PL69869B1 - - Google Patents

Description

Uprawniony z patentu: VEB Elektromat, D?fezrio (Niemiecka Republika Demokratyczna) Sposób ustawienia plytki pólprzewodnikowej równolegle do maski oraz urzadzenie do stosowania tego sposobu Przedmiotem wynalazku jest sposób ustawienia plytki pólprzewodnikowej równolegle do maski u- sytuowanej nad nia w pewnym* odstepie, w celu ustawienia* wzoru naniesionego na masce zgodnie z wzorem na plytce pólprzewodnikowej przed na¬ swietleniem stykowym, oraz urzadzenie do stoso¬ wania- tego sposobu.Przy produkcji elementów pólprzewodnikowych na przyklad tranzystorów planarnych lub scalo¬ nych obwodów pólprzewodnikowych, stosuje sie przewaznie technologie planarna w polaczeniu z maskowaniem. Wzór na powierzchni plytki pólprze¬ wodnikowej wykonywany jest za pomoca masek, których wzór przenoszony jest sposobem stykowym przy uzyciu- do naswietlania swiatla ultrafioleto¬ wego, na lakier fotoczuly, którym powleczona jest plytka pólprzewodnikowa. Jako masek uzywa sie przewaznie szklanych plyt fotograficznych, w któ¬ rych' emulsji zawarty jest zadany wzór.W jednym ze znanych sposobów równoleglego ustawiania plytki pólprzewodnikowej oraz usta¬ wionej nad nia/ w pewnej odleglosci maski, plytke dociska sie do maski, ustala sie w tym równole¬ glym- polozreniu, a nastepnie obniza plytke, znowu równolegle do' maski o odleglosc wymagana do ma¬ nipulacji. W tym polozeniu wzór na- plytce pól¬ przewodnikowej ustawia sie zgodnie z wzorem na masce, a nastepnie plytke dociska sie ponownie do mastó tfelem stykowego naswietlenia-.Znane sa równiez tak zwane uFzactaeaia* dousta- 10 15 20 25 90 wiania i naswietlania stosowane do przeprowa¬ dzania tego sposobu. Urzadzenie takie sklada sie w zasadzie z mikroskopu, urzadzenia do naswie¬ tlania,, urzadzenia do osadzenia w nim maski oraz obsady plytki pólprzewodnikowej. Obsada ta osa¬ dzona jest przegubowo, co pozwala na* przesuwanie plytki pólprzewodnikowej w stosunku do maski w ukladzie, wspólrzednych kartezjanskich jak rów¬ niez na unieruchomienie jej. Przesuwanie obsady plytki pólprzewodnikowej do lub od maski odby¬ wa sie recznie lub mechankznie.Przy najstaranniejszej nawet obsludze maski u- legaja tak silnemu zarysowaniu, ze musza byc wymienione na nowe po przecietnie 10 naswietle¬ niach. Do najwiekszych uszkodzen bardzo warto¬ sciowych i drogich masek dochodzi przy dociska¬ niu plytki pólprzewodnikowej do maski celem rów¬ noleglego ustawienia plytki do maski. Wystepuja¬ ce przy tym boczne ruchy plytki wzgledem maski doprowadzaja do stosunkowo duzego zcierania e- mulsji na masce. Przy ponownym dociskaniu u- stawionych juz równolegle do siebie powierzchni plytki pólprzewodnikowej i maski celem naswie¬ tlenia stykowego, uszkodzenie maski jest o wiele mniejsze,, gdyz wzgledne ruchy boczne Juz teraz nie wystepuja.Celem wynalazku jest zmniejszenie scierania ma¬ sek a tym samym przedluzenie czasu uzytkowania drogich masek, szczególnie przy procesie naswie¬ tlania stykowego plytek. 