PL82783B1 - Process for forming a metal-phosphorus-sulphur coating on a substrate[gb1269487a] - Google Patents
Process for forming a metal-phosphorus-sulphur coating on a substrate[gb1269487a] Download PDFInfo
- Publication number
- PL82783B1 PL82783B1 PL1970142493A PL14249370A PL82783B1 PL 82783 B1 PL82783 B1 PL 82783B1 PL 1970142493 A PL1970142493 A PL 1970142493A PL 14249370 A PL14249370 A PL 14249370A PL 82783 B1 PL82783 B1 PL 82783B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- substrate
- metal
- phosphorus
- coating
- solvent
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 65
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 50
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 45
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 41
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 31
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 claims description 8
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 4
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 claims description 4
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 229940111121 antirheumatic drug quinolines Drugs 0.000 claims 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003916 ethylene diamine group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 claims 1
- -1 cellulosic Substances 0.000 abstract description 36
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 6
- 239000002023 wood Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011111 cardboard Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010985 leather Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000004568 cement Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007799 cork Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 abstract description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 abstract 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 17
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 9
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 5
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 5
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 5
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 3
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000779819 Syncarpia glomulifera Species 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 229940052308 general anesthetics halogenated hydrocarbons Drugs 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000001739 pinus spp. Substances 0.000 description 2
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229940036248 turpentine Drugs 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- XEMRAKSQROQPBR-UHFFFAOYSA-N (trichloromethyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 XEMRAKSQROQPBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloropropane Chemical compound CCC(Cl)(Cl)Cl AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTEJLXYOJZOXKM-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromoprop-1-ene Chemical group CC=C(Br)Br HTEJLXYOJZOXKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-hydroxy-3-piperidin-1-ylpropoxy)phenyl]-3-phenylpropan-1-one Chemical compound C1CCCCN1CC(O)COC1=CC=CC=C1C(=O)CCC1=CC=CC=C1 DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGXAGETVRDOQFP-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C=O DGXAGETVRDOQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPPLJLAHMKABPR-UHFFFAOYSA-H 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].[Ni+2].[Ni+2].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O UPPLJLAHMKABPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDCGTAAWGJIOW-UHFFFAOYSA-N 2h-indeno[1,2-g][1]benzofuran Chemical compound C1=C2C=CC=CC2=C2C1=C1OCC=C1C=C2 UTDCGTAAWGJIOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 4-Chlorotoluene Chemical compound CC1=CC=C(Cl)C=C1 NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001859 Ethyl hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920001479 Hydroxyethyl methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007817 Olea europaea Species 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- VKCLPVFDVVKEKU-UHFFFAOYSA-N S=[P] Chemical compound S=[P] VKCLPVFDVVKEKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229920001079 Thiokol (polymer) Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- YISUXFFRHDTCJW-UHFFFAOYSA-N [S].[P].[Cu] Chemical compound [S].[P].[Cu] YISUXFFRHDTCJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910001378 barium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- DRZOELSSQWENBA-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-dicarboperoxoic acid Chemical class OOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OO DRZOELSSQWENBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUFIRBOBXZUFPV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1.OC1=CC=CC(O)=C1 HUFIRBOBXZUFPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDNBHWFDWXWFTG-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-diol;formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC(O)=C1 QDNBHWFDWXWFTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBLCKKYWRLJVPA-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-diol;furan-2-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CO1.OC1=CC=CC(O)=C1 OBLCKKYWRLJVPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001382 calcium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K calcium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005521 carbonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N dimethylglyoxime Chemical compound O/N=C(/C)\C(\C)=N\O JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000019326 ethyl hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000008098 formaldehyde solution Substances 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HANVTCGOAROXMV-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine;urea Chemical compound O=C.NC(N)=O.