PL68401B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL68401B1
PL68401B1 PL11714668A PL11714668A PL68401B1 PL 68401 B1 PL68401 B1 PL 68401B1 PL 11714668 A PL11714668 A PL 11714668A PL 11714668 A PL11714668 A PL 11714668A PL 68401 B1 PL68401 B1 PL 68401B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cross
solution
linking
photosensitive
resin
Prior art date
Application number
PL11714668A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL11714668A priority Critical patent/PL68401B1/pl
Publication of PL68401B1 publication Critical patent/PL68401B1/pl

Links

Landscapes

  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Pierwszenstwo: 02.XI.1965 dlazastrz. 1-6 18.X.1966 dla zastrz. 7-10 Wlochy Opublikowano: 21.1.1974 68 401 KI. 57d,2/03 MKP G03M/02 UKD Urzedu Paientowego Pociej iiCTW-el Lll-J^ Wspóltwórcy wynalazku: Umberto di Blas, Simone Franco Wlasciciel patentu: Societa per Azioni Ferrania, Mediolan (Wlochy) Sposób wytwarzania wstepnie uczulonych, pozytywowych matryc do druku offsetowego l Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania wstepnie uczulonych, pozytywowych matryc do druku offse¬ towego, skladajacych sie z podloza, na którym znajduje sie warstwa zawierajaca swiatloczula pochodna kwasu sulfono¬ wego lub kwasu karboksylowego ojednym ugrupowaniu 5 o-chinonodwuazydowym w pierscieniu aromatycznym fcspoi- wo w postaci zywicy lub mieszaniny zywic, nierozpuszczalne w wodnych roztworach alkalicznych.Uczulone wstepnie pozytywowe i negatywowe matryce offsetowe, skladaja sie zwykle z podloza i warstwy swiatlo- 10 czulej. Jako podloze stosuje sie metalie, takie jak glin lub cynk, albo tworzywa poliestrowe, awarstwe swiatloczula stanowia swiatloczule zwiazki chemiczne i spoiwo. Zada¬ niem spoiwa jest zwiekszenie odpornosci warstwy swiatlo¬ czulej na mechaniczne scieranie w procesie drukowania, przy 15 czym w znanych matrycach jako spoiwo stosuje sie zywice rozpuszczalne w alkaliach, zwlaszcza zywice fenoloformal- dehydowa.Jako zwiazki swiatloczule stosuje sie przewaznie pochod¬ ne kwasów karboksyIowy eh lub kwasów sulfonowych, zawie- 20 rajace w pierscieniu aromatycznym, korzystnie w pierscieniu naftalenowym, grupe o-chinonodwuazydowa. Wiekszosc tych zwiazków stanowia estry i podstawione amidy, pochod¬ ne kwasu naftochinono-l,2-dwuazydo-(2)-5-sulfonowego, kwasu naftochinono-l,2-dwuazydo-(l)-5-sulfonowego i kwa- 25 su benzochinonodwuazydo-(2)-p-sulfonowego.Wytwarzanie matryc drukarskich zawierajacych jako ma¬ terial swiatloczuly zwiazki dwuazowe polega jak wiadomo na tytn, ze wykorzystuje sie rózna rozpuszczalnosc zwiazków dwuazochinonowych i produktów ich rozkladu pod wply- 30 wem swiatla, przy czym w zaleznosci od rodzaju srodka sto¬ sowanego do wywolywania matryc rozróznia sie matryce negatywowe i matryce pozytywowe. W przypadku plyt zna¬ nych, umieszczona na podlozu warstwe swiatloczula, zawie¬ rajaca naftochinonodwuazyne i ester poliwinylowy lub poli- winyloacetal lub nierozpuszczalna w wodzie celuloze, naswie¬ tla sie poprzez oryginal, traktuje roztworem alkalicznym tak, aby naswietlone partie warstwy nie zostaly usuniete z podlo¬ za, naswietla ponownie warstwe swiatloczula i wreszcie za pomoca alkalicznego wywolywacza usuwa te czesci warstwy swiatloczulej, które nie ulegly dzialaniu swiatla podczas pierwszego naswietlania, otrzymujac na matrycy odwrócony obraz oryginalu. Proces wytwarzania takich plyt obejmuje wiec 4 etapy.Wynalazek ma na celu znaczne uproszczenie procesu wytwarzania matryc do druku zawierajacych jako substancje swiatloczule znane zwiazki dwuazowe.Istota wynalazku polega na tym, ze jako spoiwo warstwy swiatloczulej stosuje sie zywice lub mieszanine zywic usie- ciowana za pomoca jednego lub kilku srodków sieciujacych, która pod dzialaniem alkalicznego roztworu ulega usunieciu w miejscach naswietlonych poprzez oryginal, obnazajac w tych miejscach podloze, podczas gdy w miejscach niena- swietlonych warstwa swiatloczula pozostaje na podlozu, da¬ jac nieodwrócony obraz oryginalu. Poniewaz zas metal jest olejofobowy, a warstwa swiatloczula hydrofobowa, przeto obraz na matrycy zwilza sie latwo farba drukarska, zawiera¬ jaca produkty oleiste.W procesie wedlug wynalazku jako spoiwo warstwy swia¬ tloczulej zamiast stosowanych w znanych sposobach zywic 68 4013 rozpuszczalnych w alkaliach stosuje sie zywice nierozpusz¬ czalne w alkaliach, ale przepuszczajace wodne roztwory alka¬ liczne. Mozliwosc taka jest calkowicie nieoczekiwana, ponie¬ waz przy wytwarzaniu znanych, wstepnie uczulonych matryc pozytywowych stosuje sie zawsze spoiwo rozpuszczalne w cieczach wywolujacych, poniewaz zwiazki o-naftochinono- dwuazydowe tworza pod wplywem swiatla i wody produkty o charakterze kwasowym, awiec rozpuszczalne w alkalicz¬ nych srodkach wywolujacych.Przy wytwarzaniu matryc sposobem wedlug wynalazku stosuje sie zywice nierozpuszczalne w alkaliach, lecz prze¬ puszczajace wodne roztwory alkaliczne. Zywice te zawieraja jeden lub kilka polimerów, w których czasteczkach powta¬ rzaja sie grupy karboksylowe, przy czym zywice te sa usiecio- wane za pomoca jednego lub kilku srodków sieciujacych, zdolnych do reagowania z grupami karboksylowymi poli¬ meru. W tym celu stosuje sie rózne polimery zawierajace gru¬ py karboksylowe, np. polimery otrzymane droga kopolimery- zacji nienasyconych kwasów karboksylowych, takich jak kwas akrylowy, metakrylowy, krotonowy, maleinowy itp., zjednym lub kilkoma monomerami ojednym wiazaniu ety¬ lenowym, takimi jak estry kwasu akrylowego lub metakrylo¬ wego, np. akrylan etylu, metakrylan butylu, etery winylowe, np. eter etylowinylowy, eter butylowinylowy, eter fenylc- winylowy, estry winylowe, np. octan winylu, propionian winylu, benzoesan winylu, monomery winyloaromatyczne, np. styren, a-metylostyren, winylotoluen, winylonaftalen, inden, nitryle kwasu akrylowego, np. akrylonitryl, metakry- lonitryl, a takze kopolimery octanu winylu z monoftalanem winylu albo z monobursztynianem winylu. Ogólnie biorac, w sposobie wedlug wynalazku mozna stosowac dowolne polimery majace wystarczajaca ilosc grup karboksylowych zdolnych do reakcji z uzytym srodkiem sieciujacym.Liczba grup karboksylowych w polimerze moze byc rózna, zaleznie od ciezaru czasteczkowego, chemicznego charakteru polimeru, rodzaju i zawartosci grup oleofilnych, charakteru srodka sieciujacego przeznaczonego do uzytku i szybkosci sieciowania, jaka sie pragnie uzyskac. Równiez ciezar czasteczkowy wyjsciowych polimerów moze sie wahac w stosunkowo szerokim zakresie.Jako Srodki sieciujace stosuje sie wedlug wynalazku te zwiazki, które sa zdolne do reakcji z grupami karboksylo¬ wymi, tworzac wiazania sieciujace. Szczególnie przydatne sa zwiazki, które w czasteczce zawieraja 2 lub kilka grup izo- cyjanianowych, 2 lub kilka grup 1,2-epoksydowych, 2 lub kilka grup etylencriminowych albo ich pochodne. Przyklada¬ mi korzystnych srodków sieciujacych sa: 2,4-toluileno-dwu- izocyjanian, 2,6-toluileno-dwuizocyjanian albo ich miesza¬ niny, 6-metylenodwuizocyjanian, p-,p-dwufenylometanodwu- izocyjanian, 1,5-naftalenodwuizocyjanian, produkt konden¬ sacji 1,1,1-tróJmetylolopropanu z 2,4-toluUenodwuizocyja- nuuiem, p-, p-, p-trójfenylometanotrójizocyjanian, izocyja¬ nian pohwinylu, polimetakrylan glicydylu, kopolimery meta- krylanu glicydylu z akrylanami lub estrami winylowymi lub t monomerami aromatycznowinylowymi, tlenek trójetyleno- -iminofosfiny, tlenek trójmetyloetylenoiminofosfiny, trój- etylenoiminotrójazyna, homopolimery i kopolimery akrylo- ttoetylenoiminy lub mieszaniny tych zwiazków.Stosowanie srodka sieciujacego w ilosci atechiometrycznej do grup karboksylowych zawartych w polimerze niejest ko¬ nieczne. Przeciwnie, zwykle nie wszystkie grupy karboksylo¬ we biora udzial w reakcji sieciowania, lecz ich czesc pozo¬ staje wolna, w celu zwiekszenia przepuszczalnosci warstwy dla srodka alkalicznego wywolujacego.Liczba grup karboksylowych, które nie biora udzialu 68401 4 w reakcji ze srodkiem sieciujacym moze zmieniac sie zaleznie od charakteru polimeru, zwlaszcza od zawartosci i stopnia nienasycenia komonomeru, typu uzytego tlenku dwuazo- wego, stosunku ilosciowego tlenku dwuazowego do spoiwa, 5 charakteru srodka sieciujacego itdL, albo tez wszystkie grupy karboksylowe zawarte w zywicznym spoiwie moga brac udzial w reakcji sieciowania, jak na przyklad w przypadku, gdy polimer zawiera w czasteczce inne grupy zapewniajace wymagany stopien przenikalnosci wywolywacza, na przy- 1° klad grupy