69 8693 Wynalazek ma za zadanie stworzenie takiego sposobu równoleglego ustawienia plytki pólprze¬ wodnikowej oraz usytuowania nad nia w pewnej odleglosci maski, przy którym unika sie bezpo¬ sredniego zetkniecia plytki i maski. Wynalazkiem objete jest poza tym znane urzadzenie do usta¬ wienia i naswietlenia wyposazone w nowe urza¬ dzenie do stosowania wymienionego sposobu.Zadanie to jest rozwiazane w ten sposób, ze równoleglosc pomiedzy plytka pólprzewodnikowa a maska ustala sie przez ustawienie plytki w sto¬ sunku do plytki ustalajacej, stanowiacej plaszczy¬ zne wyrównawcza, plytke pólprzewodnikowa w tym polozeniu unieruchamia sie, po czym na miej¬ sce plytki ustalajacej wstawia sie maske. Aby u- niknac opadniecia plytki pólprzewodnikowej po ustawieniu jej równolegle do plytki ustalajacej, umieszcza sie maske wyzej od tej plytki ponad równolegle ustawiona plytka pólprzewodnikowa o odstep potrzebny do manipulacji.Dzieki sposobowi wedlug wynalazku przedluza sie trwalosc delikatnych masek, gdyz przy usta¬ wieniu plytki pólprzewodnikowej maska nie ulega juz uszkodzeniu.Urzadzenie do stosowania sposobu sklada sie ze znanego skadinad urzadzenia do ustawienia i na¬ swietlania z typowymi dla tego rodzaju urzadzen czesciami jak na przyklad mikroskopem, urzadze¬ niem do naswietlania oraz urzadzeniem do umiesz¬ czenia maski i obsada przynajmniej jednej plytki pólprzewodnikowej, osadzona przegubowo prze¬ suwnie w stosunku do maski i dajaca sie unie¬ ruchomic.Urzadzenie wedlug wynalazku ma plytke usta¬ lajaca, umieszczona w plaszczyznie obok maski.Urzadzenie z plytka ustalajaca i maska umiesz¬ czone jest nad obsada plytki pólprzewodnikowej w sposób przesuwny lub obrotowy w celu umo¬ zliwienia ustawienia na zmiane plytki ustalajacej lub maski, Celem pewnego i szybkiego doprowa¬ dzenia plytki ustalajacej wzglednie maski nad ob¬ sade plytki pólprzewodnikowej, urzadzenie sklada sie z wózka z maska i wózka z plytka ustalajaca, które sa polaczone z soba i umieszczone sa na lo¬ zyskach kulkowych przesuwnie na stole sluzacym za wspólna podstawe.Aby zapewnic dokladne trafienie na miejsce nad obsada plytki pólprzewodnikowej jednego z tych dwóch wózków, wykonano w stole po obu stro¬ nach obsady plytki pólprzewodnikowej dwa wy¬ zlobienia o pryzmatycznym przekroju w odleglo¬ sci odpowiadajacej odleglosci lozysk kulkowych przy kazdym wózku. Poza tym umieszczono obok obsady plytki pólprzewodnikowej wsporniki z ka¬ nalami prózniowymi umozliwiajace pewne ustawie¬ nie plytki ustalajacej wzglednie fotomaski w poloze¬ niu roboczym. Aby nie dopuscic do powtórnego o- padniecia obsady plytki pólprzewodnikowej po równoleglym jej ustawieniu do plytki ustalajacej, plytka ta ma wystep dystansowy odpowiadajacy odstepowi manipulacyjnemu, w wyniku czego fo- tomaska znajdzie sie w swoim polozeniu roboczym nad plytka pólprzewodnikowa wlasnie w tej odle¬ glosci* 869 4 Wynalazek jest przykladowo wyjasniony na ry¬ sunku, na którym fig. 1 przedstawia w perspekty¬ wie urzadzenie do wzajemnego ustawienia, fig. 2 przedstawia w perspektywie urzadzenie do umiesz- 5 czenia maski, fig. 3 przedstawia przekrój plytki ustalajacej w polozeniu roboczym nad obsada plyt¬ ki pólprzewodnikowej, fig. 4 przedstawia fotoma- ske w polozeniu roboczym.Równoleglosc pomiedzy plytka pólprzewodniko- 10 wa 1 i fotomaska 2 ustala sie przez ustawienie plytki 