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 HANVTCGOAROXMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N hept-2-ene Chemical compound CCCCC=CC OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229920001702 kydex Polymers 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000012764 mineral filler Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- GINQYTLDMNFGQP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylformamide;methylsulfinylmethane Chemical compound CS(C)=O.CN(C)C=O GINQYTLDMNFGQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diformate Chemical compound [Ni+2].[O-]C=O.[O-]C=O HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N nicotine Chemical compound CN1CCCC1C1=CC=CN=C1 SNICXCGAKADSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-M oleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-M 0.000 description 1
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 1
- 239000008601 oleoresin Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000003209 petroleum derivative Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001476 sodium potassium tartrate Substances 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBSZRRSYVTXPNB-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus Chemical compound P12P3P1P32 OBSZRRSYVTXPNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGVLTERGGBRMAG-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate;trihydrate Chemical compound O.O.O.[K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O YGVLTERGGBRMAG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229940070710 valerate Drugs 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/2006—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30
- C23C18/2046—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins by other methods than those of C23C18/22 - C23C18/30 by chemical pretreatment
- C23C18/2073—Multistep pretreatment
- C23C18/2086—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
- C23C18/22—Roughening, e.g. by etching
- C23C18/26—Roughening, e.g. by etching using organic liquids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
Description
Uprawniony z patentu: Hooker Chemicals and Plasties CorporationJ Niagara Falls (Stany Zjednoczone Ameryu CZY IlLNIAJ 1 Urzedu PcterSwr .-,:< Sposób nakladania powlok metalicznych na podloza bezpradowo lub elektrolitycznie Przedmiotem wynalazku jest sposób nakladania powlok metalicznych na podloza bezpradowo lub elektrolitycznie, zwlaszcza z tworzyw sztucznych.Istnieje duze zapotrzebowanie na tanie wyroby z tworzyw przypominajacych wygladem wyroby z metalu. Takie wyroby znajduja zastosowanie w przemysle samochodowym, do wyrobu przedmio¬ tów gospodarstwa domowego, w przemysle radio¬ wym i telewizyjnym, przy produkcji pojemników dekoracyjnych itp.Powierzchnie wyrobów z tworzyw sztucznych sa zazwyczaj lsniace i calkowicie hydrofobowe. Z tego wzgledu sa one nieodpowiednie do powleka¬ nia metalami w procesie elektrolitycznym z zasto¬ sowaniem roztworów wodnych, poniewaz roztwory te nie zwilzaja powierzchni i odkladanie metalu nie moze miec miejsca.W zwiazku z powyzszym stosowano dodatkowa obróbke wyrobów z tworzyw sztucznych przed powlekaniem metalami polegajaca na usuwaniu polysku.W znanych sposobach usuwanie polysku prze¬ prowadzano metoda mechaniczna i/lub chemiczna.Metoda mechaniczna polega na przemywaniu materialem sciernym w postaci papki, wilgotnym bebnowaniu, suchym walcowaniu lub sciernym dmuchaniu.Usuwanie polysku metoda mechaniczna jest sku¬ teczne, ale bardzo kosztowne i w wielu przypad¬ kach stosunkowo male czesci lub czesci zarysów 10 15 sa bardzo trudne do obróbki znanymi srodkami.Inna wada metody mechanicznej jest kontrola i równomiernosc scierania powierzchni co wplywa na jakosc przylegania metalicznej powloki do wyjsciowego wyrobu.Od niedawna zaczeto stosowac usuwanie polys¬ ku metoda chemiczna lub przez wytrawianie, za pomoca roztworów mocnych kwasów, takich jak kwas siarkowy i chromiany.Jednakze w procesach tych bez stosowania ob¬ róbki mechanicznej nie mozna uzyskac dobrej powloki metalicznej w procesie elektrolitycznym.Znany jest równiez sposób chemicznego wytra¬ wiania wyrobów za pomoca utleniajacego roztworu kwasu chromowego, po uprzednim potraktowaniu powierzchni substancja zraca, taka jak wodorotle¬ nek w polaczeniu z zanurzeniem w kwasie redu¬ kujacym, takim jak kwas chlorowodorowy. Proces ten zastepuje obróbke mechaniczna prawie calko- 20 wicie. Jednakze proces ten nie jest bardzo odpo¬ wiedni do wytwarzania powloki metalu na wyro¬ bach z tworzyw sztucznych, gdyz nie zapewnia odpowiedniego przylegania powloki do materialu wyjsciowego. 