laktamowe itp., albo gdy srodek sieciujacy wpro¬ wadza grupy, które nadaja warstwie wymagany stopien prze¬ nikalnosci dla czynnika wywolujacego, na przyklad grupy hydrofilne powstale w wyniku reakcji sieciowania. Ponadto stopien usieciowania moze zmieniac sie zaleznie od typu sto- 15 sowanego roztworu wywolujacego, zwlaszcza od wartosci pH tego roztworu.Sposobem wedlug wynalazku najkorzystniej sporzadza sie matryce przez rozpuszczenie w organicznym rozpuszczal¬ niku jednego lub kilku materialów swiatloczulych z grupy 20 chinonodwuazydów, jednego lub kilku polimerów zawieraja¬ cych w czasteczce odpowiednia liczbe wolnych grup karbo¬ ksylowych, jednego lub kilku srodków sieciujacych i nastep¬ nie przez rozprowadzenie tego roztworu jedna ze znanych metod, zwykle stosowanych w celu wytwarzania cienkich 25 warstewek.Najkorzystniej srodek sieciujacy dodaje sie do roztworu zwiazku dwuazowego i spoiwa tuz przed rozprowadzeniem tego roztworu, lecz mozna go równiez dodawac w kazdym innym momencie. Czasami reakcje sieciowania prowadzi sie 30 w warstwie swiatloczulej w temperaturze pokojowej. Jednak w celu przyspieszenia usieciowania spoiwa korzystnie jest utrzymywac rozprowadzony material w temperaturach wyzszych od temperatury pokojowej, ale oczywiscie nizszych od temperatury rozkladu uzytego zwiazku dwuazowego. 33 Dodatkowa zaleta tego sposobu jest stabilizacja materialu, umozliwienie latwego zakonczenia reakcji sieciowania, dzieki czemu unika sie zbyt szybkiego zuzywania sie materialu z uplywem czasu. W zwiazku z tym celowe jest stosowanie temperatury wyzszej od temperatury pokojowej juz w etapie 40 suszenia warstwy.Wyzsza wytrzymalosc mechaniczna warstwy zawierajacej swiatloczuly zwiazek z grupy chinonodwuazydów i stosowa¬ nie jako spoiwa usieciowanej zywicy nierozpuszczalnej w alkaliach lecz przenikalnej dla alkali, typu opisanego po- 48 wyzej, decyduje o zwiekszonej trwalosci uzytkowej matrycy wedlug wynalazku w porównaniu ze znanymi matrycami, w których jako spoiwo stosuje sie znane zywice rozpuszczal¬ ne w alkaliach.W sposobie wedlug wynalazku material swiatloczuly 50 i spoiwo stosuje sie korzystnie w stosunku wagowym 1 :1 do 1 :10.W celu lepszego zilustrowania istoty sposobu wedlug wynalazku ponizej opisano sposoby wytwarzania pewnych typów polimerów stosowanych w procesie wedlug wynalaz- 55 ku, a takze przyklady sporzadzania matryc.Wytwarzanie i wlasciwosci niektórych polimerów.A/ Kopolimer octanu winylu z monoftalanem winylu 50 g handlowego alkoholu poliwinylowego (stopien zmydle- nia 88%) wprowadza sie w stan zawiesiny z 250 ml lodowa¬ to tego kwasu octowego i dodaje 108 ml bezwodnika octowego oraz Ig octanu sodowego. Nastepnie calosc podgrzewa sie w temperaturze 120°C w ciagu 3-4 godzin, po czym otrzy¬ many roztwór ochladza sie do temperatury 80°C, dodaje 54 g bezwodnika ftalowego i utrzymuje w temperaturze 80°C 55 przez okres 30 godzin. Z kolei roztwór ten oziebia sie i poli-68401 mer wytraca za pomoca wody, odsacza i suszy pod zmniej¬ szonym cisnieniem. Otrzymany produkt rozpuszcza sie w 300 ml metanolu i ponownie wytraca woda. Po wysuszeniu 'pod zmniejszonym cisnieniem otrzymuje sie okolo 70 gpro¬ duktu zawierajacego 3,9% wolnych grup COOH. Lepkosc 2% roztworu w dwumetylóformamidzie w temperaturze 25° C wynosi 1,33 Cp. Produkt jest latwo rozpuszczalny w dioksa¬ nie i dwumetylóformamidzie oraz alkoholu, nierozpuszczalny w wodzie, a rozpuszczalny w wodnym roztworze wodoro¬ tlenku sodowego.Sieciowanie, a/ 0,5 g polimeru rozpuszcza sie w 10 ml dioksanu, dodaje 0,2 g polimetakrylanu glicydylu rozpusz¬ czonego w 5 ml octanu, roztwór umieszcza na szkielku zegar¬ kowym i odparowuje do sucha. Otrzymany w ten sposób film ogrzewa sie w suszarce w temperaturze 60°C w ciagu 8 go- . dzin w celu przeprowadzenia reakcji sieciowania. W ten spo¬ sób otrzymuje sie blone, która w wodnych roztworach NaOH tylko pecznieje, nie ulegajac rozpuszczeniu nawet pod¬ czas ogrzewania dc» /rzenia.V 0,5 g polimeru rozpuszcza sle w 10 ml dioksanu, do¬ daje 0,1 g tlenku trójetylenoiminofosfiny i odparowuje do sucha na szkielku zegarkowym. Otrzymana blona ogrzewana w ciagu 5 godzin w temperaturze 50°C pecznieje lecz nie roz¬ puszcza sie win roztworze wodorotlenku sodowego i w dwumetylóformamidzie na zimno i na goraco. c/ 0,5 g polimeru rozpuszcza sie w 10 ml dioksanu i mie¬ sza z 0,2 g mieszaniny 2,4- i 2,6-toluileno-dwuizoeyjanianu rozpuszczonej w 5 ml metyloetyloketonu. Po odparowaniu do sucha blone utrzymuje sie w ciag* 4 godzin w tempera¬ turze 55°C, po czym staje sie ona praktycznie nierozpusz¬ czalna w alkaliach i rozpuszczalnikach organicznych.B/ Kopolimer akrylanu etylu i kwasu akrylowego. 