PL67584B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL67584B1 PL67584B1 PL140696A PL14069670A PL67584B1 PL 67584 B1 PL67584 B1 PL 67584B1 PL 140696 A PL140696 A PL 140696A PL 14069670 A PL14069670 A PL 14069670A PL 67584 B1 PL67584 B1 PL 67584B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- intermetallic
- compounds
- component
- monocrystallization
- carried out
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Description
Opublikowano: 15.XI.1973 67584 KI. \2gZ~~~ MKP BOlj 17/18 UKD Wspóltwórcy wynalazku: Andrzej Hruban, Wieslaw Krzywiec Wlasciciel patentu: Naukowo Produkcyjne Centrum Pólprzewodników Osrodek Naukowo Produkcyjny Materialów Pólprzewodnikowych, Warszawa (Polska) Sposób wytwarzania monokrysztalów intermetalicznych zwiazków pólprzewodnikowych dwuskladnikowych i wieloskladnikowych Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania mo¬ nokrysztalów intermetalicznych zwiazków pólprzewodni¬ kowych z dwóch lub wiecej skladników, przy czym skladniki te moga posiadac rózne cisnienie czastkowe par.Znane i stosowane do wymienionego celu sposoby opieraja sie na metodzie Bridgemana lub Czochralskie- go z zastosowaniem goracej komory z podnoszeniem magnetycznym zarodzi.Obydwa te sposoby charakteryzuja sie tym, ze pro¬ cesy syntezy i monokrystalizacji nastepuja bezposrednio po sobie w tej samej objetosci komory roboczej — am- puly kwarcowej. Równowagowe cisnienie dysocjacji ter¬ micznej syntezowanych i monokrystalizowanych zwiaz¬ ków wytwarzane jest w obu przypadkach przez pary komponentów, a o wartosci tego cisnienia decyduje tem¬ peratura najchlodniejszego punktu ampuly.Z innych sposobów wytwarzania monokrysztalów in¬ termetalicznych zwiazków pólprzewodnikowych, sa zna¬ ne sposoby charakteryzujace sie tym, ze caly proces technologiczny podzielony jest na etapy, z których kaz¬ dy wykonywany jest w innym urzadzeniu. Osobno syn¬ teza i osobno monokrystalizacja.W dotychczas stosowanych sposobach istnieje szereg wad i niedogodnosci, w zwiazku z czym stosowanie tych metod jest znacznie ograniczone. Niedogodnoscia w me¬ todzie Bridgemana i Czochralskiego jest to, ze cala am- pula, z reguly kwarcowa musi byc grzana do dosc wy¬ sokich temperatur, co sprzyja dyfuzji zanieczyszczen do materialu krystalizowanego. Nastepne wady to niemoz- 10 15 20 30 liwosc regulacji skladu chemicznego w przypadku zwiaz¬ ku wieloskladnikowego, utrudniona obserwacja wzra¬ stajacych krysztalów, w przypadku zwiazków o wyso¬ kich preznosciach par, oraz duze niebezpieczenstwo eksplozji ampul. Powazna niedogodnoscia jest tez bar¬ dzo skomplikowana konstrukcja urzadzen technologicz- nycyh ich wysokie koszty, czasochlonne i pracochlonne przygotowanie procesu technologicznego oraz duze zu¬ zycie materialów pomocniczych.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu otrzy¬ mywania monokrysztalów intermetalicznych zwiazków pólprzewodnikowych dwuskladnikowych i wieloskladni¬ kowych, który jest pozbawiony wszystkich poprzednio opisanych wad i pozwala na uzyskanie monokryszta¬ lów z tych materialów w jednym procesie technologicz¬ nym. Cel ten zostal osiagniety przez zastosowanie spo¬ sobu wedlug wynalazku, który w swej istocie polega na syntezie zwiazku intermetalicznego pod topnikiem w atmosferze ochronnej gazu obojetnego, a nastepnie bez¬ posrednio bez zestalenia materialu i przenoszenia go do innego urzadzenia, na monokrystalizacji, na uprzed¬ nio przygotowanej zarodzi.Istota sposobu otrzymywania monokrysztalów zwiaz¬ ków intermetalicznych wyjasniona jest na podstawie ry¬ sunku, przy czym jako przyklad podano schematycznie urzadzenie do otrzymywania monokrysztalu zwiazku in¬ termetalicznego dwuskladnikowego.W celu uzyskania monokrysztalu na przyklad arsenku galu nalezy do tygla 2 umieszczonego w prózniowej 6758467584 komorze 1 zaladowac skladnik B na przyklad okolo 100 g galu wraz z okolo 40 g materialu ochronnego C na przyklad tlenku boru i do ampuly 4 zakonczonej lejkowatym wylotem zaladowac skladnik A na przyklad okolo 100 g arsenu.Nastepnie po uzyskaniu w komorze 1 wysokiej próz¬ ni do okolo 10—6 Tr wlacza sie elementy grzewcze 3 i 5 w celu wygrzania materialów wejsciowych przezna¬ czonych do syntezy. Po wstepnym wygrzaniu materia¬ lów wyjsciowych i po wypelnieniu komory 1 gazem