajnoscia 1,8 l/min I z roztworu tego osadza sie warstwy
o grubosci 1.200 Angstremów z gestoscia pradu katodowego 10 A/dm3.
Roztwór do osadzania warstw Ni—Co zawiera:
siarczan niklawy siedmiowodny
chlorek kobaltawy szesciowodny
kwas borowy
sacharyna
laurylosiarczan sodowy
PH
240 g/l
80 g/l
g/l
2.0 g/l
0,5 g/l
4,0 g/l
Roztwór ten ma temperature 55°C, cyrkuluje z wydajnoscia 2 l/min i z roztworu tego osadza sie warstwy
o grubosci 800 Angstremów z gestoscia pradu katodowego 5 A/dm3. Otrzymana w ten sposób warstwa magne¬
tyczna Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fe/Ni-Co/Ni-Fecharakteryzuje tle nastepujacymi parame¬
trami: sila koercji 560 A/m, pole anizotropii 1.200 A/m4 89174
i
Claims (5)
1. Sposób wytwarzania warstw magnetycznych na podlozu niemagnetycznym, na które uprzednio naniesione sa posrednie warstwy z metalu niemagnetycznego, znamienny tym, ze na podloze nanosi sie na przemian co najmniej dwie warstwy magnetyczne o niskich wartosciach sily koercji i pola anizotropii i co najmniej jedna warstwe magnetyczna o wysokich wartosciach sily koercji i pola anizotropii.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako warstwe magnetyczna o niskich wartosciach sily koercji i pola anizotropii stosuje sie stop nikiel-zelazo a jako warstwe magnetyczna o wysokich wartosciach sily koercji i pola anizotropii stosuje sie stop nikiel-kobalt
3. Sposób wedlug zastrz. 1,znamienny tym, ze pozadane wartosci sily koercji i pola anizotropii osiaga sie przez zmiane stosunku grubosci warstw stopu nikiel-zelazo i warstw stopu nikiel-kobalt
4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ie warstwe magnetyczna o niskich wartosciach sily koercji i pola anizotropii nanosi sie elektrochemicznie z roztworu zawierajacego 200-300 g/l siedmiowodnego siarczanu niklawego, 0-50 g/l szesciowodnego chlorku niklawego, 20—40 g/l kwasu borowego, 0,5—3 g/l sacharyny, 0,1-1 g/l laurylosiarczanu sodowego, 0-5 g/l kwasu askorbinowego, 3-10 g/l dwunastowodnego siarczanu amonowo-zelazawego przy pH 2-3, temperaturze 20-70°C i wydajnosci cyrkulacji 0,5—3 l/min.
5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze warstwe magnetyczna o wysokich wartosciach sily koercji i pola anizotropii nanosi sie elektrochemicznie z roztworu zawierajacego 150—250 g/l siedmiowodnego siarczanu niklawego, 0—100 g/l szesciowodnego chlorku niklawego, 0—150 g/l siedmiowodnego siarczanu kobal- tawegó, 0—120 g/l szesciowodnego chlorku kobaltawego, 20—40 g/l kwasu borowego, 0,5—3 g/l sacharyny, 0,1-1 g/l laurylosiarczanu sodowego przy pH 2-5, temperaturze 20-70°C i wydajnosci cyrkulacji 0,5-3 l/min. ciclad-Pmc Pnlinraf. 'JP PRL Oruk-WOSJ „Wsr Format A4. Naklad 120 + 18. Cena 10 zl.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16183873A PL89174B1 (pl) | 1973-04-11 | 1973-04-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16183873A PL89174B1 (pl) | 1973-04-11 | 1973-04-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL89174B1 true PL89174B1 (pl) | 1976-10-30 |
Family
ID=19962209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16183873A PL89174B1 (pl) | 1973-04-11 | 1973-04-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL89174B1 (pl) |
-
1973
- 1973-04-11 PL PL16183873A patent/PL89174B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Wolf | Electrodeposition of magnetic materials | |
| US5582927A (en) | High magnetic moment materials and process for fabrication of thin film heads | |
| US4101389A (en) | Method of manufacturing amorphous alloy | |
| US3032485A (en) | Electrolytic bath for use in electrodeposition of ferromagnetic compositions | |
| JP2003034891A (ja) | コバルト鉄系合金およびコバルト鉄系合金めっき磁性薄膜の製造方法、並びに4成分系合金およびコバルト鉄モリブデン合金めっき磁性薄膜の製造方法 | |
| US5484494A (en) | Amorphous alloy and method for its production | |
| US3354059A (en) | Electrodeposition of nickel-iron magnetic alloy films | |
| US4108739A (en) | Plating method for memory elements | |
| US3518170A (en) | Electrodeposition of iron group metals | |
| US3533922A (en) | Composition and process for plating ferromagnetic film | |
| PL89174B1 (pl) | ||
| US3704211A (en) | Process for electroplating magnetic films for high density recording | |
| US3360397A (en) | Process of chemically depositing a magnetic cobalt film from a bath containing malonate and citrate ions | |
| US3271276A (en) | Electrodeposition of quaternary magnetic alloy of iron, nickel, antimony and phosphorus | |
| US3869355A (en) | Method for making a magnetic wire of iron and nickel on a copper base | |
| US3073762A (en) | Electrodeposition of cobalt phosphorus alloys | |
| US3578571A (en) | Method of electrodepositing a magnetic alloy and electrolyte therefor | |
| JP3826323B2 (ja) | めっき磁性薄膜の製造方法 | |
| JP3431238B2 (ja) | 軟磁性めっき薄膜およびその製造方法 | |
| Srimathi et al. | Electroplating of Fe-Ni alloys: a sulphate-amine bath | |
| Aravinda et al. | Potentiostatic deposition of thin films of Ni-Fe alloys | |
| US3305327A (en) | Electroless plating of magnetic material and magnetic memory element | |
| JPH04196402A (ja) | 軟磁性薄膜 | |
| US3549418A (en) | Magnetic recording films of cobalt | |
| Lim et al. | Soft-solution process of Fe–Tb–O films for use in high frequency micromagnetic devices |