20 ml swiezo destylowanego akrylanu etylu oraz 3 ml destylowa¬ nego kwasu akrylowego ogrzewa sie z 80 ml acetonu pod chlodnica zwrotna w ciagu 5 minut, dodaje Iga, a*-azo-bis- -izobutylonitrylu i utrzymuje w stanie wrzenia pod chlodnica zwrotna w ciagu 5 godzin. Otrzymany roztwór chlodzi sie i mieszajac wlewa do wody. Otrzymany polimer dekantuje sie, ponownie przemywa woda i suszy pod zmniejszonym cisnieniem w temperaturze 50°C. Otrzymuje sie 19,5 g pro¬ duktu o zawartosci grup COOH 7,6%. Lepkosc 2% roztworu w dwumetylóformamidzie wynosi 2,25 CP(25°C). Produkt jest rozpuszczalny w acetonie, metylo-etyloketonie, dioksa¬ nie, 0,5 n roztworze NaOH, a nierozpuszczalny w wodzie.Sieciowanie. 1 g polimeru rozpuszcza sie w 15 ml aceto¬ nu, dodaje 3 g kopolimeru metakrylanu glicydylu i otrzyma¬ ny roztwór odparowuje do sucha na szkielku zegarkowym.Otrzymana blone ogrzewa sie w ciagu 10 godzin w tempera¬ turze 60°C, po czym w 5% roztworze NaOH lub w rozpusz¬ czalnikach organicznych ulega ona jedynie pecznieniu nie rozpuszczajac sie. Podobne wyniki uzyskuje sie stosujac do sieciowania szesciometyleno-dwuizocyjanian 'lub etyleno- imine.C/ Kopolimery akrylonitrylu z kwasem metakrylowym. 30 ml destylowanego akrylonitrylu i 5 ml kwasu metakrylo¬ wego ogrzewa sie pod chlodnica zwrotna w ciagu 5 minut w 100 ml acetonu, dodaje 3 g o, a*-azo-bis-izobutylonitrylu i utrzymuje w stanie wrzenia pod chlodnica zwrotna w ciagu 20 godzin. Po zakonczeniu tego etapu mase reakcyjna ozie¬ bia sie i mieszajac wlewa do eteru etylowego, po czym wy¬ dzielony produkt przemywa sie eterem i suszy pod zmniej¬ szonym cisnieniem. Otrzymuje sie 31 g produktu zawieraja¬ cego 10% grup COOH, rozpuszczalnego w dwumetylóforma¬ midzie i w 2% roztworze wodorotlenku sodowego, a nieroz¬ puszczalnego w wodzie. Lepkosc 2% roztworu w dwumetyló¬ formamidzie wynosi 1,75 Cp (2S*C).Sieciowanie. 0,5 g polimeru rozpuszcza sie w lOml dwu- metyloformamidu i dodaje acetonowy roztwór 0,2 g kopotk 5 meru metakrylanu glicydylu z akrylanem butylu, zawieraja¬ cego 59% metakrylanu gUcydylu^otaymanego droga poli¬ meryzacji wolnorodnikowej za pomoca «, a*-azo-bis-lzc4uty- lonitrylu w roztworze acetonowym w temperaturze wrzenia i wyodrebnionego w zwykly sposób. Otrzymany roztwór oe 10 parowuje sie do sucha na szkielku zegarkowym i otrzymana blone ogrzewa w suszarce w temperaturze 55*C wciagu 6 godzin. Blona ta pecznieje, leczjest nierozpuszczalnaw 2% roztworze NaOH w wodzie nawet nagoraco. Podobne wyniki otrzymuje sie przy sieciowaniu dwufenylometano-4t4-dwu- is izocyjanianu lub tlenku trójmetylenoiminofosfiny.D/ Kopolimer octanu winylu z kwasem akrylowym. 30 ml v octanu winylu i 7 ml swiezo przedestylowanego kwasu akry¬ lowego oraz 100 ml acetonu podgrzewa sie pod chlodnica zwrotna w ciagu 5 minut, po czym dodaje 3 g o, a *-azo-bit- 20 -izobutylonitrylu i kontynuuje ogrzewanie w ciagu 20 godzin.Nastepnie mieszanine poreakcyjna wylewa sie do wody, pro¬ dukt przemywa woda i suszy pod zmniejszonym cisnieniem.Otrzymuje sie 21,5 g produktu zawierajacego 7,2% grup COOH, o lepkosci 2% roztworu w dwumetyjoformamidzie 25 1,12 Cp (25°C), rozpuszczalnego w dwumetylóformamidzie, dioksanie i 3% NaOH, a nierozpuszczalnego W wodzie.Sieciowanie. 0,5 g polimeru rozpuszcza sie w 10 ml dwu- metylofoimamidu i dodaje 0,2 g 2,4-toluilenodwukocyja- nianu. Roztwór odparowuje sie do sucha na szkielku zegar* 30 kowym i otrzymana blone ogrzewa w temperaturze 55° C w ciagu 10 godzin.Otrzymuje sie blone nierozpuszczalna w 5% roztworze NaOH nawet w temperaturze wrzenia. Podobne wyniki uzys¬ kuje sie prowadzac sieciowanie za pomoca kopolimeru meta- 35 krylanu glicydylu lub tlenku trójmetyloetylenoiminofosfiny.