1 w stosunku do plytki ustalajacej 3 pelnia¬ cej role plaszczyzny wyrównawczej.Po ustawieniu plytki pólprzewodnikowej 1 rów¬ nolegle do plytki ustalajacej 3, unieruchamia sie 15 ja w tym polozeniu, a plytke ustalajaca 3 wymie¬ nia na maske 2. Maska 2 zostaje przy tym umie¬ szczona równolegle nad plytka pólprzewodnikowa 1, i wyzej od plytki ustalajacej 3 o odstep mani¬ pulacyjny a. Znane skadinad urzadzenie do usta- 20 wienia i naswietlania wyposazone jest w odpowied¬ nie urzadzenie do korzystnego stosowania tego sposobu. Urzadzenie do ustawienia i naswietlania sklada sie zasadniczo z mikroskopu A i urzadzenia B do naswietlania, z których kazde mozna na 25 zmiane przestawic obrotowo w polozenie nad u- rzadzenie C do umieszczenia maski 2. W obudo¬ wie oznaczonej D umieszczony jest tak zwany stól krzyzowy z osadzona przegubowo, w stosunku do maski 1 przesuwna i unieruchamiana obsada 5 30 plytki pólprzewodnikowej.Urzadzenie do korzystnego stosowania sposobu wedlug wynalazku sklada sie z urzadzenia C do umieszczenia plytki ustalajacej 3 i maski 2, w sklad którego wchodzi wózek 11 z maska i wózek 35 12 z plytka ustalajaca. Wózki 11 i 12 polaczone sa ze soba dwoma sprezynkami piórowymi 4. Za po¬ srednictwem lozysk kulkowych 6 przy kazdym z wózków, wózki 11 i 12 obsadzone sa przesuwnie na stole 7 sluzacym jako wspólna podstawa. Po 40 obu stronach obsady plytki pólprzewodnikowej 1 wykonano w odleglosci odpowiadajacej rozstawowi lozysk kulkowych 6, w stole 7 pryzmatyczne wy¬ zlobienie 8. Po obu stronach obsady 5 umieszczo¬ ne sa poza tym wsporniki z kanalami prózniowy- 45 mi 9, sluzace do ustalenia miejsca fotomaski 2 wzglednie plytki ustalajacej 3 nad obsada 5 plyt¬ ki pólprzewodnikowej.Plytka ustalajaca 3 ma wystep dystansowy 10, dzieki któremu uzyskuje sie odstep manipulacyjny 50 a od fotomaski 2. Na wózku 11 przewidziano sru¬ by nastawcze 13 i 14, sluzace do dokladnego usta¬ lenia miejsca wymiennych masek 2. Stól 7 ma mniej wiecej w srodku przerwe 15, w której umie¬ szczona jest obsada 5 plytki pólprzewodnikowej 1 55 dociskanej do plytki ustalajacej 3 wzglednie ma¬ ski 2.Plytke pólprzewodnikowa 1 kladzie sie na ob¬ sadzie 5 i ustala ja w tym polozeniu. Przesuwa¬ jac urzadzenie do umieszczenia C plytki ustalaja- 60 cej 3 i maski 2 doprowadza sie nastepnie wózek. 12 w polozenie robocze. Lozyska kulkowe 6 wózka 12 zaskakuja przy tym w wyzlobienia 8, a plytka ustalajaca 3 nachodzi na wsporniki 9. Za pomoca kanalów prózniowych zostaje plytka ustalajaca 3 65 w tym polozeniu ustalona. Równolegle ustawienia69 869 plytki pólprzewodnikowej 1 odbywa sie teraz przez podnoszenie obsady 5 do momentu az plytka pólprzewodnikowa 1 dojdzie do styku z wystepem 10 plytki ustalajacej 3. W tym polozeniu unieruchamia sie obsade 5, a wózek 12 wymienia sie na wózek 11 przesuwajac go i z kolei wózek ten sie w ten sam sposób unieruchamia. Poniewaz maska 2 znalazla sie teraz bezposrednio nad usta¬ wiona równolegle plytka pólprzewodnikowa 1, mo¬ zna przystapic do ustawienia wzoru na plytce 1 zgodnie z wzorem na masce 2. Po przeprowadze¬ niu ustawienia, nanosi sie przez naswietlenie sty¬ kowe wzór maski 2 na plytke pólprzewodnikowa 1. PL PL

