PL64990B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL64990B1
PL64990B1 PL130349A PL13034968A PL64990B1 PL 64990 B1 PL64990 B1 PL 64990B1 PL 130349 A PL130349 A PL 130349A PL 13034968 A PL13034968 A PL 13034968A PL 64990 B1 PL64990 B1 PL 64990B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
content
gold
amount
nickel
bath
Prior art date
Application number
PL130349A
Other languages
English (en)
Inventor
Socha Jan
Zak Tadeusz
Original Assignee
Instytut Mechaniki Precyzyjnej
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Mechaniki Precyzyjnej filed Critical Instytut Mechaniki Precyzyjnej
Publication of PL64990B1 publication Critical patent/PL64990B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 30.Y.1972 64990 KI. 48a,5/28 MKP C23b 5/28 UKD Wspóltwórcy wynalazku: Jan Socha, Tadeusz Zak Wlasciciel patentu: Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa (Polska) Kapiel do galwanicznego wytwarzania blyszczacych i twardych powlok stopowych ze zlota, zwlaszcza z miedzia, niklem, kobaltem i zelazem Przedmiotem wynalazku jest kapiel do galwa¬ nicznego wytwarzania blyszczacych i twardych po¬ wlok stopowych ze zlota, zwlaszcza z miedzia, ni¬ klem, kobaltem i zelazem.Obserwuje sie w technice coraz wieksza daznosc do nakladania elektrolitycznych powlok stopowych, ze zlota ze wzgledów ekonomicznych oraz ze wzgle¬ du na polepszenie wlasnosci mechanicznych po¬ wloki.Znane kapiele do tego celu nie pozwalaja jed¬ nak na uzyskiwanie powlok blyszczacych, co zmu¬ sza do wprowadzania dodatkowej operacji polero¬ wania, bardzo pracochlonnej i klopotliwej, zwla¬ szcza przy drobnych przedmiotach. Dla wyelimi¬ nowania chocby czesciowego operacji stosuje sie rózne dodatki blaskotwórcze.W znanej kapieli z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych nr '2 660554 jako srodki blasko¬ twórcze wprowadza sie amine z grupy amin alkile- nowych lub alkilowych zawierajacych 1—12 ato¬ mów wegla. W kapieli wedlug opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2 724 687 sto¬ suje sie zwiazki metaloorganiczne takich metali, jak miedz, nikiel, kadm i sole cynkowe kwasu wersenowego, kwasu nitrylotrójoctowego, antrani- lodwuoctowego, aminobarbiturowodwuoctowego i aminomalonowodwuoctowego.Dotychczas znane kapiele maja wspólna wade, polegajaca na tym, ze musza zawierac nadmiar cyjanku, co ze wzgledu na toksycznosc tego zwiaz- 10 15 20 ku utrudnia w duzym stopniu rozwój procesów nakladania tego rodzaju powlok, z drugiej zas stro¬ ny kapiele te pracuja przy bardzo niskiej gestosci pradu, rzedu 0,2 A/dm2, w temperaturze 40—60°C, przy czym powloki grubsze, rzedu 20—40 mikrome¬ trów, wymagaja dopolerowania. Dodatkowo jeszcze kapiele te daja powloki stosunkowo twarde o nie¬ wielkiej (plastycznosci oraz wykazuja w pewnych przypadkach piting, co dyskwalifikuje je w przy¬ padkach stosowania w urzadzeniach elektronowych.Celem wynalazku jest opracowanie kapieli o ta¬ kim skladzie, aby mozna bylo wytwarzac powloki stopowe bez potrzeby dodatkowego polerowania przy wysokiej intensyfikacji procesu, gestosci pra¬ du rzedu 1 A/dm2, bez koniecznosci podgrzewania kapieli, przy grubosci powloki rzedu kilkudziesie¬ ciu mikrometrów, mozliwie w szerokim zakresie pH, przy bezwzglednym wyeliminowaniu nadmia¬ ru cyjanku, przy czym dodatkowo powloki winny byc twarde i plastyczne i nie wykazywac pitimgu.Kapiel wedlug wynalazku stanowi cyjanek zloto- wo-potasowy o zawartosci zlota w przeliczeniu na czysty metal w ilosci do 10 g/l, cytrynian miedzio¬ wy o zawartosci miedzi w przeliczeniu na czysty metal w ilosci do 5 g/l, albo siarczan niklu o za¬ wartosci niklu w przeliczeniu na czysty metal w ilosci ekwimolarnej z EDTA, albo siarczan ko¬ baltu o zawartosci metalu w ilosci