ochronnym na przyklad argonem, oraz po uzyskaniu od¬ powiednich temperatur to jest dla galu okolo 1000°C i dla arsenu okolo 620°C opuszcza sie przy pomocy odpowiedniego manipulatora ampule 4 z elementem grzewczym 5 tak aby koniec lejkowatego wylotu skryl sie pod warstwa zabezpieczajaca C i pod lustrem sto¬ pionego galu.Dla prawidlowego przeprowadzenia syntezy nalezy temperatury we wnetrzu tygla 2 z galem i ampuly 4 z arsenem ustalic odpowiednio na 1250°C i okolo 650°C.Po przeprowadzeniu syntezy zwiazku intermetaliczne- go podnosi sie ampule 4 z elementem grzewczym 5, tak aby lejkowaty jej wylot byl umiejscowiony poza ty¬ glem 2, a nastepnie, opuszcza sie wrzeciono 6 z umo¬ cowana w niej monokrystaliczna zarodzia 7 i przepro- 15 20 25 wadza sie proces monokrystalizacji z nowa metoda Czo- chralskiego.W przypadku otrzymywania monokrysztalów zwiaz¬ ków intermetalicznych wieloskladnikowych jeden ze skladników w czasie syntezy jest umieszczony w tyglu 2 w stanie cieklym, natomiast pozostale dostarczane sa z ampul 4 wraz z elementem grzewczym 5 w postaci par i wtedy ampul tych w komorze 1 jest odpowiednio wiecej. PL PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób otrzymywania monokrysztalów zwiazków in¬ termetalicznych dwuskladnikowych i wieloskladniko¬ wych w których proces monokrystalizacji zwiazku in- termetalicznego przeprowadza sie bezposrednio po pro¬ cesie syntezy bez zestalania zwiazku intermetalicznego, przy czym w przypadku zwiazków intermetalicznych dwuskladnikowych synteze te przeprowadza sie przez wprowadzenie par jednego ze skladników do drugiego bedacego w stanie plynnym, lub w przypadku zwiaz¬ ków intermetalicznych wieloskladnikowych przez wpro¬ wadzenie par wielu skladników do jednego bedacego w stanie plynnym, znamienny rym, ze oba procesy syn¬ tezy i monokrystalizacji przeprowadza sie pod warstwa ochronna topnika w atmosferze ochronnej gazu obo¬ jetnego, bezposrednio jeden po drugim. WDA-l. Zam. 6642, nakl. 115 egz. Cena rl 10 — PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL67584B1 true PL67584B1 (pl) | 1972-10-31 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Popović et al. | Revised and new crystal data for indium selenides | |
| Blachnik et al. | Phase relations in the TlX Tl2Se systems (X= Cl, Br, I) and the crystal structure of Tl5Se2I | |
| JPS6046075B2 (ja) | 半導体化合物単結晶の成長法 | |
| Garcia et al. | A synthetic and structural study of the zirconium-antimony system | |
| Oliver et al. | Growth of single crystal YB66 from the melt | |
| Bloom et al. | Solid state synthesis of Bi2Sr2CaCu2Ox superconductor | |
| PL67584B1 (pl) | ||
| US3649193A (en) | Method of forming and regularly growing a semiconductor compound | |
| GB803830A (en) | Semiconductor comprising silicon and method of making it | |
| US4564415A (en) | Process for producing ternary or quaternary semiconductor compounds | |
| US3933990A (en) | Synthesization method of ternary chalcogenides | |
| Zhu et al. | Two-temperature synthesis of non-linear optical compound CdGeAs2 | |
| Garbato et al. | Phase diagram of the (CuInTe2) 1− x(2ZnTe) x system and crystal growth of CuZn2InTe4 from zinc chloride flux | |
| Kuriyama | Bridgman growth of lithium indium alloy single crystals | |
| Greedan | Synthesis and crystal growth of SrLiH3 and EuLiH3; Ternary hydrides with the perovskite structure | |
| Hrubý et al. | Preparation of Cd3As2 and CdAs2 crystals by transport reaction in vapour phase | |
| Starink et al. | Precipitation kinetics of an Al-15% Mg alloy studied by microcalorimetry and TEM | |
| Zhao et al. | Growth of AgGaS2 single crystal by descending crucible with rotation method and observation of properties | |
| Herak | A stress induced α-U3O8-β-U3O8 transformation | |
| US3671330A (en) | Removal of acceptor impurities from high purity germanium | |
| Morris et al. | Ordering effects in the alloy Au3Mn | |
| Bunuel et al. | Optical properties of Tb3+-doped Rb2KInF6 elpasolite | |
| Govinda Rajan et al. | Synthesis and single crystal growth of gallium phosphide by the liquid encapsulated vertical Bridgman technique | |
| RU1603844C (ru) | Способ получени монокристаллов германата висмута со структурой эвлитина | |
| SUZUKI et al. | Crystal growth of rare earth compounds in closed system |