£/ Kopolimer octanu winylu z kwasem krotonowym. Sto¬ suje sie produkt handlowy zawierajacy 3,8% grup COOH, o lepkosci 2% roztworu w dioksanie wynoszacej 1,88 Cp (25°C), latwo rozpuszczalny w acetonie, metyloety- 40 loketonie, dioksanie, dwumetylóformamidzie i w 2% roztwo¬ rze NaOH, a nierozpuszczalny w wodzie.Sieciowanie. 0,5 g polimeru rozpuszcza sie w 10 ml dio¬ ksanu, dodaje 0,2 g polimetakrylanu glicydylu rozpuszczo¬ nego w acetonie i odparowuje do sucha na szkielku zegarko- 45 wym. Otrzymana blone ogrzewa sie w suszarcew temperatu¬ rze 55°C w ciagu 10 godzin, po czym ulega ona jedynie pecznieniu w 2% roztworze NaOH w wodzie, leczjest nieroz¬ puszczalna.Blone o podobnych wlasciwosciach otrzymuje sie sto- 50 sujac jako srodek sieciujacy trójizocyjanian ittbwyzej wymie¬ nione srodki sieciujace etylenoiminowe.F/ Kopolimer octanu winylu z kwasem metakrylowym.Stosuje .sie produkt handlowy o zawartosci grup COOH 3%, lepkosci 2% roztworu w dioksanie wynoszacej 2,26 Cp 55 (25°C), rozpuszczalny w acetonie, metyloetyloketome, dio¬ ksanie, dwuchlorku etylenu i 2% roztworze NaOH w wodzie, 1 a nierozpuszczalny w wodzie.Sieciowanie. 1 g polimeru rozpuszcza sie w 15 ml acetonu i dodaje 0,2 g kopolimeru akrylanu butylu z mctakrylanem 60 ' glicydylu, rozpuszczonego w 10 ml acetonu. Otrzymany roz¬ twór odparowuje sie do sucha na szkielku zegarkowym i po¬ wstala blone ogrzewa w temperaturze 65°C w ciagu 5 go¬ dzin, po czym sprawdza jej rozpuszczalnosc. Blona ulega pecznieniu, lecz jest praktycznie biorac nierozpuszczalna «5 w 3% NaOH oraz w dioksanie, nawet w temperaturze wrze-68401 7 nia. Podobne wyniki otrzymuje sie stosujac do sieciowania dwufenylo-4,4-dwuizocyjanian lub sym-trójetylenoimino- trójazyne.Pr z y k l a d I. 20 g kopolimeru octanu winylu z kwa¬ sem krotonowym opisanego w ustepie E rozpuszcza sie w 150 mt dioksanu, dodaje 5 g estru kwasu naftochino- no-/lt2/-dwuazydo-/2/-5-sulfonowego z p-III-rzed.-butylo- fenolem oraz 150 ml roztworu acetonowego zawierajacego 10 g polimetakrylanu glicydylu otrzymanego w sposób opi¬ sany w przykladzie 2 brytyjskiego opisu patentowego nr 1 022 206. Otrzymany roztwór rozprowadza sie w dowol¬ ny znany sposób na podlozu aluminiowym stosownie od¬ tluszczonym i o powierzchni wyszczotkowanej mechanicznie i nastepnie suszy w wentylowanej komorze w temperaturze 80-90°C az do otrzymania suchej warstwy o ciezarze okolo 2,5 g/m9. Otrzymany material swiatloczuly utrzymuje sie w suszarce w temperaturze 55°C w ciagu 8 dni w celu kom¬ pletnego przeprowadzenia reakcji sieciowania. Nastepnie próbki materialu naswietla sie umieszczajac je pod przezro¬ czystym oryginalem i wywoluje 6% roztworem wodnym fos¬ foranu trójsodowego. Otrzymana matryca ma wypukly obraz o doskonalych wlasciwosciach i dobrej zdolnosci przyjmo¬ wania farby.P rz y kl a d II. 25 g kopolimeru octanu winylu z kwa¬ sem krotonowym, otrzymanego w sposób opisany w uste¬ pie E, rozpuszcza sie w 350 ml dioksanu, dodaje 5 g materia¬ lu swiatloczulegowymienionego w przykladzie I i nastepnie 5 g tlenku trójmetyloetylenoiminofosilny. Otrzymany roz¬ twór rozprowadza sie na stosownie przygotowanym podlozu aluminiowym, nastepnie suszy w temperaturze 80-90°C, tak aby otrzymac sucha blone o gramaturze 2,3 g/m3 dniach utrzymywania w temperaturze 55°C próbke materialu na¬ swietla sie pod przezroczystym oryginalem i wywoluje 3% wodnym roztworem fosforanu trójsodowego. Wypukly obraz ma doskonale wlasciwosci i dobra zdolnosc przyjmowania farby.P r z y k lad III. 25 g kopolimeru octanu winylu z mo- noftalanem winylu, opisanego w ustepie A, rozpuszcza sie w 350 ml dioksanu, dodaje 5 g zwiazku swiatloczulego wymienionego w przykladzie I i 5 g 75% roztworu trójizo¬ cyjanianu otrzymanego na drodze kondensacji 1,1-trójmety- lolopropanu z 2,4-toluilenodwuizocyjanianu. Otrzymany roz¬ twór rozprowadza sie na podlozu aluminiowym i suszy w temperaturze 80-90° C tak, aby otrzymac sucha warstwe o gramaturze 2,2-2,4 g/m3.Po wysuszeniu w suszarce w temperaturze 55° C przez okres 6 dni w celu zakonczenia reakcji sieciowania, material naswietla sie w znany sposób i wywoluje jednym ze znanych roztworów wywolujacych, zawierajacych fosforan sodowy i krzemian sodowy. Otrzymuje sie wypukly obraz o dosko¬ nalych wlasnosciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby.Przyklad IV. 29 g kopolimeru