Pierwszenstwo: Zgloszenie ogloszono: 30.05.1973 Opis patentowy opublikowano: 31.05.1975 73680 KI. 42h,38 MKP G02b 27/00 CZYTELNIA Urzedu Potonl***go Tw6rca wynalazku: Andrzej Kalestynski Uprawniony z patentu tymczasowego: Politechnika Warszawska, War¬ szawa (Polska) Sposób multiplikacji holograficznej wzoru w jednej ekspozycji Przedmiotem wynalazku jest multiplikaeja wzo¬ rów metoda hologralficzna w jednej ekspozycji.Zagadnienie to ma duze znaczenie w wielu dzie¬ dzinach techniki, a w szczególnosci w mikroele¬ ktronice.Dotychczas multiplikacje jednego wzoru w celu uzyskania wielu jego obrazów rozmieszczonych na podlozu w sposób zaprogramowany z duza dokla¬ dnoscia, jak na przyklad obrazy elementów obwo¬ du na masce mikroelektronicznej wykonanej na kliszy fotograficznej lub w metalu, wykonuje sie przez wielokrotne powtarzanie naswietlenia je¬ dnego wzoru w coraz to inne miejsce metoda kon¬ taktowa badz metoda projekcyjna. Procesy te sa bardzo pracochlonne, czas wykonywania jednej multiplikacji wynosi okolo 6 dni, oraz wymagaja wielkiej precyzji mechanicznej urzadzen przesuw¬ nych i bezaberacyjnej optyki.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu mul¬ tiplikacji wzorów metoda holograficzna, który byl¬ by pozbawiony wyzej przytoczonych wad.Cel ten zostal osiagniety przez opracowanie spo¬ sobu multiplikacji holograficznej wzorów w je¬ dnej ekspozycji wedlug wynalazku przez zastoso¬ wanie w procesie holografowania wielowiazko- wego swietlnego pola odniesienia. Przedstawiona wedlug wynalazku metoda holografowania polega na rejestrowaniu na jednym hologramie jednego wzoru przy uzyciu zbioru wiazek odniesienia, któ¬ rych zródla rozmieszcza sie w przestrzeni zgodnie 25 30 z zadanym programem. Wielowiazkowe pole odnie¬ sienia otrzymuje sie za pomoca zbioru soczewek o zalozonych ogniskowyioh i wymiarach irozmiefezczo- nych w zaprogramowany sposób w odpowiednich otworkach panzeslony, iWtótra ul&tiawiia sie w drodze swiatla miedzy zródlem swiatla a hologramem.W procesie odtwarzania takiego hologramu przez oswietlenie go elektromagnetyczna fala monochro¬ matyczna uzyskuje sie od razu zwielokrotniony wzór wyjsciowy. Rozmieszczenie obrazów wzoru na podlozu zalezy od sposobu rozmieszczenia so¬ czewek tworzacych wielowiazkowe pole odniesie¬ nia w procesie holografowania.Korzysci techniczno uzytkowe wynalazku pole¬ gaja na uproszczeniu oprzyrzadowania i skróceniu czasu wykonania multiplikacji. Caly proces spro¬ wadza sie bowiem do jednorazowego naswietlenia w procesie tworzenia hologramu mulbiplikacyjnego.Hologram otrzymany sposobem wedlug wyna¬ lazku jest uzywany dalej do odtwarzania i rzuto¬ wania na zadane podloze obrazów zwielokrotnio¬ nych wzorów równiez w jednej ekspozycji. Ponad¬ to sposób multiplikacji wedlug wynalazku umo¬ zliwia uzycie w procesie holografowania powie¬ kszonych wzorów ze wzgledu na mozliwosc zmniejszania ich w procesie odtwarzania korzy¬ stajac ze zdolnosci hologramu do zmniejszania obrazów przy odtwarzaniu. Oprzyrzadowanie w sposobie wedlug wynalazku sprowadza sie do rozmieszczenia soczewek o konwencjonalnej pre- 73 68073 680 cyzji w otworkach wykonanych w. przeslonie w za¬ programowany sposób.Sposób miultipliikacji holograficznej wzorów jest objasniony na rysunkach, na których na fig. 1 po¬ kazano sposób tworzenia hologramu multiplika- cydmego, a na filg. 2 sposób odtwairzanlia tego holo¬ gramu.Sposób tworzenia hologramu multiplikacyjnego przedstawionego na fig. 1 wedlug wynalazku po¬ lega na tym, ze wiazka swiatla spójnego na przy¬ klad z lasera 1 pada na uklad dzielacy ja na dwie wiazki 2. Jedna z nich po rozszerzeniu przy pomocy ukladu optycznego 3 oswietla holografo- wany wzór o odpowiednim deseniu 4 i pada dalej na hologram 5. Druga wiazka bedaca wiazka od¬ niesienia oswietla ustawiona na jej drodze prze¬ slone z otworkami 6, w których umieszczono so¬ czewki o dobranych ogniskowych i wymiarach i pada dalej na hologram 5.W procesie odtworzenia hologramu multiplika¬ cyjnego przedstawionego na fig. 2 hololgiram 5 otrzymany sposobem wedlug wynalazku oswietla sie wiazka swiatla spójnego z lasera 1 a za holo¬ gramem 5 w odleglosci d, która odpowiada dokla¬ dnie plaszczyznie ogniskowania sie ugietej wia¬ zki niosacej informacje o obrazie rzeczywistym zmultiplikowanego wzoru, umieszcza sie zadane 10 15 20 podloze na przyklad krysztal póllpnzewokiniika po- feryity wainsftwa swiatloczula 7, na ikitóryim (to ipodlo- zu otrzymuje sie pozadany obraz zmultiplikowa¬ nego wzoru. PL