25 Nieoczekiwanie stwierdzono, ze podloze z two¬ rzyw mozna skutecznie powlekac metalami stosu¬ jac póltorasiarczek fosforu.Sposób wedlug wynalazku polega na utworzeniu na powierzchni podloza zwiazków metal-fosfór lub 30 metal-fosfór-siarka w celu uzyskania powierzchni, 82 78382 783 która mozna nastepnie powlekac metalami. Mó¬ wiac dokladniej, sposób wedlug wynalazku polega na traktowaniu . podloza fosforem elementarnym lub póltorasiarczkiem fosforu tak, by na powierz¬ chni osadzil sie fosfor lub póltorasiarczek fosforu.Otrzymana tak próbke traktuje sie roztworem soli .metalu lub jej kompleksu w celu utworzenia zwiazku metal-fosfór lub metal-fosfór-siarka. W jednym z wariantów sposobu wedlug wynalazku otrzymane powierzchnie poddaje sie bezpradowe- •mu powlekaniu metalem w celu otrzymania prze¬ wodzacej powierzchni, a nastepnie wyroby pokry¬ wa sie metalem galwanicznie uzyskujac powloke metaliczna o zadanej grubosci i dobrej przyczep¬ nosci.W pierwszym etapie sposobu wedlug wynalazku podloze traktuje sie póltorasiarczkiem fosforu lub fosforem elementarnym. Jako fosfor stosuje sie fosfor bialy o róznej czystosci lub handlowy fos¬ for zólty. Póltorasiarczek stosuje sie W postaci cieklej lub rozpuszczony w rozpuszczalniku. Fosfor elementarny stosuje sie w fazie gazowej, w po¬ staci cieklej lub rozpuszczony w rozpuszczalniku.Jako rozpuszczalniki lub rozcienczalniki do pól- torasiarczku fosforu lub fosforu elementarnego stosuje sie rozpuszczalniki, w których rozpuszcza sie póltorasiarczek fosforu" lub fosfor elementarny i które powoduja pecznienie powierzchni tworzywa bez szkodliwego wplywu na te powierzchnie. Ta¬ kimi rozpuszczalnikami sa chlorowcowane weglo¬ wodory i chlorowco-wegle, takie jak chloroform, etylochloroform, fenylochloroform, dwuchloroety- len, trójchloroetylen, czterochloroetylen, trójchlo¬ roetan, dwuchloropropan, dwubromek etylu, chlo- robromek etylu, dwubromopropylen, monochloro- benzen, monochlorotoluen itp., weglowodory aro¬ matyczne, takie jak benzen, toluen, ksylen, etylo- benzen, naftalen itp., ketony, takie jak aceton, metyloetyloketon itp., kwas octowy, mieszanine kwasu octowego i trójchloroetylenu, dwusiarczek wegla itp.W przypadku stosowania roztworu póltorasiarcz¬ ku fosforu stezenie roztworu wynosi od 0,0001% wagowych w przeliczeniu na ciezar roztworu, az do roztworu nasyconego, korzystnie 0,5—2,5% wa¬ gowych. Przed potraktowaniem podloza póltora¬ siarczkiem fosforu w postaci cieklej lub w postaci roztworu, powierzchnie podloza nalezy oczyscic.W przypadku stosowania roztworu rozpuszczalnik sluzy do oczyszczenia powierzchni. W przypadku uzycia cieklego póltorasiarczku fosforu powierz¬ chnie nalezy umyc rozpuszczalnikiem. Traktowanie podloza póltorasiarczkiem fosforu przebiega zwykle w temperaturze nizszej od temperatury miekniecia podloza i w temperaturze nizszej niz temperatura wrzenia rozpuszczalnika, o ile byl uzyty. Proces przebiega zwykle w temperaturze 0—135°C, korzy¬ stnie w 15—75°C. Czas zetkniecia jest rózny, za¬ lezny od rodzaju podloza, rozpuszczalnika i tem¬ peratury i zwykle wynosi od 1 sekundy do 1 go¬ dziny lub dluzej, korzystnie 1—20 minut.W przypadku stosowania roztworu fosforu ste¬ zenie jego wynosi od 0,0001% wagowych w prze¬ liczeniu na ciezar roztworu do roztworu nasyco¬ nego, korzystnie 1,5—2,5% wagowych.Poddawanie powierzchni specjalnym operacjom takim, jak trawienie, polerowanie itp. nie jest konieczne. Traktowanie fosforem prowadzi sie zwykle w temperaturze nizszej niz temperatura 5 miekniecia podloza i nizszej niz temperatura wrze¬ nia rozpuszczalnika, jezeli sie go stosuje. Proces zwykle prowadzi sie w temperaturze 10—135°C, korzystnie 50—100°C. Czas zetkniecia zmienia sie zaleznie od rodzaju podloza, rozpuszczalnika i tem- io peratury, lecz zwykle wynosi od 1 sekundy do 1 godziny lub dluzej, korzystnie 1—10 minut.Stwierdzono, ze traktowanie podloza rozpuszczal¬ nikiem przed procesem nanoszenia póltorasiarczku fosforu lub fosforu ma duzy wplyw na przyczep- 15 nosc powloki metalicznej. Temperatura rozpusz¬ czalnika pozostaje w bezposredniej zaleznosci do przyczepnosci powloki. Zwykle stosuje sie tempe¬ rature od 30°C do temperatury wrzenia rozpusz¬ czalnika, korzystnie o okolo 50—100°C i wyzej niz 20 temperatura roztworu póltorasiarczku fosforu, o ile jest on stosowany. Czas zetkniecia zmienia sie zaleznie od rodzaju podloza, rozpuszczalnika i tem¬ peratury, ale korzystnie wynosi 1—15 minut.W pierwszym etapie sposobu wedlug wynalazku 25 póltorasiarczek fosforu lub fosfor osadza sie na powierzchni podloza. Póltorasiarczek fosforu lub fosfor elementarny moze osadzac sie na powierz¬ chni, w powierzchni lub ponizej powierzchni pod¬ loza. Umiejscowienie póltorasiarczku fosforu lub 30 fosforu zalezy nieco od dzialania rozpuszczalnika na powierzchnie, o ile jest on stosowany.Po zakonczeniu pierwszego etapu podloze mozna plukac rozpuszczalnikiem i suszyc pozostawiajac na powietrzu lub w atmosferze obojetnej, na przy- 35 klad w atmosferze azotu, dwutlenku wegla itp., jak równiez za pomoca promienników lub w zwyklym piecu. Czas suszenia moze zmieniac sie znacznie i wynosi na przyklad od 1 sekundy do 30 minut lub dluzej, korzystnie 5 sekund — 10 40 minut, a zwlaszcza 5—120 sekund. Plukanie i susze¬ nie nie jest konieczne.Drugi etap sposobu wedlug wynalazku polega na traktowaniu podloza z naniesionym póltorasiarcz¬ kiem fosforu lub fosforem elementarnym roztworem 45 soli metalu lub kompleksu soli metalu zdolnej do utworzenia z fosforem zwiazku metal-fosfór-siarka lub metal fosforek. Przez zwiazek metal-fosfór-siarka lub metal-fosforek nalezy rozumiec powloke z me- talo-fosforo-siarki lub metalo-fosforku utworzona 50 na powierzchni podloza. Zwiazki te moga miec charakter jonowy lub moga byc roztworami (sto¬ pami). Zwykle stosowane sa metale nalezace do IB, IIB, IVB, VB, VIB, VII i VIII grupy ukladu okresowego pierwiastków zamieszczonej w ksiazce 55 Lange: "Handbook of Chemistry", X wydanie po¬ prawione, str. 60—61. Najbardziej odpowiednimi metalami sa miedz, srebro, zloto, chrom, mangan, kobalt, nikiel, pallad, tytan, cyrkon, wanad, tantal, kadm, wolfram, molibden itp. 60 Stosowane sole moga posiadac rózne aniony.Odpowiednimi anionami sa aniony kwasów mine- . ralnych, takie jak jon siarczanowy, chlorkowy, bromkowy, jodkowy, fluorkowy, azotanowy, fosfo¬ ranowy, chloranowy, nadchloranowy, boranowy, 