PL85154B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL85154B1 PL85154B1 PL16379773A PL16379773A PL85154B1 PL 85154 B1 PL85154 B1 PL 85154B1 PL 16379773 A PL16379773 A PL 16379773A PL 16379773 A PL16379773 A PL 16379773A PL 85154 B1 PL85154 B1 PL 85154B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- ammonium
- alkali metal
- coatings
- potassium
- gold
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 14
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 14
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- -1 alkali metal orthophosphate Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 claims 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 claims 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 9
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001508 potassium citrate Substances 0.000 description 3
- QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K potassium citrate (anhydrous) Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 235000015870 tripotassium citrate Nutrition 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229930188331 cyanolide Natural products 0.000 description 2
- 229940111685 dibasic potassium phosphate Drugs 0.000 description 2
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- ICAIHGOJRDCMHE-UHFFFAOYSA-O ammonium cyanide Chemical compound [NH4+].N#[C-] ICAIHGOJRDCMHE-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 210000000347 cyanoblast Anatomy 0.000 description 1
- PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N cyclopentene-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CCCC1 PYRZPBDTPRQYKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 208000002173 dizziness Diseases 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- KGNKJLSLHCPWOB-UHFFFAOYSA-N iresin Natural products CC1(CO)C(O)CCC2(C)C3COC(=O)C3=CCC12 KGNKJLSLHCPWOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- AFDCXHSYKIVOOQ-UHFFFAOYSA-K potassium;disodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O AFDCXHSYKIVOOQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(3+);tetracyanide Chemical compound [K+].[Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wylwiaraania powlok zlotych meitoda gjalwaniczna, zwlaszcza na elementach dla przemyslu elektronicznego.Wykonywalne powloki zlote na wyrobach stoso¬ wanych w przemile elektronicznym powinny od¬ znaczac sie szczelnoscia, luitowinoscia, czystoscia i równomiernoscia warstwy.W iznamych dotychczas sposobach wytwarzania powlok zlotych w kapielach elefetrc^eniicznych wy¬ korzystuje sie najczesciej cyjanozlocin metalu alka¬ licznego kib amonu, na przysiad cyjanozlocin pota¬ sowy oraz inne skladniki spelniajace róznorodne funkcje, jak utrzymanie stalego pH kapieli, kom- pleksowainie zanieczyszczen oraz wiazanie produk¬ tów elektrolizy w zwiazki nie wywolujace szkodli¬ wego wplywu na proces jak: sól dwusodowa kwa¬ su etylenodwuaniinoc^erooctowego, wiiniany, octany itp.Z literaltury paitentowej wynika^ ze znany jest sposób wytwarzania powlok zlotych, opublikowany w opisie patentowym USA nr 3598706, w którym jako podstawowy skladnik wykorzystano kwas cy- jamozlotowy (HAu (ON)4) z dodatkiem ;kwasu fo¬ sforowego i cytrynowego oraz zwiazku pochodzacego z igrupy zwiazków typu fosforanów, cytrynianów i winianów. Natomiast wedlug opisu patentowego PRL nr 05100 do zlocenia elementów elektronicz¬ nych typu przepusty tranzystorowe wykorzystano w kapieli chemicznej do osadzania powlok zlotych cyjanozlocian potasu z dodatkiem kwasu cytryno- 2 wego, chlorku amonowego i podfostorynu sodowe¬ Niedogodnoscia dotychczasowych sposobów wy- twaraaraa powlok zlotych jest brak mozliwosci uzy- skamda wymaganej jaikosci, ponaewiaz sa ojie z&yt cienfeie, tmeszczeflne oraz zawieraja duze ilosci iza- imeczyszczen. [Ponadto kapiele uzywane do ich wy¬ twarzania posiadaja niewielka zywotnosc i sa trud¬ ne w dksploateeji, co