octanu winylu z mo- noftalanem winylu, otrzymanego w sposób analogiczny do opisanego w ustepie A, lecz zawierajacego grupy COOH w ilosci 5,6%, rozpuszcza sie w 300 ml dioksanu. Nastepnie dodaje sie 5g materialu swiatloczulego podanego w przykladzie I i 0,6g tlenku trójmetylenoiminofosfiny.Otrzymany roztwór rozprowadza sie na stosownie przygoto¬ wanym podlozu aluminiowym i suszy tak, aby otrzymac sucha warstwe powlokowa o gramaturze 2,3-2,6 g/m3. Po wysuszeniu przez okres 10 dni w temperaturze 55° C, ma¬ terial naswietla sie w zwykly sposób i wywoluje znanym roztworem zawierajacym fosforan sodowy i krzemian sodo¬ wy. Otrzymuje sie obraz wypukly o doskonalych wlasciwos¬ ciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby. 8 P r z y kl a d V. 20 g kopolimeru octanu winylu z mono- ftalanem winylu, opisanego w ustepie A, rozpuszcza sie w 200 ml dioksanu, dodaje 5 g wymienionego w przykla- 5 dztc I materialu swiatloczulego i 0,6 g kopolimeru metakry- . lanu glicydylu, zawierajacego okolo 75% metakrylanu glicy¬ dylu. Otrzymany roztwór rozprowadza sie na odpowiednim podlozu aluminiowym i suszy w zwykly sposób, uzyskujac gramature okolo 2,5 g/m3. Po wysuszeniu w ciagu 5 dni 10 w temperaturze 55°C w celu zakonczenia reakcji sieciowania, material naswietla sie w zwykly sposób rwywoluje 3% roz¬ tworem fosforanu trójsodowego. Otrzymuje sie obraz o dob¬ rych wlasciwosciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby.P r z y k l a d VI. 20 g kopolimeru octanu winylu z kwa¬ sem krotonowym, opisanego w ustepie E i5g materialu swiatloczulego podanego w przykladzie I rozpuszcza *ie w 300 ml dioksanu i dodaje 10 g tlenku trójetylenoiminofos- finy. Otrzymany roztwór rozprowadza sie w znany sposób na stosownym podlozu aluminiowym. Po wysuszeniu przez 7 dni w temperaturze 55°C, próbke materialu naswietla sie w zwykly sposób i wywoluje za pomoca srodka wywoluja¬ cego o skladzie podanym w przykladzie I. Otrzymuje sie obraz o doskonalych wlasnosciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby.P r z y k l a d VII. 25 g kopolimeru octanu winylu z kwa¬ sem metakrylowym, opisanego w ustepie F, rozpuszcza sie w 300 ml dioksanu, dodaje f g materialu swiatloczulego opisanego w przykladzie I i 5 g polimetakrylanu glicydylu.Otrzymany roztwór rozprowadza sie nastepnie na stoso¬ wnym podlozu aluminiowym jedna ze znanych metod. Po wysuszeniu przez okres 5 dni w temperaturze 60°C, próbke materialu naswietla sie w zwykly sposób i wywoluje 3% wodnym roztworem fosforanu trójsodowego. Otrzymuje sie obraz o dobrych wlasciwosciach i dobrej zdolnosci przyjmo¬ wania farby.Przyklad VIII. Matryce sporzadza sie postepujac w sposób opisany w przykladzie VII, lecz jako srodek sieciu¬ jacy stosuje sie 5 g kopolimeru metakrylanu glicydylu z akry¬ lanem butylu, zawierajacego 73% metakrylanu glicydylu.Przyklad IX. 25 g kopolimeru octanu winylu z kwa¬ sem krotonowym, opisanego w ustepie E i 5 g znanego ma¬ terialu swiatloczulego rozpuszcza sie w 300 ml dioksanu i dodaje 10 g kopolimeru metakrylanu glicydylu z akrylanem butylu, zawierajacego 59% monomeru epoksydowego. Otrzy¬ many roztwór rozprowadza sie na przygotowanym podlozu aluminiowym jedna ze znanych metod. Po wysuszeniu i na¬ swietleniu próbke materialu wywoluje sie jednym ze zna¬ nych srodków wywolujacych uzyskujac obraz o doskona¬ lych wlasnosciach.Przyklad X. 2,5 g kopolimeru akrylonitrylu z kwa¬ sem metakrylowym, opisanego w ustepie C, rozpuszcza sie w 300 ml dwumetyloformamidu i dodaje 5 g znanego swia¬ tloczulego zwiazku dwuazowego oraz 2,5 g kopolimeru metakrylanu glicydylu z akrylanem butylu, zawierajacego 73% monomeru epoksydowego. Otrzymany roztwór rozpro¬ wadza sie na stosownym podlozu aluminiowym i suszy w zwykly sposób. Powloka ma gramature okolo 2,5 g/m3.Po wysuszeniu w temperaturze 55°C przez okres 5 dni w celu zakonczenia reakcji sieciowania, material naswietla sie i wy¬ woluje w zwykly sposób 3% roztworem fosforanu trójsodo¬ wego. Otrzymuje sie obraz o doskonalych wlasciwosciach i dobrej zdoliosci przyjmowania farby.Przyklad XI. Matryce sporzadza sie postepujac w sposób opisany w przykladzie X, lecz stosujacjako spoiwo kopolimer akrylanu etylu z kwasem akrylowym, sporzadzony podobnie jak w