PL7952B1 - Sposób wytwarzania pary, - Google Patents

Description

, Mozna wytwarzac pare pod cisnieniem i w temperaturze, zblizonych do cisnienia krytycznego i temperatury krytycznej, al¬ bo przekraczajac nawet te granice. Sposób ten zapobiega wrzeniu wody w wytworni¬ cy pary, a srodek roboczy przeksztalca sie W pare. Para ta przechodzi w przestrzeni zamknietej od cisnienia najmniejszego az do cisnienia uzytecznego, przyczem przed albo w czasie sprezania doprowadza sie cie¬ plo stale albo stopniowo, np. tak, ze para zachowuje stale swoja temperature. Jezeli srodek roboczy utrzymuje sie w wytworni¬ cy pary nie pod cisnieniem krytycznem, lecz pozostawia sie go pod cisnieniem nie¬ co nizsizem od cisnienia krytycznego i w przestrzeni zamknietej pod cisnieniem mniejszem, to nastepuje natychmiastowe wyparowanie srodka tego, podczas gdy czesc druga jego zamienia sie w wode, któ¬ ra równiez moze byc wyparowana przez doprowadzenie ciepla.Stosowano juz sposób, wedlug którego wode w wytwornicy pary utrzymywano pod cisnieniem, pod którem nie moze parowac i wprowadzano ja do zamknietej przestrzeni o cisnieniu mniejszem, gdzie nastepowal podzial na pare i wode. Chodzilo tam jed¬ nak © cisnienie znacznie nizsze od cisnie¬ nia krytycznego, tak ze woda wydzielala sie w ilosciach wiekszych i nalezalo ja w przestrzeni rozprezczej wyparowac przy wrzeniu. Postepowanie podobne nie usuwa wrzenia, lecz tylko przenosi je z kotla do komory rozprezczej pary.Od tego znanego postepowania, poste-powanie wedlug wynalazku rózni sie tern, ge ^stosuje ono cisnienie bliskie, lecz cokol¬ wiek nizsze Jod ciszenia krytycznego. Mia¬ nowicie jezeli srodek napedny zostanie na¬ grzany w przyblizeniu do temperatury kry¬ tycznej, ale nieco nizszej od tejze, to po¬ chlania on najwieksza ilosc ciepla, jaka wogóle moze pochlonac bez wyparowywa¬ nia. Wystarcza ona przytem do odparowa¬ nia, podczas rozprezania polowy srodka napednego. Do calkowitego wyparowania nalezy dodatkowo udzielic srodkowi temu nieznaczna ilosc ciepla w postaci ciepla u- tajonego, dzieki czemu skroplenie pary w komorze rozprezczej otrzymuje zupelnie inny przebieg, niz w postepowaniu znanem.Wynika to stad, ze róznica ciezaru wlasci¬ wego osadu i wody jest w warunkach ni- niejsizych bardzo nieznaczna, tak ze mie¬ szanina plynu i pary nie latwo sie rozdzie¬ la. Przedewszystkiem ma to miejsce wtedy, gdy rozszerzenie w komorze rozprezczej jest jeszcze nieznaczne i tworzaca sie mie¬ szanina posiada pewne cisnienie, niewiele tylko nizsze od cisnienia krytycznego. Gdy srodek roboczy dostanie sie do komory roz¬ prezczej to nie zachodzi jeszcze wskutek tego wlasciwe powstawanie deszczu, i sro¬ dek napedny nie zbiera sie w wiekszych po¬ laczonych ilosciach na dnie tej komory, lecz woda i para pozostaja ze soba zmie¬ szane w najdokladniejszy sposób. Przy do¬ prowadzeniu ciepla do komory rozprezczej, czasteczki cieczy, zmieszane z para i sty¬ kajace sie przy swem krazeniu ze scianka¬ mi naczynia, zamieniaja sie pod wplywem drobnych ilosci ciepla w pare bez wrzenia.Stosownie do wynalazku, srodek naped¬ ny w pierwszym stopniu swej obróbki, czy¬ li przy