powoduje l^offiiecanosc aze»tej wymiatny tych kuleli.Celem wynalazku jest wyeliminowanie tych nde- dogo^nosoi przez opracowanie sposobu wyfewaara- nia ipowlok zlotych, spelniajacego wymagania sta¬ wiane przez przemysl elektroniczny lub precyzyjny.Cel ten osiagnieto wedlug wynalazku przez zasto¬ sowanie w kapieli skladajacej sie z roztworu wod¬ nego cyjanozlocinu metalu alkalicznego lub amo¬ nu, cytrynianu metalu alkalicznego lub amonu i or- tofosforanu metalu alkalicznego lub amonu pirofo- sforanu jednego lub kilku metald alkalicznych lub amonu. Kapiel ta zawiera cyjainozlocin potasowy w ilosci 3,5-^27 g/l, cytrynian trójpotasowy w ilosci 4—250 g/l, ortofosforan potasowy dwuzasadowy w ilosci 1—200 g/l, pirofosforan czteropotasowy w ilosci 1—200 g/l oraz wodorotlenek potasowy lub kwas ortofosforowy w ilosci zapewniajacej utrzy¬ manie pH w granicach 4,5—9.Wytwarzanie powlok zlotych wedlug wynalazku prowadzi sie w kapieli o temperaturze 30—80°C, korzystnie w temperaturze 45—75°C i gestosci pra- 8515485154 du katodowego 0,05—2 A/dm2, korzystnie 0,05—1) A/dm2, która w miiaire wyczerpywania sie skladni¬ ków uzupelnia sde wodnym roztworem cyjanozlo¬ cinu inebalhi alkalajcznego lub amonu, przy czym ko- •raystnie jest, jezeli wodny roztwór sklada sie z cy¬ janozlocinu potasowego i dwuzasadowego fosfora-5 nu potasowego o stezeniu 80—300 g/l w ilosci 1 ml na 0,4-^4 g cyjanozlocinu.W czasie prowadzenia procesu technologicznego zlocenia wedlug wynalazku, kaptiel nie wymaga ciaglej filtracji* jednak lepiej jest prowadzic jej cyrkulacje przez M/ta*, co wplywa dodatnio na proces oraz usuwa dirobne zanieczyszczenia mechaniczne; wprowadzone^ #07;kipieli z elemenitami przeznaczo- nyima. do (zlocenia. Elementy te umieszcza sie naj wieszakach lub w bebnach galwanicznych, stosujac odpowiednia gesitosc pradu elektrycznego oraz nie¬ rozpuszczalne anody (mp. grafitowe lufo platynowe); które eMminuJa wystepujace wahania parametrów pracy i zabezpieczaja przed wystepowaniem nie¬ pozadanych zaklócen.W czasie prowadzenia procesu cyjanozloain pota¬ sowy dostarcza 'jonów zlota, cytrynian trójpotaso- wy utrzymuje wspólnie z ortofosforanem ppttaspwym dwuzasadowyim stale pH (roztworu i kompleksuje za¬ nieczyszczenia imefoaMczne (np. niklu, kobaltu i ze¬ laza). Ponadto zawartosc ortafiosforanu potasowego dwuzasadowego d pirofiosforanu czteropotasowego w kapieli pozwala zwiekszyc przewodnictwo elek¬ trolitu ii uzyskac powloka o dobrej przyczepnosci do podloza d lutownosci^ przy czyni dodanie pirofbsfó- ranu czteropotasowego do kapieM ma decydujacy wplyw na uzyskanie odpowiedniej struktury po¬ wlok, wymaganych w procesach lutowania struk¬ tur pólprzewodnikowych i termokompresji.Sposób wedlug wynalazku pozwala uzyskac po¬ wloki nie posiadajace wad wystepujacych w powlo¬ kach wyitwarzanych znanymi sposobami. Kapiel, wy¬ kazuje duza trwalosc i pozwala uzyskac okolo 400 g zlota z jednego Mitra kapieM; naitomiaist .prowadze¬ nie w niej procesu zlocenia nie jest klopotliwe ze wzgledu na mozMwosc uzupelniania jej, dobra sta¬ bilnosc i duza odpornosc na zanieczyszczenia me¬ taliczne, . przy wykorzystaniu szerokiego, zakresu mozMwych do stosowania gestosci pradowych.Sposób wytwarzania powlok zlotych wedlug wy- naliazku jest bezpiecznym procesem technologicz¬ nym, poniewaz podczas pracy wystepuje tylko nie¬ wielkie wydzielanie sie trujacego cyjanowodoru, a wytworzone tym sposobem -powloki sa szczelne, jasne, posiadaja dobra przyczepnosc do podloza, drobnoziarnista strukture i póliblyszczacy wyglad.Przyklad: Kapiel sporzadizono o skladzie: cy¬ janozloain potasowy — 15 g/l, cytrynian trójpo- tasowy — 150 g/1, ortofosforan potasowy dwuzasa- dowy — 35 g/l, piirofosforan 'czteropotasowy — 8 g/1 i kwas ortofosforowy do pH 7. Brzed rozpo¬ czeciem zlocenia elementów z kowaru wypolero¬ wano je metoda chemiczna i dotrawiono znanym _ sposobem^ Natomiast proces zlocenia tych