sposobie opisanym w ustepie B, lecz zawiera- 25 30 35 40 45 50 55 609 68 401 10 jacy grupy COOH w ilosci 12,46%. Otrzymuje sie obraz o dobrych wlasciwosciach.Przyklad XII. 12,5 g kopolimeru akrylanu etylu z kwasem akrylowym, opisanego w ustepie B i 5 g znanego materialu swiatloczulego rozpuszcza sie w 30 ml dwumety- loformamidu i dodaje 3,5 g kopolimeru metakrylanu glicy¬ dylu z akrylanem butylu, zawierajacego 59% metakrylanu glicydylu. Otrzymany roztwór rozprowadza sie w znany spo¬ sób na stosownym podlozu aluminiowym tak, aby otrzymac sucfia warstwe o gramaturze 2,4 g/m9. Po wysuszeniu przez okres tygodnia w temperaturze 55°C, próbke materialu na¬ swietla sie i wywoluje w zwykly sposób roztworem fosfora¬ nu trójsodowego. Otrzymuje sie obraz o dobrych wlasciwo¬ sciach.Przyklad XIII. 56 g kopolimeru octanu winylu z kwasem krotonowym, opisanego w ustepie E i 10 g zna¬ nego swiatloczulego zwiazku dwuazowego rozpuszcza sie w 400 ml dioksanu i dodaje 4,3 g naftaleno-l,5-dwuizocyja- nianu. Otrzymany roztwór rozprowadza sie na przygotowa¬ nym podlozu aluminiowym. Powysuszeniu przez okres tygo¬ dnia w temperaturze 55°C, próbke materialu naswietla sie w zwykly sposób i wywoluje 3% wodnym roztworem fosfo¬ ranu trójsodowego. Otrzymuje sie obraz o doskonalych wlasnosciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby.Przyklad XIV. Matryce offsetowa sporzadza sie postepujac podobnie jak w przykladzie XIII, lecz jako sro¬ dek sieciujacy stosuje sie dwufenylometano-4,4-dwuizocyja- nian. Otrzymuje sie obraz o dobrych wlasnosciach.Przyklad XV. Matryce sporzadza sie postepujac w sposób opisany w przykladach poprzednich z tym, zejako spoiwo stosuje sie kopolimer octanu winylu z kwasem akry¬ lowym opisany w ustepie D, zas jako srodek sieciujacy sto¬ suje sie kopolimer metakrylanu glicydylu z akrylanem buty¬ lu, zawierajacy 59% metakrylanu glicydylu. Po typowej obróbce obejmujacej przyspieszone suszenie, naswietlenie i wywolanie, otrzymuje sie wypukly obraz o doskonalych wlasnosciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby.Przyklad XVI. 67 g kopolimeru octanu winylu z kwasem krotonowym, opisanego w ustepie E, rozpuszcza sie w 1000 ml suchego dioksanu, dodaje 13,5 g typowego materhlu swiatloczulego i 15,5 g 75% roztworu trójizocyja- nianu, otrzymanego przez kondensacje 1,1,1-trójmetylolo- propanu z 2,4-toluilenodwuizocyjanianu. Otrzymany roztwór rozprowadza sie na stosownie przygotowanym podlozu alu¬ miniowym, suszy w temperaturze 80-90°C tak, aby otrzy¬ mac sucha warstwe o gramaturze 2,2-2,4 g/m3. Po wysusze¬ niu przez okres 5 dni w temperaturze C0°C, material naswie¬ tla sie w zwykly sposób i wywoluje za pomoca typowych roztworów alkalicznych. Otrzymuje sie obraz o doskonalych wlasnosciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby.Przyklad XVII. 76 g kopolimeru octanu winylu z kwasem krotonowym, opisanego w ustepie E, rozpuszcza sie w 1000 ml bezwodnego dioksanu i nastepnie dodaje 27 g typowego swiatloczulego zwiazku dwuazowego oraz 33 g 20% roztworu 4,4\4"-trójfenylometano- trójtzocyjanianu w dwuchlorku metylu. Otrzymany roztwór rozprowadza sie 5 w zwykly sposób. Po Wysuszeniu przez 5 dni w temperatu¬ rze 60°G material naswietla sie i wywoluje w typowy spo¬ sób. Otrzymuje sie obraz o doskonalych wlasnosciach i dobrej zdolnosci przyjmowania farby. PL PL

Claims (10)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania wstepnie uczulonych, pozytywo¬ wych matryc do druku offsetowego, skladajacych sie z pod¬ loza, na którym znajduje sie warstwa zawierajaca swiatlo¬ czula pochodna kwasu sulfonowego lub kwasu karboksylo- wego ojednym ugrupowaniu o-chinonodwuazydowym w pierscieniu aromatycznym i spoiwo w postaci zywicy lub mieszaniny zywic, nierozpuszczalne w wodnych roztworach alkalicznych, znamienny tym, ze jako zywiczne spoiwo sto¬ suje sie zywice lub mieszanine zywic przepuszczajaca wodne roztwory alkaliczne i zawierajaca jeden lub kilka polimerów, w których czasteczkach powtarzaja sie grupy karboksylowe, które w warstwie swiatloczulej sa usieciowane za pomoca jednego hib kilku srodków sieciujacych.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, zejako swia¬ tloczula pochodna stosuje sie pochodna dwuazydowa o-naf- tochinonu.
