PL82234B2 - - Google Patents

Description

Pierwszenstwo: Zgloszenie ogloszono: 01.08.1974 Opis patentowy opublikowano: 30.12.1975 82234 KI.MKP- 57d,1/01 21c,2/34 G03f 9/00 H05k 3/00 Twórcywynalazku: Henryk Majewski, Ireneusz Przepiórkiewicz, Elzbieta Koziarska, | Alicja Trebska Uprawniony z patentu tymczasowego: Osrodek Naukowo Produkcyjny Materialów ii Pólprzewodnikowych, Warszawa (Polska) / Sposób wytwarzania fotomasek do trawienia dwustronnego Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania fotomasek, do trawienia dwustronnego, powszechnie stosowanych w przemysle elektronicznym i precyzyjnym.Dotychczas wytwarzano fotomaski skladajace sie z dwu czesci (obraz i jego odbicie lustrzane) wykorzystu¬ jac dwa arkusze filmu. Po ich naswietleniu kazdego z osobna i obróce fotograficznej, arkusze filmu pasowane sa ze soba znanymi sposobami. Pasowanie par fotomasek jest czynnoscia zmudna i bardzo pracochlonna. Wymaga przy tym stosowania odpowiednich przyrzadów jak: specjalne przystosowany mikroskop, stól swietlny itp.Urzadzenia te wprowadzaja pewne przesuniecia par fotomasek wzgledem siebie, co w efekcie zmniejsza dokladnosc wymiarów przedmiotu trawionego i przyczynia sie do powstawania duzej ilosci braków.. Celem wynalazku jest opracowanie sposobu wytwarzania fotomasek, pozbawionego powyzszych wad i niedogodnosci. W sposobie postepowania wedlug wynalazku obie czesci fotomaski wykonuje $\a z jednego arkusza filmu fotograficznego. Najpierw wykonuje sie w znany sposób jedna czesc fotomaski, a nastepnie po zlozeniu emulsja do emulsji czesc ta sluzy jako wzór do wytworzenia czesci drugiej. Precyzje pasowania mozna dodatkowo zwiekszyc, przez umieszczenie w miejscu zgiecia arkusza filmu, przedmiotu o grubosci ksztaltki trawionej. ...*..-.' Zaleta sposobu postepowania wedlug wynalazku jest mozliwosc otrzymania pary fotomasek idealnie do sibie pasujacych. Dzieki temu uzyskuje sie maksymalna precyzje w wykonywaniu przedmiotu wytrawianego.Sposób ten znacznie zmniejsza pracochlonnosc procesu, praktycznie nie daje braków oraz eliminuje stosowanie specjalnych urzadzen.Do wytwarzania fotomasek uzywa sie filmu o duzym kontrascie i niekurczliwym podlozu, najczesciej poliestrowym oraz gestosci optycznej miejsc zaczernionych powyzej 3. Wzór do kopiowania uklada sie na jednej czesci filmu, przy szczelnie zaslonietej czesci drugiej. Po kopiowaniu swiatlem punktowym, naswietlona czesc filmu obrabia sie metoda fotograficzna w znany sposób. Nastepnie obrabiana czesc filmu sluzy jako wzorzec do wykonania drugiej czesci fotomaski. Arkusz filmu sklada sie na polowe, emulsja do emulsji z tym, ze miedzy obie czesci wklada sie przedmiot o grubosci ksztaltki trawionej. Nastepnie przeprowadza s\e naswietlanie i obróbke fotograficzna drugiej czesci fotomaski.2 82 234 PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania fotomasek, znamienny tym, ze na arkuszu filmu fotograficznego wykonuje sie jedna czesc fotomaski, a nastepnie po zlozeniu filmu wykonuje sie czesc druga, przy czym czesc pierwsza po przeprowadzonej obróbce stanowi wzór do wytworzenia drugiej czesci fotomaski.
2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny t y m, ze podczas skladania arkusza filmu fotograficznego, umieszcza sie w miejscu gdzie ma nastapic zgiecie, przedmiot o grubosci ksztaltki trawionej. Prac. Poligraf. UP PRL. Zam. 3580/75 naklad 120+18 Cena 10 zl PL