Claims (7)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób ustawienia plytki pólprzewodnikowej równolegle do maski, w celu ustawienia naniesio¬ nego na masce wzoru zgodnie z wzorem na plytce pólprzewodnikowej, przed naswietlaniem styko¬ wym, znamienny tym, ze równoleglosc pomiedzy plytka pólprzewodnikowa i maska uzyskuje sie przez ustawienie plytki pólprzewodnikowej rów¬ nolegle w stosunku do stanowiacej powierzchnie wyrównawcza plytki ustalajacej, przy czym plytke pólprzewodnikowa w tym polozeniu unieruchamia sie, a plytke ustalajaca wymienia sie na maske (a).

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze maske wprowadza sie nad ustawiona równolegle plytke pólprzewodnikowa, wyzej od plytki ustala¬ jacej o konieczny odstep manipulacyjny.

3. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug zastrz. 1, zawierajace mikroskop, urzadzenie do na¬ swietlania z urzadzeniem do umieszczenia maski oraz obsada przynajmniej jednej plytki pólprze- 5 wodnikowej, osadzona przegubowo w stosunku do maski, przesuwna i dajaca sie unieruchomic, zna¬ mienne tym, ze urzadzenie (C) do umieszczenia maski (2) zawiera plytke ustalajaca (3), znajdujaca sie w tej samej poziomej plaszczyznie co maska io (2) a ponadto urzadzenie (C) do umieszczenia mas¬ ki (2), mieszczace równiez plytke ustalajaca (3), umieszczone jest nad obsada plytki pólprzewodni¬ kowej (1) w sposób przesuwny i obrotowy.

4. Urzadzenie wedlug zastrz. 3 znamienne tym, 15 ze urzadzenie (C) z plytka ustalajaca i maska skla¬ da sie z wózka (11) z maska i wózka (12) z plytka ustalajaca, które sa ze soba polaczone i Umieszczo¬ ne przesuwnie na lozyskach kulkowych (6) na stole (7) sluzacym za wspólna podstawe. 20

5. Urzadzenie wedlug zastrz. 3 i 4, znamienne tym, ze w stole (7), po obu stronach obsady'{5) plytki pólprzewodnikowej, w odstepie równym od¬ leglosci umocowanych przy kazdym wózku (11, 12) lozysk kulkowych (6), wykonane sa pryzmatyczne wyzlobienia (8).

6. Urzadzenie wedlug zastrz. 3 i 4 znamienne tym, ze obok obsady (5) plytki pólprzewodnikowej umieszczone sa wsporniki (9) z kanalami próznio¬ wymi.

7. Urzadzenie wedlug zastrz. 3 i 4, znamienne tym, ze plytka ustalajaca (3) ma wystep (10), od¬ powiadajacy odstepowi manipulacyjnemu (a). 30KI. 21g, 11/02 69 869 MKP HO 11 7/68 Irrf fig. 3 W^/tV#^ Rg.U f^m^k^w^ 15 5 8 & v/^//v/f/M 10 Rg.2 PZG w Pab., zam. 1921-73, nakl. 110+20 egz. Cena zl 10,— PL PL