Uprawniony z patentu: The Nash Engineering Company, Norwalk (Sta¬ ny Zjednoczone Ameryki) Pompa o pierscieniu cieczowym Przedmiotem wynalazku jest pompa o pierscie¬ niu cieczowym a w szczególnosci sposób i kon¬ strukcja sluzaca do oczyszczania pompowanego plynu z cieklych lub stalych zanieczyszczen w sprezarce lub pompie prózniowej o pierscieniu cieczowym.Stala obecnosc zanieczyszczen w pierscieniu cie¬ czowym moze powodowac nadmierne zuzycie lub feorozje pompy lub kompresora. Zanieczyszczenia sta¬ le, takie jak: mul, parlit, piasek i-tp. a takze zanie¬ czyszczenia ciekle moga dostac sie do pompy w strumieniu gazu lub cieczy uszczelniajacej albo moga powstawac wewnatrz pompy w wyniku re¬ akcji chemicznej. W przypadku obecnosci wysoce korodujacych zanieczyszczen w pompowanym ply¬ nie lub pierscieniu cieczowym zywotnosc pompy moze byc zmniejszona az do niezadowalajacego poziomu.Ppniewaz istnieje tendencja do ograniczania uzywania slodkiej wody a w zamian za to co¬ raz czestszego wprowadzania do uzytku wody procesowej sluzacej jako uszczelnienie pompy, dlatego tez bedzie zwiekszala sie ilosc zanieczysz¬ czen wprowadzanych do pierscienia cieczowego, co pociaga za soba wzrastajaca koniecznosc usu¬ wania tych zanieczyszczen w celu przedluzenia zywotnosci pompy.Dotychczas znane sposoby usuwania lub odcia¬ gania zanieczyszczen z pompy stosujac szczeliny spustowe okazaly sie nieskuteczne. 10 15 20 30 Stwierdzono, ze podczas ciaglego krazenia gazu i cieczy uszczelniajacej w pompie dzieki wlasci¬ wosciom pompujacego dzialania pierscienia cieczo¬ wego ciezkie lub o duzej gestosci zanieczyszcze¬ nia maja tendencje do przemieszczania i pozosta¬ wiania w okreslonych miejscach pompy przez co nie sa wytlaczane z ciecza uszczelniajaca i wytla¬ czanymi gazami. Takie zbieranie sie zanieczysz¬ czen powoduje nadmierne scieranie i przedwczes¬ na awarie pompy.Celem wynalazku jest usuniecie powyzszych nie¬ dogodnosci i stworzenie konstrukcji umozliwiaja¬ cej oczyszczanie pompowanego plynu z niepoza^ danych zanieczyszczen cieklych i stalych w spre¬ zarce lub pompie o pierscieniu cieczowym. cel ten zostal osiagniety przez umieszczenie ka¬ nalów sluzacych do usuwania zanieczyszczen w pompie o pierscieniu cieczowym w miejscu lub blisko miejsca przeciecia sie koncowej i zew¬ netrznej scianki obudowy, korzystnie w miejscu polozonym pod katem okolo 240Q w stosunku do miejsca najwiekszego zblizenia obudowy i wir¬ nika, w strefie tloczenia pompy. Wprowadzane zanieczyszczenia takie jak piasek lub inne sub¬ stancje granulowane oraz ciezkie lub o duzej ge¬ stosci zanieczyszczenia ciekle usuwane sa skutecz¬ nie wówczas, gdy odprowadza sie kontrolowana ilosc cieczy pompowanej z pierscienia cieczowego poprzez kanaly oczyszczajace. Oczyszczanie to mo¬ ze byc osiagniete zewnetrznie przez doprcwadze- 77 48877 488 nie przewodu rurowego do korpusu pompy lub wewnetrznie' przez wykonanie kanalów w samym korpusie pompy za pomoca obróbki skrawaniem badz tez juz w czasie odlewania. Ilosc cieczy oczy- czanej moze byc regulowana za pomoca kryzy lub pirzez wlasciwy dobór srednicy rury. Scieki moga byc usuwane do zewnetrznych kanalów scie¬ kowych lub do wylotu pompy a stad do ukladu sciekowego.Przedmiot wynalazku przedstawiono w przykla¬ dach wykonania na rysunku na którym fig. 1 przedstawia widok z przodu pompy o pierscieniu cieczowym, fig. 2 — widok pompy z fig. 1 z czes¬ ciowym przekrojem korpusu pompy, fig. 3 — prze¬ krój pompy z fig. 1 wzdluz linii III—III, fig. 4 — przekrój pompy z fig. 3 wzdluz linii IV—IV, fig. .?