65 weglanowy, cyjankowy itd. Mozna równiez stoso-5 wac aniony kwasów organicznych, takie jak jon mrówczany, octanowy, cytrynianowy, maslanowy, walerianianowy, kapronianowy, stearynianowy, oleinianowy, palmitynianowy, dwumetyloglioksym itp. Zwykle aniony kwasów organicznych zawiera¬ ja 1—18 atomów wegla.Korzystnie jako sole metali stosuje sie siarczan miedzi, chlorek miedzi ,azotan srebra, chlorek ni¬ klu i siarczan niklu.Sole metali moga wystepowac w kompleksach z substancjami tworzacymi kompleksy, które daja roztwory o odczynie alkalicznym (wartosc pH 7).Szczególnie korzystne sa kompleksy soli metali z amoniakiem, w których 6 moli amoniaku jest po¬ laczone z sola metalu. Przykladami odpowiednich kompleksów sa NiS04-6NH8, Ni(C2H800)2-6NH3, CuSOaieNHg, CuCl2-6NH8, AgN03-6NH8, NiS04- •3NH3, CuSOT^TNFHg, NiCl-6NH3, Ni(NOs)2-4NH3 itp. Innymi substancjami tworzacymi kompleksy sa chinolina, aminy i pirydyna. Uzytecznymi kom¬ pleksami sa zwiazki o wzorze MX2Q2, w którym M oznacza jon metalu, X oznacza atom chloru lub bromu, a Q oznacza chinoline. Typowymi przykladami takich kompleksów sa COCI^, CoBr^2, NiClgOa, NiBrjA,, CuCl2Q2, CuBr2Q2 i ZnCldQ2.Przykladami kompleksów z aminami sa mo¬ no(etylenodwuamino)-, bis(etylenodwuamino)-, tris (etylenodwuamino)-, bis(l,2-propanodwuamino)- i bis(1,3-propanodwuamino)-kompleksy z takimi solami jak siarczan miedzi. Typowymi kompleksa¬ mi z pirydyna sa zwiazki o wzorze NiCl2(py)2 i CuCl2(py)2, w których py oznacza pirydyne.Sole metali i ich kompleksy stosowane sa w srodowiskach polarnych, korzystnie w roztworach 'wodnych. Mozna je równiez stosowac w srodowis¬ ku niewodnym, na przyklad w alkoholu takim, jak alkohol metylowy, alkohol etylowy, alkohol buty¬ lowy, alkohol heptylowy, alkohol decylowy itp.Ponadto mozna stosowac mieszaniny alkoholu i wody. Równiez uzyteczne sa mieszaniny alkoholi z innymi mieszajacymi sie rozpuszczalnikami wy¬ mienionymi powyzej. Korzystnie stosuje sie roz¬ twór o stezeniu 0,1% wagowych soli metalu lub kompleksu w przeliczeniu na calkowity ciezar roztworu do roztworu nasyconego, korzystnie 1— 10% wagowych soli metalu lub kompleksu. War¬ tosc pH roztworu soli metalu lub kompleksu wy¬ nosi 4—14, ale zwykle utrzymuje sie odczyn za¬ sadowy roztworu to jest powyzej pH=7, korzys¬ tnie10—13. ' Etap drugi, traktowanie podloza z naniesionym póltorasiarczkiem fosforu lub fosforem elementar¬ nym, roztworem soli metalu prowadzi sie zwykle w temperaturze nizszej od temperatury miekniecia podloza i nizszej od temperatury wrzenia rozpusz¬ czalnika, o ile byl stosowany. Zwykle proces pro¬ wadzi sie w temperaturze 30—110°C, korzystnie 50—100°C. Czas zetkniecia zmienia sie znacznie w zaleznosci od rodzaju podloza, rodzaju soli metalu i temperatury. Zwykle czas ten miesci sie w gra¬ nicach 0,1—30 minut, korzystnie 5—10 minut.Zaleznie od zastosowanych w obu etapach wa¬ runków, czasu traktowania i rodzaju podloza otrzy¬ muje sie powierzchnie przewodzace, a wiec takie, 2783 ( 6 które latwo powlekac elektrolitycznie znanymi sposobami, lub tez nieprzewodzace.W ostatnim przypadku powierzchnie takie zawie¬ raja miejsce aktywne lub katalizujace, co stwa- 5 rza mozliwosc dalszego prowadzenia procesu po¬ wlekania sposobami bezpradowymi. Dzieki temu na powierzchni podloza powstaje warstwa prze¬ wodzaca prad. Taka warstwe mozna juz powlekac elektrolitycznie. 1( Otrzymane podloza po drugim etapie sposobu wedlug wynalazku mozna poddac procesom po¬ wlekania bezpradowego lub powlekania chemicz¬ nego. W typowym procesie powlekania bezprado¬ wego powierzchnie zkatalizowana traktuje sie roz- 15 tworem soli metalu w warunkach, w których jon metalu jest zredukowany do metalu i osadza sie na tej powierzchni. Zastosowanie tego procesu do powierzchni otrzymywanych sposobem wedlug wy¬ nalazku jest mozliwe dzieki istnieniu na takiej 20 powierzchni zkatalizowanych miejsc metalicznych osadzonych w czasie traktowania powierzchni roz¬ tworem soli metalu lub jej kompleksu.Kapiel chemiczna sluzaca do naniesienia powloki niklowej na katalizowana powierzchnie otrzymana 25 sposobem wedlug wynalazku zawiera, na przyklad roztwór soli niklu w wodnym roztworze podfosfo- rynu. Odpowiednimi podfosforynami sa podfosfo- ryny metali alkalicznych, takie jak podfosforyn sodowy i potasowy i podfosforyny metali ziem 30 alkalicznych, takie jak podfosforyn wapniowy i ba¬ rowy. Mozna równiez stosowac sole metali opisane powyzej przy wyliczaniu soli metali sluzacych do traktowania powierzchni z naniesionym fosforem.Jako srodowiska redukujace mozna stosowac rów- 35 niez formaldehyd, wodorochinon i hydrazyne.Roztwory do chemicznego powlekania zawieraja czesto bufory, srodki tworzace kompleksy i inne.Otrzymane sposobem wedlug wynalazku podloze' przewodzace powleka sie znanymi sposobami ele- 40 ktrolitycznymi. Zwykle powierzchnia ta sluzy jako katoda. Metal, którym ma byc powlekana jest zwykle rozpuszczony w wodnej kapieli do powle¬ kania chociaz mozna równiez stosowac inne media, Zwykle stosuje sie anode z metalu, którym po- 45 wierzchnia ma byc powlekana. W pewnych przy¬ padkach stosuje sie anode weglowa lub inna anode obojetna.Odpowiednie metale, roztwory i warunki powle¬ kania elektrolitycznego opisano w pracy Metal 50 Finiahing Guidebook Directory, Metals a. Plastics Publication, Inc. Westwood, N.J. 1967.Sposobem wedlug wynalazku mozna nakladac powloki metaliczne na rózne podloza. Otrzymane wyroby sa pokryte dobrze przylegajaca powloka 55 metaliczna odporna na luszczenie sie, zmiany tem¬ peratury i korozje. Powloki te maja zdolnosc przewodzenia pradu elektrycznego, przy czym la^ dunki elektrycznosci statycznej mozna latwo usu¬ nac. Powloki