elemen¬ tów przeprowadzono w temperaturze 55°C, przy katodowej gestosci pradu 0,15 A/dim2 w bebnie i 0,3 A/dm2, gdy zlocenie prowadzono w sposób sta- cjoniarny. W wyniku przeprowadzonego procesu uzyskano pólblyszczaca powloke o grubosci okolo 2 |jum, która nie zmienila swego zabarwienia po wy- grzaniu jej w powietrzu o temperaituirze 500°C w ciagu 5 minut. -niono kapiel roztworem wodnym fosforanu potaso¬ wego dwuzasadowego o stezeniu 170 g/l w ilosci 1 ml na 1,5 g cyjanozlocinu potasowego. Uzupelnio- na kapiel zachowala itrwalosc i wysoka wydajnosc, poniewaz z jednego litra kapieli uzyskano 450 g zlota. PL
Claims (3)
1. Zastrzezenia patentowe 30 1. Sposób wytwarzania powlok zlotych metoda galwaniczna w kapieM staiowiacej wodny roztwór cyjanozlocinu metalu alkalicznego lulb amonu, cytry¬ nianu metalu alkalicznego lub amonu, ortofosfoira- nu metalu alkaMcznego luib amonu, wodorotlenku 35 potasowego lub kwasu oirlofosiorowego, znamienny tym, ze do kapieM wprowadza sie piraftosfoiran jed¬ nego lub kilku metaM alkaMcznych luib amonu.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze powloki wyltwarza sie w kapieM o pH 4,5—9, tem- 40 peraiturze 30—80°C, ikorzystnie 45—75°C, przy czym katodowa gestosc pradu elektrycznego wynosi 0,05— 2 A/dm2, ikorzystnie 0,051—1 A/dm2.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze ¦sklad kapieM uzupelnia sie mieszanina wodnego roz- 45 tworu cyjanozlocinu metalu alkaMcznego luib amo¬ nu oraz dwuzasadowego fosforanu metalu alkalicz¬ nego lub amonu. PZG Bydg., zam. 2965/76, nakl. 130 + 20 Cena 10 zl PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16379773A PL85154B1 (pl) | 1973-07-03 | 1973-07-03 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL16379773A PL85154B1 (pl) | 1973-07-03 | 1973-07-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL85154B1 true PL85154B1 (pl) | 1976-04-30 |
Family
ID=19963314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL16379773A PL85154B1 (pl) | 1973-07-03 | 1973-07-03 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL85154B1 (pl) |
-
1973
- 1973-07-03 PL PL16379773A patent/PL85154B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kumar et al. | Factor effecting electro-deposition process | |
| US5039576A (en) | Electrodeposited eutectic tin-bismuth alloy on a conductive substrate | |
| Wilkinson | Understanding gold plating | |
| JP6370380B2 (ja) | 銀−パラジウム合金の電着のための電解質、及びその析出方法 | |
| JPS6254397B2 (pl) | ||
| US20190153608A1 (en) | Method of obtaining a yellow gold alloy deposition by galvanoplasty without using toxic metals or metalloids | |
| US3616280A (en) | Nonaqueous electroplating solutions and processing | |
| US3637474A (en) | Electrodeposition of palladium | |
| CA1129805A (en) | Electrodeposition of ruthenium-iridium alloy | |
| JPS6270592A (ja) | 電気アルミニウムめつき浴およびそのめつき浴によるめつき方法 | |
| US4265715A (en) | Silver electrodeposition process | |
| NL8001999A (nl) | Bad voor het platteren met zilver en een legering van goud en zilver en een werkwijze voor het platteren daarmede. | |
| JPS6250560B2 (pl) | ||
| SE502520C2 (sv) | Bad, sätt och användning vid elektroplätering med tenn- vismutlegeringar | |
| CN115605635A (zh) | 银/锡电镀浴及其使用方法 | |
| US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
| PL85154B1 (pl) | ||
| JPS6332875B2 (pl) | ||
| EP1789611A2 (en) | Controlling the hardness of electrodeposited copper coatings by variation of current profile | |
| US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor | |
| KR100402730B1 (ko) | 마그네슘합금에 동-니켈 도금층을 전해 도금으로 형성하는방법 | |
| US2143760A (en) | Method and composition for cadmium plating | |
| CA1163952A (en) | Palladium electrodeposition compositions and methods | |
| JPH0319307B2 (pl) | ||
| FR2538815A1 (fr) | Procede pour former, par electrolyse, un revetement de cuivre sur un substrat, a partir d'un bain exempt de cyanure, et anode pour la mise en oeuvre de ce procede |