«5«. —--pr^etorólnP^fctiny do pokazanego na fig. 3 ! irfkafclijti%^ drugr ko|zystny przyklad wykonania, fig. 16 — przekrój podobny do pokazanego na fig. 3 i ukazujac ^trz^pi^lorzystny przyklad wykonania, I fig../T-. —-^ praefrc&j podobny do pokazanego na fig. ^9~okazujac ' cl'warty przyklad wykonania a fig. 8 — przekrój pompy na fig. 7 wzdluz linii VIII—VIII.Sprezarka o pierscieniu cieczowym 20 jest przedstawiona na fig. 1—3. Sprezarka sklada sie z obudowy lub korpusu 22 o cylindrycznej wew¬ netrznej powierzchni 23, który z obu stron za¬ konczony jest króccami 24.Glówny wal napedowy 26 jest obrotowo pod¬ party w dwóch lozyskach umieszczonych w obu¬ dowach lozysk 28 i napedzany jest za -pomoca silnika 30 lub do innego odpowiedniego urzadze¬ nia napedowego pokazanego schematycznie.Podwójny wirnik 32 zawiera pompujace komory 34 utworzone przez promieniowe lopatki lub skrzydelka 36, które przymocowane sa na stale do piasty wirnika pomiedzy bierna koncowa oslo¬ na 38, czynna koncowa oslona 40 i przegroda 42.Wirnik 32 jest odpowiednio zaklinowany na wale napedowym 26 i obraca sie razem z nim. Srodko¬ wa przegroda 42 oraz bierna koncowa oslona 38 i czynna koncowa oslona 40, które sa umieszczone w poblizu krócców pompy scisle ocjpowiadaja przegrodzie obudowy 44 oraz bocznym sciankom obudowy 46 korpusu pompy 22.W podstawie kazdej z pompujacych komór 34 jest otwór 50 sluzacy do wspólpracy z otworami 52 w czlonach stozkowych lub z otworami. Otwo¬ ry czlonów stozkowych lacza sie z przewodami wlotowymi 56 oraz z przewodami wylotowymi 58 krócców pompy 24.Jak widac z fig. 2, moga byc zastosowane kon¬ wencjonalne otwory 62 laczace wnetrze obudowy 22 z kanalami spustowymi 64 w celu umozliwie¬ nia odprowadzenia scieków z pompy, poprzez nie pokazane ,zawory i rurociagi.Otwory spustowa 62 sa umieszczone w dolnej najnizszej czesci obudowy 22 czyli przesuniete sa o ^ ka^ 330°,; w stosunku do miejsca najwiek¬ szego zblizenia obudowy i wirnika 66 liczac w. kie¬ runku obrgtu wirnika oraz w poblizu srodkowej przegrody 42. wirnika.Przewód 70, który moze byc rura zlaczona z 10 obudowa za pomoca polaczenia gwintowego, jak pokazano na fig. 3 i 4 polaczony jest z innymi wyzej polozonymi otworami wylotowymi 68, w poblizu których maja tendencje zbierania sie za¬ nieczyszczenia z pierscienia cieczy. Poprzez otwór 68 i przewód 70 zanieczyszczenia sa usuwane ko¬ rzystnie do strumienia wytlaczanego. Ilosc cieczy usuwanej z pierscienia cieczy wraz z zanieczysz¬ czeniami moze byc regulowana poprzez celowy dobór srednicy rury lub przez zastosowanie kryzy lub innego przyrzadu ograniczajacego przeplyw.W drugim przykladzie wykonania pokazanym na fig. 5, otwór 6S' i przewód 70* sa przystosowa¬ ne do usuwania zanieczyszczen z obudowy 22* w 15 kierunku promieniowym. Zostaly wywiercone takze dwa otwory w cylindrycznej powloce 23* w poblizu biernej oraz czynnej koncowej oslony.Od strony czynnej fig 5 pierwszy otwór' 68 w obudowie, ma kierunek promieniowy i lezy pod 20 katem okolo 240° w stosunku do miejsca najwiek¬ szego zblizenia obudowy i wirnika 66* sprezarki liczac w kierunku obrotu wirnika 32*.W trzecim przykladzie wykonania pokazanym na fig. 6 otwór 68* i przewód 70* sa przystoso¬ wane do stycznego usuwania zanieczyszczen z obudowy 22\ Otwory i przewody sa umieszczone w obudowie w poblizu czynnej i biernej konco¬ wej oslony wirnika w podobny sposób do poda¬ nego w drugim przykladzie wykonania.Styczne umieszczenie przewodów oczyszczaja¬ cych po stronie biernej pompy, jest skuteczne czesciowo nawet przy braku przeplywu. Jednakze najlepsze rezultaty osiaga sie podczas przeplywu cieczy.Podczas gdy w pierwszym przykladzie wyko¬ nania kanaly oczyszczajace sa zlaczone z obudo¬ wa za pomoca polaczenia gwintowego, to w dru¬ gim i trzecim przykladzie wykonania, kanaly oczyszczajace sa wykonane.z gladkich rurek, które mozna laczyc z obudowa przez cementowanie, lu¬ towanie, spawanie itp.. W czwartym przykladzie wykonania pokazanym na fig. 7 i 8, kanal oczyszczajacy 68\ 68" jest wy¬ konany w obudowie 22', 22", w celu umozliwienia oczyszczania komory pomiedzy króccem 24', 24" i wirnikiem, oraz w scianie obudowy 46', 46" w celu oczyszczenia obudowy. Kanal oczyszczajacy 66', 66" jest polaczony z kanalem wylotowym 58', 58".Podczas gdy oczyszczanie moze byc skuteczne przy odpowiednim przeplywie oraz w duzym za¬ kresie katów, który to zakres moze byc okreslo¬ ny jako strefa tloczenia gazu lub strefa cisnienio¬ wa w pompie, to optimum sprawnosci uzyskuje sie ,przy zastosowaniu otworów polozonych w miejscu przesunietym o kat okolo 240° w stosun¬ ku do najwiekszego zblizenia obudowy i wirnika.Oczyszczona ciecz moze byc tloczona do kana¬ lów sciekowych lub do wylotu pompy, jak to jest zrobione w korzystnych przykladach wykonania.W przypadku zastosowania zamknietego obiegu cieczy uszczelniajacej zanieczyszczenia musza byc odprowadzane osobno i nie moga powracac z cie¬ cza uszczelniajaca. 