te chronia wyroby przed scieraniem, 60 zadrapaniem i uszkodzeniem, zmniejszaja ich po¬ rowatosc i zwiekszaja przewodnictwo cieplne.Sposób wedlug wynalazku mozna stosowac do jednokierunkowych luster, do urzadzen do prze¬ chowywania wódy i plynów, do ochrony domów, 65 samochodów, lodzi, slupów wysokiego napiecia,82 783 8 swiatel ulicznych, przy zwalczaniu „cieploty" ubran, domów itp.Sposobem wedlug wynalazku mozna równiez otrzymac wyroby, na powierzchni których utwo¬ rzyl sie zwiazek metal-fosfór lub metal-fosfór- -siarka dobrze przylegajacy do powierzchni pod¬ loza.Sposobem wedlug wynalazku mozna nakladac powloki metaliczne na podloza niemetaliczne, na przyklad na materialy celulozowe i ceramiczne, takie jak odziez, papier, drzewo, korek, tektura, glina, porcelana, skóra, szklo porowate, azbest, cement itp.Typowe tworzywa, do których mozna stosowac sposób wedlug wynalazku sa homopolimerami lub kopolimerami weglowodorów alifatycznych, alicy- klicznych i aromatycznych zawierajacych wiazanie podwójne, takimi jak polietylen, polipropylen, poli- buten i kopolimery etylenopropylenu, kopolimery etylenu lub propylenu z innymi olefinami, polibu- tadien, polimery butadienu i polizopren, polistyren i polimery pentanu, heksenu, heptanu, oktenu, 2- -metylopropenu, 4-metyloheksenu-l, dwucyklo[2,2,1] heptenu-2, pentadienu, heksadienu, 2,3-dwumetylo- butadienu-1,3 — 4-winylocykloheksanu-l, cyklo- pentadienu, metylóstyrenu itp. Mozna równiez sto¬ sowac zywice poliidenoindenokumaronowe, polime¬ ry estrów akrylowych i estrów metakrylowych, zy¬ wice akrylowe i metakrylowe, takie jak akrylan etylu, metakrylan n-butylu, metakrylan izobutylu, metakrylan etylu i metakrylan metylu, zywice al¬ kilowe, pochodne celulozy, takie jak octan celulozy, octanomaslan celulozy, azotan celulozy, etylocelu¬ loza, hydroksyetyloceluloza, metyloceluloza i sól sodowa karboksymetylocelulozy, zywice epoksydo¬ we, zywice furanowe (furfurol i alkohol furfury- lowy), zywice weglowodorowe z ropy naftowej, zywice izobutylenowe (poliizobutylen), zywice izo- cyjanianowe (poliuretany), zywice melaminowe, takie jak melaminowo-formaldehydowa i melami- nowo-mocznikowo-formaldehydowa, oleozywice, zy¬ wice fenolowe, takie jak fenolowo-formaldehydo- we, elastomery fenolowe, fenolowo-epoksydowe, fenolowo-poliamidowe i fenolowo-winyloacetalowe, polimery poliamidowe, takie jak poliamidy, poli- amido-epoksydowe, a zwlaszcza dlugolancuchowe syntetyczne polimery amidowe zawierajace powta¬ rzajace sie grupy karbonamidowe jako integralna czesc glównego lancucha polimeru, zywice polies¬ trowe, takie jak nienasycone poliestry kwasów dwuzasadowych i dwuhydroksyzwiazków, elasto- mary poliestrowe i zywice rezorcynowe, takie jak rezorcynowo-formaldehydowa, rezorcynowo-furfu- ralowa, rezorcynowo-fenolowo-formaldehydowa, re- zorcynowo-poliamidowa i rezorcynowo-mocznikowa, kauczuki, takie jak kauczuk naturalny, syntetyczny poliizopren, guma regenerowana, chlorokauczuk, po- libutadien, cyklokauczuk, kauczuk butadienowoa- krylonitrylowy, kauczuk butadienowo-styrenowy, i kauczuk butylowy, neopren (kauczuk polichloro- prenowy), polisiarczki (Thiokol), zywice terpenty¬ nowe, zywice mocznikowe, zywice winylowe, takie jak polimery winyloacetalu, octan winylu lub ko¬ polimer alkohpl winylowy-octan winylu, polimery 20 alkoholu winylowego, chlorku winylu, aldehydu butylowinylowego, kopolimer chlorku winylu-octan winylu, kopolimer winylopirolidon-chlorek winyli- denu, poliformaldehyd, tlenek polioksyfenylenowy, 5 polimery ftalanu dwuallilu i ftalany, poliweglany fosgenu lub tiofosgenu i dwuhydroksyzwiazków, ta¬ kich jak dwufenole, termoplastyczne polimery dwu- fenoli i epichlorohydryny (o nazwie handlowej Phenoxy polymers), kopolimery szczepione i poli- 10 mery nienasyconych weglowodorów i nienasyco¬ nych monomerów, takie jak szczepione kopolimery polibutadienu, styrenu i akrylonitrylu zwane zwykle zywicami ABS, polimery ABS-polichlorek winylu niedawno wprowadzone pod nazwa Cycovin i po- 15 limery polichlorku winylu z akrylowymi znane pod nazwa handlowa Kydex 100.Polimery mozna stosowac bez wypelniacza lub z wypelniaczami, takimi jak wlókno szklane,- pro¬ szek szklany, kulki szklane, azbest, talk i inne wy¬ pelniacze mineralne, maczka drzewna i inne wy¬ pelniacze roslinne, wegiel w jego róznych posta¬ ciach, barwniki, pigmenty, woski itp.Podloza moga wystepowac w postaci artykulów 25 uformowanych, w postaci arkuszy, pretów, wló¬ kien, blon, tkanin itp.Podane ponizej przyklady ilustruja sposób we¬ dlug wynalazku. 30 Przyklad I. Próbe arkusza z polipropylenu zanurza sie na 2 minuty do roztworu zawieraja¬ cego 2% wagowych póltorasiarczku fosforu w mieszaninie 700 ml trójchloroetylenu, 700 ml czte- rochloroetylenu i 14 ml etanolu w temperaturze 70°C. Nastepnie próbke zanurza sie na 10 minut w roztworze pirofosforanu miedzi w temperaturze 60°C. Roztwór pirofosforanu miedzi przygotowuje sie rozpuszczajac w wodzie 223 g tlenku miedzi, 2660 g trójwodzianu pirofosforanu czteropotaso- wego, 123 g kwasu szczawiowego, 40 g 30% obje¬ tosciowo wodnego roztworu amoniaku i 61,2 g 70% objetosciowo wodnego roztworu kwasu azo¬ towego, rozciencza sie do 6 litrów i saczy. 45 Na powierzchni polipropylenu otrzymuje sie czerwona warstwe miedz-fosfór-siarka przewodza¬ ca prad. Na otrzymana warstwe nanosi sie elektro¬ litycznie warstwy niklu i chromu o dobrej przy¬ czepnosci do polipropylenu. Wyrób poddaje sie 50 procesowi galwanicznemu w kapieli zawierajacej pólblyszczacy nikiel (Harshaw Co.) przy gestosci pradu 5,385 A/dcm2, nastepnie w kapieli zawiera¬ jacej blyszczacy nikiel (Harshaw Co.) przy gestosci pradu 5,385 A/dcm2 i wreszcie w kapieli chromo- 55 wej (Udylite Corp.) przy gestosci pradu 16,155 A/dcm2.Przyklad II—XI'V. Postepujac w sposób opi¬ sany w przykladzie I, stosujac 2% wagowych 60 roztwór póltorasiarczku fosforu w trójchloroetylenie i w czterochloroetylenie i poddajac nastepnie dzia¬ laniu kapieli zawierajacej sól metalu otrzymuje sie rózne powloki metal-fosfór-siarka. Rodzaj pod¬ loza, sklad kapieli i wyglad otrzymanej powloki 65 podano w tablicy 1. 