nagrzewaniu w wytwarzaczu pary powinien byc utrzymywany, pod cisnieniem bliskiem do cisnienia krytycznego. Przy o- siagnieciu lub przekroczeniu cisnienia kry¬ tycznego srodek napedny przechodzi bez¬ posrednio w pare bez wrzenia. Zasada wy¬ nalazku polega na tern, ze nie jest rzecza niezbedna osiagac cisnienie krytyczne, al¬ bo go utrzymywac, lecz, ze mozna uzyskac ten sam dobroczynny skutek, pozostawia¬ jac srodek napedny stale lub przejsciowo pod cisnieniem iiiieco nizszem od cisnienia krytycznego, a nastepnie rozprezajac go tak, ze w komorze rozprezczej otrzymuje sie mieszanine przechodzaca w pare latwo i bez niepozadanego wrzenia.Mieszanina ta zamienia sie w sucha pa¬ re przez doprowadzanie do niej ciepla, cc mozna uskuteczniac podczas rozprezania bez wzgledu na to, czy zachodzi ono ciagle lub odbywa sie z przerwami, mozna tez do¬ prowadzac cieplo w przerwach. Najprak¬ tyczniej dobrac stopnie rozprezania tak a- by zawartosc wody we wszystkich stopniach rozprezania pozostawala niewielka. Otrzy¬ mana w opisany sposób pare mozna prze¬ grzewac metodami znanemi.Jak i w sposobie, wedlug którego sro¬ dek napedny zamienia sie w pare pod ci¬ snieniem krytycznem, cisnienie w stadjum pierwszem i przy postepowaniu niniej- szem osiaga sie zapomoca pompy zasilaja¬ cej, która, w zaleznosci od cisnienia w tern stadjum, moze byc regulowana samoczyn¬ nie. Oprócz tego mozna zastosowac zbior¬ nik cisnienia, który przy zwiekszonem za¬ potrzebowaniu pary zapobiega opadaniu cisnienia chociazby tylko chwilowo ponizej poziomu niezbednego do przeprowadzenia sposobu. Poza tern przy postepowaniu we¬ dlug wynalazku odbywa sie wszystko tak samo jak i przy postepowaniu wytwarza¬ nia pary przy cisnieniu krytycznem, albo przy przekroczeniu tego cisnienia, w szcze¬ gólnosci takze ma to miejsce odnosnie do mozliwosci polaczenia róznych cieczy dla wykonania sposobu.Korzysci, wynikajace z podobnego po¬ laczenia, moga polegac na róznych wlasci¬ wosciach fizycznych srodka napednego, np. na wartosci (wysokosci) jego cisnienia kry¬ tycznego i jego temperatury krytycznej, al¬ bo takze na zachowaniu sie srodka wzgle- — 2 —dem materjalu, z którego jest wykonane ii- rzadzenie, a z którym srodek ten sie styka. PL PL

Claims (3)

1. Zastrze zenia patentowe. 1. Sposób dwuoikresowego wytwarzania pary, polegajacy na tem, ze utrzymywany dzialaniem cisnienia w stanie plynnym i na¬ grzany w okresie pierwsizym srodek robo¬ czy w okresie drugim spreza si^ z doprowa¬ dzaniem ciepla rozprezania, znamienny tern, ze cisnienie w okresie pierwszym utrzymu¬ je sie wpciblizu cisnienia krytycznego.

2. , Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tem, ze sprezenie srodka roboczego w okre¬ sie drugim obniza sie do cisnienia zadanego w kilku stopniach, przyczem pomiedzy stop¬ niami obnizania cisnienia doprowadza sie don cieplo.

3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, zna¬ mienny tem, ze rózne ciecze lacza sie z so¬ ba w celu wytworzenia srodka roboczego. I nter natioinal£ Benslojn-P at ent- Verwertungs- Aktiengesellschaft. Zastepca: M. Skrzypkowski, rzecznik patentowy. Druk L. Boguslawskiego, Warszaw*. PL PL