30 35 40 45 50 55 GO5 77 488 6 PL PLPatent proprietor: The Nash Engineering Company, Norwalk (United States of America) Liquid Ring Pump The invention relates to a liquid ring pump and in particular to a method and structure for cleaning the pumped fluid from liquid or solid contaminants in a compressor or a liquid ring vacuum pump. The constant presence of contaminants in the liquid ring can cause excessive wear and tear on the pump or compressor. Solid contaminants such as silt, parlite, sand, etc. and liquid contaminants may enter the pump in a stream of gas or sealant or may be formed inside the pump by a chemical reaction. In the presence of highly corrosive contaminants in the pumped fluid or the liquid ring, the service life of the pump may be reduced to unsatisfactory levels, as there is a tendency to reduce the use of fresh water and instead use more and more process water to seal the pump. therefore, the amount of impurities introduced into the liquid ring will increase, which entails the increasing need to remove these impurities in order to extend the life of the pump. Hitherto known methods of removing or removing impurities from the pump using drain slots have proved ineffective. 10 15 20 30 It has been found that during the continuous circulation of gas and sealing liquid in the pump, due to the pumping properties of the liquid ring, heavy or dense contaminants tend to move and remain in specific locations in the pump and therefore are not extruded with sealing fluid and extruded gases. Such accumulation of contaminants causes excessive abrasion and premature failure of the pump. The aim of the invention is to remove the above-mentioned inconveniences and to create a structure that allows the pumped fluid to be cleaned of undesirable liquid and solid contaminants in a liquid-ring compressor or pump. . this goal has been achieved by placing the channels for the removal of impurities in the liquid ring pump at or near the intersection of the end and outer wall of the housing, preferably at an angle of about 240 ° to where the housing is closest to, and a vortex ¬ nika, in the pressing zone of the pump. Introduced contaminants such as sand or other granular substances and heavy or high density contaminants in liquid form are effectively removed when a controlled amount of liquid pumped from the liquid ring is drained through the purging channels. This cleaning can be achieved externally by adding the tubing to the pump housing or internally by making channels in the pump housing itself by machining or already during casting. The amount of liquid to be treated can be adjusted by means of an orifice or by selecting the correct pipe diameter. The wastewater may be discharged to external sewage channels or to the pump outlet and from there to the sewage system. The subject matter of the invention is illustrated in the embodiment examples in which Fig. 1 shows a front view of the liquid ring pump, Fig. 2 - a view of the pump FIG. 1 shows a partial section of the pump housing, FIG. 3, a sectional view of the pump of FIG. 1 along line III-III, FIG. 4, a section of the pump of FIG. 3 along line IV-IV, FIG. «5«. ---- the same as shown in Fig. 3! The second preferred embodiment, Fig. 16 is a section similar to that shown in Fig. 3 and showing three preferred embodiment, and Figs. Figure 8 shows a cross section of the pump in Figure 7 along line VIII-VIII. A liquid ring compressor 20 is shown in Figures 1-3. . The compressor consists of a housing or a body 22 with a cylindrical internal surface 23, which ends on both sides with stub pipes 24. The main drive shaft 26 is rotatably supported in two bearings located in the bearing housings 28 and is driven by - motor 30 or other suitable propulsion device