35 4082 783 9 10 Tablica 1 Przyklad II III IV V VI VII VIII IX X XI XII XIII XIV Tworzywo Polipropylen Polipropylen Polipropylen Polipropylen * Polietylen Kopolimer polioctanwinylu- polichlorek winylu Polipropylen z wypelnia¬ czami ABS Polipropylen Polietylen Kopolimer polioctan winylu- polichlorek winylu Polipropylen z wypel¬ niaczami ABS Kapiel soli metalu Pirofosforan miedzi w wodzie Amoniakalny roztwór siarczanu niklu Siarczan miedzi Amoniakalny roztwór siarczanu niklu Amoniakalny roztwór siarczanu niklu Amoniakalny roztwór siarczanu niklu Amoniakalny roztwór siarczanu niklu Amoniakalny roztwór siarczanu, niklu Pirofosforan miedzi w wodzie Pirofosforan miedzi w wodzie Pirofosforan miedzi w wodzie Pirofosforan miedzi w wodzie Pirofosforan miedzi w wodzie Wyglad Powloka czerwona Powloka czarna Powloka miedziana Powloka czarna Powloka czarna Powloka czarna Powloka czarna i zólta Powloka stalowa Powloka czerwona Przezroczysta powloka bursztynowa Powloka ciemno-oliwkowo- -szara Powloka brazowa i zólta Blyszczaca powloka oliwkowo szara Przyklad XV. Uformowana polipropylenowa plytke zanurza sie na 5 minut w 1% (wagowo) roztworze póltorasiarczku fosforu w trójchloroety¬ lenie w temperaturze pokojowej, nastepnie plucze sie woda i natychmiast zanurza sie na 10 minut w wodnym roztworze zawierajacym 0,063 mola/ litr siarczanu niklu i 2,5 mola/litr amoniaku, utrzymujac temperature 60QC. Po wysuszeniu otrzy¬ mana powloka koloru czarnego wykazuje opornosc 10 000 Q/cm.Przyklad XVI. Plytke polipropylenowa za¬ nurza sie na 15 minut do kapieli zawierajacej trójchloroetylen w temperaturze 50°C. Nastepnie próbke traktuje sie sposobem opisanym w przy kladzie XV. Opornosc otrzymanej powierzchni wy¬ nosi 3000 Q/cm. Na otrzymana powierzchnie nano¬ si sie elektrolitycznie 7,62 \i pólblyszczacego niklu i 43,18 ^ miedzi z kapieli kwasnej. Oznaczona przyczepnosc wynosila 1,78 kg/cm.Przyklad XVII. Laminat z zywicy epoksy¬ dowej i wlókna szklanego zanurza sie na 5 minut do roztworu zawierajacego 1,3% wagowych pól¬ torasiarczku fosforu w chlorku metylenu w poko¬ jowej temperaturze, nastepnie próbke suszy sie na powietrzu w ciagu 10 sekund i zanurza na 10 mi¬ nut do amoniakalnego roztworu siarczanu niklu w temperaturze 60°C. Opornosc czarnej powloki wynosi 5000 Q/cm. Otrzymany laminat poddaje sie obróbce galwanicznej.Przyklad XVIII—XXVI. Przygotowuje sie 2% (wagowo) roztwory póltorasiarczku fosforu w rozpuszczalnikach wymienionych w tablicy 2.Próbki polipropylenu, ABS, zywicy fenolowej, zy¬ wicy epoksydowej i polichlorku winylu zanurza sie w roztworze póltorasiarczku fosforu na 3 mi¬ nuty w temperaturze 50°C i przenosi do amonia¬ kalnej kapieli siarczanu niklu na 30 minut w temperaturze 65°C. Doswiadczenie powtarza sie zastepujac kapiele niklowe kapielami zawieraja¬ cymi amoniakalny roztwór siarczanu miedzi. We wszystkich przypadkach tworzy sie zwiazek met- tal-fosfór-siarka.Przyklad XVIII XIX XX XXI XXII XXIII XXIV xxv XXVI Rozpuszczalnik Trójchlorometan Czterochlorek wegla Trójchloroetan Benzen Toluen Terpentyna Dekalina Dwumetyloformamid Dwumetylosulfotlenek Przyklad XXVII. Postepujac w sposób opi¬ sany w przykladzie XVIII, stosujac jako kapiele roztwory chlorku niklu, azotanu niklu, octanu ni¬ klu, mrówczanu niklu, cytrynianu niklu, azotanu srebra, chlorku zelaza i chlorku kobaltu otrzymu¬ je sie powierzchnie pokryte zwiazkiem metal-fos- fór-siarka. * Przyklad XXVIII. Postepujac w sposób opi- 65 sany w przykladzie XVIII stosuje sie nastepujace11 podloza otrzymujac powloki mestaliczne o duzej przyczepnosci: nowolak, wlókno bawelniane, teflon, tektura, skóra, guma, masonit, materialy ceramicz¬ ne, drzewo, Lexan (poliweglan), nylon, poliacetyl, zywica akrylowa (pleksiglas i polistyren).Przyklad XXIX. Laminat z zywicy epo¬ ksydowej i wlókna szklanego zanurza sie na 5 minut do 1% (wagowo) roztworu póltorasiarczku fosforu rozpuszczonego w mieszaninie trójchloro¬ etylenu i chlorku metylenu w stosunku objetoscio¬ wym 2 :1 w temperaturze pokojowej. Po wyplu¬ kaniu w wodzie laminat zanurza sie na 15 minut do wodnego roztworu zawierajacego 0,063 mola/litr siarczanu niklu i 2,5 mola/litr amoniaku w tem¬ peraturze 65°C. Nastepnie próbke plucze sie woda i poddaje bezpradowemu dzialaniu wodnej kapieli miedziowej w ciagu 10 minut w temperaturze po¬ kojowej. Kapiel miedziowa zawiera 15 g/litr CuN03-3H20, 10 g/litr NaH COs, 30 g/litr winianu sodowo-potasowego, 20 g/litr NaOH i 100 ml/litr 37% roztworu formaldehydu. Po wysuszeniu na próbke nanosi sie elektrolitycznie 7,62 \i pólblysz- czacego niklu i 43,18 \i miedzi z kapieli kwasnej.Przyklad XXX. Z laminatem z zywicy epo¬ ksydowej i wlókna szklanego postepuje sie w spo¬ sób opisany w przykladzie XXIX stosujac zamiast kapieli miedziowej kapiel niklowa zawierajaca 28,9 g NiS04, 8,9 g cytrynianu sodowego, 12,0 g podfosforynu sodowego, 7,8 g siarczanu magnezo¬ wego i 800 ml wody. Próbki zanurza sie w tej kapieli na 10 minut w temperaturze 85°C. Dalej postepuje sie podobnie jak to opisano w przykla¬ dzie XXIX.Przyklad XXXI. Zestaw czterech krazków polipropylenowych zanurza sie na 15 minut w tem¬ peraturze okolo 32,5°C do 1% (wagowo) roztworu póltorasiarczku fosforu w czterochloroetylenie, a na¬ stepnie na 15 minut w temperaturze 70° do wodne¬ go roztworu kompleksu chlorek miedzi-etyleno- dwuamina. Drugi komplet czterech krazków trak¬ tuje sie podobnie z tym, ze przed traktowaniem ich póltorasiarczkiem fosforu zanurza sie je na 2 minuty do czterochloroetylenu w temperaturze 65°C. Nastepnie oba komplety identycznie sie plu¬ cze, suszy i pokrywa elektrolitycznie 76,2 ^ niklu z kapieli Wattsa. Srednie maksimum przyczepnosci dla czterech krazków kompletu pierwszego wy¬ nosi 0,78 kg/cm, a dla czterech krazków kompletu drugiego — 5,84 kg/cm.Podobne wyniki uzyskuje sie stosujac inne roz¬ puszczalniki takie jak benzen, aceton itp. przed traktowaniem próbek póltorasiarczkiem fosforu.Sposoby podane w przykladach poprzednich mozna modyfikowac podobnie stosujac wstepne traktowanie, próbek rozpuszczalnikiem w celu po¬ prawienia przyczepnosci powloki metalicznej.Przyklad XXXII. Postepujac w sposób opi¬ sany w przykladzie XVI zastepujac polipropylen ABS i trójchloroetylen czterochloroetylenem.Przyklad XXXIII—XLI. Próbki polipropy¬ lenu zanurza sie w trójchloroetylenie w warunkach 783 12 podanych w tablicy 3. Nastepnie próbki zanurza sie na 2 minuty w temperaturze 30°C do 0,5% (wagowo) roztworu fosforu w trójchloroetylenie i na 2,5 minuty w temperaturze 30°C do warstwy 5 wodnej znajdujacej sie na podwierzchni roztworu fosforu. Z kolei próbki zanurza sie do kapieli za¬ wierajacej NiCl2, etylenodwuamine i NaOH na 15 minut w temperaturze 70°C, przemywa wo¬ da w ciagu 5 minut w temperaturze 55°C i suszy io w ciagu 20 minut w temperaturze 85°C. Czas przenoszenia z jednej kapieli % do drugiej wynosi 1 minute. Wreszcie- na próbki nanosi sie elektro¬ litycznie 76,2 ± 12,7 \jl niklu z kapieli Wattsa i oznacza sie przyczepnosc. 15 Uzyskane wyniki w zaleznosci od czasu zanurze¬ nia próbki w trójchloroetylenie i temperatury trójchloroetylenu podano w tablicy 3. Z podanych wyników widac istotny wplyw temperatury roz¬ puszczalnika na koncowa przyczepnosc powloki 20 metalicznej do podloza.Tablica 3 Czas min. 2 4 2 4 2 2 ' 4 n * 4 Tempe¬ ratura °C 30 30 40 . 40 50 60 60 65 65 Wytrzymalosc na luszczenie kg/cm 1,65 1,23 2,15 2,15 3,45 4,56 4,40 5,69 5,32 Przyklad XLII. Powtarza sie próby opisane w przykladach XXXIII—XLI stosujac zamiast trójchloroetylenu czterochloroetylen.Przyklad XLIII. Powtarza sie próby opisa- 45 ne w przykladach XXXIII—XLI zastepujac trój¬ chloroetylen benzenem. PL PL
Claims (2)
1. Zastrzezenia patentowe 50 1. Sposób nakladania powlok metalicznych na podloza bezpradowo lub elektrolitycznie, znamien¬ ne tym, ze podloze poddaje sie dzialaniu póltora¬ siarczku fosforu w celu osadzenia póltorasiarczku fosforu na powierzchni podloza, a nastepnie pod- 55 loze traktuje sie roztworem soli metalu lub jej kompleksu w celu utworzenia na powierzchni po¬ wloki metal-fosfór-siarka, przy czym stosuje sie sole metali nalezacych do IB, IIB, IVB, VB, VIB,. VIIB, i VIII grupy ukladu okresowego pierwia- 60 stków, a nastepnie tak przygotowane podloze po¬ wleka sie metalami.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w celu nalozenia na powierzchnie podloza war¬ stwy przewodzacej, powierzchnie te poddaje sie 65 bezpradowemu powlekaniu metalem.13 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze otrzymana powierzchnie poddaje sie powlekaniu elektrolitycznemu. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze otrzymana powierzchnie poddaje sie powlekaniu elektrolitycznemu w celu osadzenia powloki me¬ talu przylegajacej do powierzchni podloza. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, "ze jako podloze stosuje sie tworzywo sztuczne. 6. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze tworzywo sztuczne poddaje sie dzialaniu póltora- siarczku fosforu rozpuszczonego w rozpuszczalniku. 7. Sposób wedlug zastrz. 6, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie trójchlorometylen lub chlorek metylenu, jako metal stosuje sie ni¬ kiel lub miedz, przy czym metal stosuje sie w kompleksie z amoniakiem, amina, chinolinami lub pirydynami. 8. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze jako kompleks soli metalu stosuje sie kompleks etylenodwuaminy z sola miedzi. 9. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze podloze traktuje sie wstepnie rozpuszczalnikiem. 10. Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie trójchloroetylen, a jako tworzywo sztuczne stosuje sie polipropylen. 11. Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie czterochloroetylen, a jako tworzywo sztuczne stosuje sie szczepiony kopolimer polibutadienu, styrenu i akrylonitrylu. 12. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze podloze poddaje sie dzialaniu bialego fosforu w celu osadzenia na powierzchni podloza fosforu, a nastepnie podloze traktuje sie roztworem soli lub jej kompleksu w celu utworzenia na powierzchni 14 powloki fosforu-metalu, przy czym stosuje sie sole metali nalezacych do IB, IIB, VB, VIB, VIIB i VIII grupy ukladu okresowego pierwiastków, a podloze traktuje sie wstepnie rozpuszczalnikiem 5 organicznym w celu poprawienia jakosci. 13. Sposób wedlug zastrz. 12, znamienny tym, ze jako podloze stosuje sie tworzywo sztuczne. 10 14. Sposób wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik organiczny stosuje sie chloro¬ wcowane weglowodory, chlorowcowegle i weglo¬ wodory aromatyczne. 15 15. Sposób wedlug zastrz. 14, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik organiczny stosuje sie trój¬ chloroetylen, czterochloroetylen lub benzen. 1.6. Sposób wedlug zastrz. 9 lub 14, znamienny 20 tym, ze powierzchnie tworzywa sztucznego poddaje. sie dzialaniu roztworu fosforu rozpuszczonego w rozpuszczalniku a jako metal stosuje sie nikiel, miedz lub srebro. 25 17. Sposób wedlug zastrz. 9 lub 14, znamienny tym, ze otrzymana powierzchnie powleka sie elektrolitycznie powloka metaliczna przylegajaca do powierzchni. 30 ^ 18. Sposób wedlug zastrz. 9 lub 14, znamienny tym, ze otrzymana poiwerzchnie poddaje sie po¬ wlekaniu bezpradowemu w celu nalozenia powloki przewodzacej. 35 19. Sposób wedlug zastrz. 18, znamienny tym, ze otrzymana powierzchnie powleka sie elektrolitycz¬ nie w celu osadzenia powloki metalicznej przyle¬ gajacej do powierzchni. 40 20. Sposób wedlug zastrz. 19, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie trójchloroetylen, a jako kompleks soli metalu stosuje sie kompleks etylenodwuaminy z chlorkiem niklu. PL PL