3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tym, zejako srodek sieciujacy stosuje sie zwiazki zawierajace w czasteczce dwie lub wiecej grup izocyjanianowych.
4. Sposób wedlug zastrz. 1 i2v znamienny tym, ze jako srodek sieciujacy stosuje sie zwiazki zawierajace w czasteczce dwie lub wiecej grup 1,2-epoksydowych.
5. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tym, ze jako srodek sieciujacy stosuje sie zwiazki zawierajace w czasteczce dwie lub wiecej grup etylcnoiminowych.
6. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze jako sro¬ dek sieciujacy stosuje sie produkt kondensacji 1,1,1-trójme* tylolopropanu z 2,4-toluilenodwuizocyjanianu.
7. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze jako sro¬ dek sieciujacy stosuje sie homopolimer lub kopolimer meta¬ krylanu glicydylu.
8. Sposób wedlug zasirz. 5, znamienny tym, ze jako sro¬ dek sieciujacy stosuje sie tlenek trójetylenoiminofosilny.
9. Sposób wedlug zastrz. 1 -8, znamienny tym, ze proces sieciowania prowadzi sie po nalozeniu warstwy swiatloczu¬ lej na podloze, w temperaturze pokojowej lub podwyzszo¬ nej, ale nizszej od temperatury rozkladu uzytego zwiazku dwuazowego. s
10. Sposób wedlug zastrz. 1 -9, znamienny tym, ze sto¬ suje sie material swiatloczuly i spoiwo w stosunku wago¬ wym 1 :1 do 1 :10. 1S 20 25 30 35 40 45 PL PL
PL11714668A 1968-10-31 1968-10-31 PL68401B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL11714668A PL68401B1 (pl) 1968-10-31 1968-10-31

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL11714668A PL68401B1 (pl) 1968-10-31 1968-10-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL68401B1 true PL68401B1 (pl) 1973-02-28

Family

ID=19949551

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL11714668A PL68401B1 (pl) 1968-10-31 1968-10-31

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL68401B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3551154A (en) Light sensitive article comprising a quinone diazide and polymeric binder
CA1110903A (en) Development of light-sensitive quinone diazide compositions using methyltriethanol ammonium hydroxide
US3759711A (en) Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym
CA1132829A (en) Developer for light-sensitive quinone diazide compositions containing sulfite and a quaternary alkanol ammonium hydroxide
US4193797A (en) Method for making photoresists
US4316949A (en) Photoreactive oligomer composition and printing plate
US3802885A (en) Photosensitive lithographic naphthoquinone diazide printing plate with aluminum base
DE1807644A1 (de) Verwendung von lichtempfindlichen,filmbildenden Polymerisaten aus Aminostyrolen zur Herstellung von lichtempfindlichen Schichten lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien
US3900325A (en) Light sensitive quinone diazide composition with n-3-oxohydrocarbon substituted acrylamide
US3884703A (en) Bisazide sensitized photoresistor composition with diacetone acrylamide
US4557994A (en) Light-sensitive printing plate with patterned matting layer
CA1214676A (en) Light-sensitive mixture based on o-naphthoquinone diazides and light-sensitive copying material prepared therefrom
US4304832A (en) Photosensitive resin composition containing diazodiphenylamine-aldehyde condensate
US4154614A (en) Photosensitive diazo composition with graft copolymer for use in printing screen
US3148064A (en) Light sensitive photographic composition containing aluminum stearate as a translucent pigment
US4245036A (en) Emulsifier-free latexes and photographic light-sensitive elements containing them
US3898087A (en) Photopolymerizable compositions containing aminimides
DE1067219B (de) Verfahren zur Herstellung von durch Lichteinwirkung vernetzenden hochpolymeren Verbindungen
US4221859A (en) Photopolymerizable composition with oxalic acid photoinitiator
KR0161965B1 (ko) 방사선-감수성 혼합물 및 이로부터 제조된 방사선-감수성복사물질
US3467518A (en) Photochemical cross-linking of polymers
US4229514A (en) Photosensitive composition
US3644118A (en) Polydiacrylyl photosensitive compositions
EP0361906A2 (en) Method of producing an image reversal negative photoresist having a photo-labile blocked imide
US5462840A (en) Use of poly(35-disubstituted 4-hydroxystyrene/N-substituted maleimide for forming a negative image