shown schematically. Double impeller 32 comprises pumping chambers 34 formed by radial vanes or blades 36 which are permanently attached to the impeller hub between a passive end shield 38, an active end shield 40 and baffle 42. The impeller 32 is properly wedged on the drive shaft 26 and rotates with it. Central baffle 42 and passive end casing 38 and active end casing 40 which are positioned close to the pump ports closely correspond to the casing baffle 44 and the side walls 46 of the casing 46 of the pump body 22. At the base of each of the pumping chambers 34 is an opening 50 for cooperation. with holes 52 in taper members or with holes. The cone openings connect to the inlet lines 56 and the outlet lines 58 of the pump nozzles 24. As can be seen from Fig. 2, conventional holes 62 may be used connecting the inside of the casing 22 to the drain channels 64 to allow drainage to be carried away. from the pump through valves and pipelines not shown. Drain holes 62 are located in the lower lowermost part of the housing 22, i.e. relative to the point of greatest approximation of the casing and rotor 66, counting in the direction of rotation of the rotor and near the central baffle 42 of the rotor. A conduit 70, which may be a tube, connected to the casing by means of a threaded connection as shown in FIG. 3 and 4 are connected to other upstream outlet openings 68 near which impurities tend to collect from the liquid ring. Through opening 68 and conduit 70, contaminants are expelled preferably into the extrudate stream. The amount of liquid removed from the liquid ring along with impurities can be controlled by the deliberate selection of the diameter of the pipe or by the use of an orifice or other flow restricting device. In the second embodiment shown in Fig. 5, the opening 6S 'and the conduit 70 * are adapted for removing debris from the housing 22 * in a radial direction. Two holes were also drilled in the cylindrical shell 23 * in the vicinity of the passive and active end shells. From the active side FIG. 5, the first '68 hole in the casing has a radial direction and lies at an angle of about 240 ° to the point of greatest approximation of the casing. and the compressor rotor 66 * counting in the direction of rotation of the rotor 32 *. In the third embodiment shown in Fig. 6, the opening 68 * and the conduit 70 * are adapted to tangentially remove contaminants from the casing 22. The openings and conduits are located in the casing adjacent to The active and passive end shields of the impeller in a similar manner to that given in the second embodiment. The tangential arrangement of the purge lines on the passive side of the pump is partially effective even in the absence of flow. However, the best results are achieved with the flow of the liquid. While in the first embodiment the cleaning channels are connected to the housing by means of a threaded connection, in the second and third embodiments, the cleaning channels are made of smooth tubes which can be joined to the housing by cementing, soldering, welding, etc. In the fourth embodiment shown in Figs. 7 and 8, a cleaning channel 68 "68" is formed in the housing 22 ', 22 "in order to allow cleaning of the chamber. between the port 24 ', 24 "and the rotor, and in the wall of the housing 46', 46" for cleaning the housing. The cleaning channel 66 ', 66 "is connected to the exhaust channel 58', 58". While the cleaning can be effective with a suitable flow and over a wide range of angles, this range may be referred to as a gas pressure zone or pressure zone. In the pump, this optimum efficiency is obtained by using holes positioned at a point shifted by an angle of about 240 ° in relation to the closest approximation of the casing and the impeller. The cleaned liquid can be pumped into the drainage channels or to the pump outlet, such as this is done in the preferred embodiments. When a closed circuit sealing liquid is used, the contaminants must be drained separately and must not return from the sealing liquid. 30 35 40 45 50 55 GO5 77 488 6 PL PL