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US84742369A | 1969-08-04 | 1969-08-04 | |
US85503769A | 1969-09-03 | 1969-09-03 | |
US2396770A | 1970-03-30 | 1970-03-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL82783B1 true PL82783B1 (en) | 1975-10-31 |
Family
ID=27362224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL1970142493A PL82783B1 (en) | 1969-08-04 | 1970-08-03 | Process for forming a metal-phosphorus-sulphur coating on a substrate[gb1269487a] |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS4930272B1 (pl) |
BG (1) | BG18191A3 (pl) |
CH (1) | CH568399A5 (pl) |
DE (1) | DE2038558A1 (pl) |
ES (1) | ES382402A1 (pl) |
FR (1) | FR2056972B1 (pl) |
GB (1) | GB1269487A (pl) |
IL (1) | IL34975A (pl) |
NL (1) | NL166073C (pl) |
PL (1) | PL82783B1 (pl) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3132218A1 (de) * | 1981-08-14 | 1983-03-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur abscheidung von metallen auf elektrisch leitfaehigen, polymeren traegern und verwendung der erhaltenen materialien in der elektrotechnik, zur antistatischen ausruestung von kunststoffen und als heterogene katalysatoren |
DE3278369D1 (en) * | 1982-02-09 | 1988-05-26 | Ibm | Electrodeposition of chromium and its alloys |
WO2025073650A1 (en) * | 2023-10-02 | 2025-04-10 | Sabic Global Technologies B.V. | Methods of preparing polypropylene compounds for metallization and metallization thereof |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL142200B (nl) * | 1967-02-08 | 1974-05-15 | Hooker Chemical Corp | Werkwijze voor het voorbehandelen van het oppervlak van niet-geleidende substraten ten einde deze geschikt te maken voor het stroomloos bekleden met een laagje metaal, volgens deze werkwijze verkregen voorwerpen, alsmede zodanige voorwerpen, die stroomloos bekleed zijn met een laagje metaal. |
FR96376E (fr) * | 1968-08-06 | 1972-06-16 | Hooker Chemical Corp | Procédé de métallisation de substrats et produits ainsi obtenus. |
-
1970
- 1970-07-22 IL IL3497570A patent/IL34975A/xx unknown
- 1970-07-31 CH CH1160870A patent/CH568399A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1970-08-01 JP JP6767670A patent/JPS4930272B1/ja active Pending
- 1970-08-03 BG BG015368A patent/BG18191A3/xx unknown
- 1970-08-03 ES ES382402A patent/ES382402A1/es not_active Expired
- 1970-08-03 DE DE19702038558 patent/DE2038558A1/de active Pending
- 1970-08-03 NL NL7011417A patent/NL166073C/xx not_active IP Right Cessation
- 1970-08-03 PL PL1970142493A patent/PL82783B1/pl unknown
- 1970-08-03 GB GB3740970A patent/GB1269487A/en not_active Expired
- 1970-08-04 FR FR7028732A patent/FR2056972B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7011417A (pl) | 1971-02-08 |
IL34975A (en) | 1975-08-31 |
FR2056972B1 (pl) | 1977-02-25 |
DE2038558A1 (de) | 1971-03-25 |
FR2056972A1 (pl) | 1971-05-07 |
ES382402A1 (es) | 1973-04-16 |
GB1269487A (en) | 1972-04-06 |
BG18191A3 (bg) | 1974-09-02 |
JPS4930272B1 (pl) | 1974-08-12 |
CH568399A5 (pl) | 1975-10-31 |
NL166073C (nl) | 1981-06-15 |
IL34975A0 (en) | 1970-09-17 |
NL166073B (nl) | 1981-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3620834A (en) | Metal plating of substrates | |
CA2119050C (en) | Self accelerating and replenishing non-formaldehyde immersion coating method and composition | |
US5250105A (en) | Selective process for printing circuit board manufacturing | |
WO2006110633A1 (en) | Aqueous coating compositions and process for treating metal plated substrates | |
US3650708A (en) | Metal plating of substrates | |
US3650803A (en) | Metal plating of substrates | |
CA2210883A1 (en) | Method of selective or partial electrolytic plating of surfaces of substrates comprising non-conductive material | |
US4661384A (en) | Process for activating substrate surfaces for electroless metallization | |
US3544432A (en) | Electroplating plastic articles | |
CA2449358A1 (en) | Patterning method | |
US4063004A (en) | Metal plating of plastics | |
US3629922A (en) | Metal plating of plastics | |
US3619243A (en) | No rerack metal plating of electrically nonconductive articles | |
PL82783B1 (en) | Process for forming a metal-phosphorus-sulphur coating on a substrate[gb1269487a] | |
US3642584A (en) | Process for metal plating of substrates | |
US3650911A (en) | Metallizing substrates | |
US3709727A (en) | Metalizing substrates | |
US3771973A (en) | Metal plating of synthetic polymers | |
US3622370A (en) | Method of and solution for accelerating activation of plastic substrates in electroless metal plating system | |
JPH0247547B2 (pl) | ||
US3607351A (en) | Process for metal plating of substrates | |
US3681511A (en) | Uses of and improvements in the coating of substrates | |
US3748109A (en) | Conductive designs and process for their manufacture | |
JPS61219195A (ja) | 電子回路用プリント基板 | |
CA1058457A (en) | Process for sensitizing surface of nonmetallic article for electroless deposition |