ekwimolarnej z EDTA, albo siarczan zelaza o zawartosci metalu w ilosci ponizej 3/4 w stosunku molowym do EDTA 64 990w S4 990 oraz co najmniej trzy skladniki z grupy zwiazków chelatujacych obejmujacych werseniany, aminosul- foniany i cytryniany, przy czym skladniki te wy¬ stepuja w ilosciach 50—100 g/l wersenianu, 10— 50 g/l cytrynianu, 10—50 g/l aminosulfonianu, a dla zwiekszenia plastycznosci i wyeliminowania pitingu dodatki w postaci 0,1—0,5 g/l imidu kwa¬ su o-sulfobenzoesowego i 0,1^0,2 g/l izopropylo- naftalenosulfonianu jako srodka £ówierzchniowo- czynnego.Kapiel wedlug wynalazku umozliwia otrzymywa¬ nie Wyfczcaacych powlok stopowych zlota bez ko¬ niecznosci dodatkowego polerowania, przy duzej gestosci pradowej rzedu 1 A/dm2, bez koniecznosci podgrzewania na skutek obecnosci w duzych ste¬ zeniach dobrze przewodzacych soli chelatujacych, które umozliwiaja równoczesnie wyeliminowanie wolnych cyjanków, poniewaz same wiaza w kom¬ pleksy jon metalu stopowego, dzieki czemu poten¬ cjaly redukcji tych metali sa zblizone do potencja¬ lu redukcji zlota. Poza tym powloki maja duza plastycznosc i nie wykazuja pitingu.Przyklad I. Przygotowano kapiel skladajaca sie z cyjanku rie^owo-potasowego o zawartosci zlo¬ ta w przeliczeniu na czysty metal — 7,5 g/l, cy¬ trynianu miedziowego o zawartosci miedzi w prze¬ liczeniu na czysty metal 2,5 g/l, wersenianu so¬ dowego w ilosci 100 g/l, aminosulfonianu sodowe¬ go w ilosci 25 g/l i cytrynianu sodowego w ilosci 25 g/l oraz 0,2 g/1 imidu kwas** o-sulfobenzoesowe¬ go i 0,1 g/l izopropylonatftalenosulfonianu.Kapiel ta przy pH = 4 — 10, przy gestosci pra¬ dowej 0,8 A/dm2 .pozwolila na uzyskanie powloki ze stopu zlotowo-miedziowego o grubosci 12 mikro¬ metrów w czasie 1 godziny.Przyklad H. Przygotowano kapiel skladajaca sie z cyjanku zlotowo-potasowego o zawartosci zlo¬ ta w przeliczeniu na czysty metal w ilosci 6 g/l, siarczanu niklu o zawartosci niklu w przeliczeniu na czysty metal w ilosci 15 g/l, wersenianu sodo¬ wego w ilosci 100 g/l, aminosulfonianu sodowego w ilosci .20 g/l i cytrynianu sodowego w ilosci 30 g/l oraz 0,2 g/l imidu kwasu o-sulfobenzoesowe¬ go i 0,1 g/l izopropylonaftalenosulfoniann.Kapiel ta przy pH = 3,5 — 4,0 i gestosci pradu 1 A/dm2 umozliwila uzyskanie powloki ze stopu zlotowo-niklowego o grubosci 12 mikrometrów w czasie 1 godziny.Przyklad III. Przygotowano Mapi*\ skladaja¬ ca sie z cyjanku zlotowopotasow^efjo O zawartosci zlota w przeliczeniu na czysty metal W ilosci 7 g/l, siarczanu kobaltu o zawartosci kobaltu w ilosci 5 15 g/l w przeliczeniu na czysty metal, wersenianu sodowego w ilosci 100 g/l, aminosulfonianu sodo¬ wego w ilosci 20 g/l i cytrynianu sodowego w ilo¬ sci 30 g/l oraz 0,2 g/l imidu kwasu o-MiHobenzoe- sowego i 0,1 g/l izopropylonaftalenosulfonianu. 10 Kapiel ta przy pH —4— 5 i gestosci pradu 1 A/dm2 umozliwila uzyskanie powloki ze stopu zlotowo-kobaltowego o grubosci 12 mikrometrów w czasie 1 godziny.Przyklad IV. Przygotowano kapiel skladajaca 15 sie z cyjanku zlotowo-potasowego o zawartosci zlo¬ ta w przeliczeniu na czysty metal w ilosci 7,t g/l, siarczanu zelaza o zawartosci zelaza w przelicze¬ niu na czysty metal w ilosci 10 g/l, wersenianu sodowego w ilosci 100 g/1, aminosulfonianu sodo- 20 wego w ilosci 20 g/l i cytrynianu sodowego w ilo¬ sci 30 g/l oraz 0,2 g/l imidu kwasu o-sulfobenzo¬ esowego i 04 g/l UopropylonaitaleiWiulfonianu.Kapiel ta przy pH = 4 — 5 i gestosci pradu 1 A/dm2 umozliwila uzyskanie powloki ze stopu 25 zlotowo-zelazowego o grubosci 12 mikrometrów w czasie I godziny. PL PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Kapiel do galwanicznego wytwarzania blyszcza- 30 cych i twardych powlok stopowych ze zlota, zwla¬ szcza z miedzia, niklem, kobaltem i zelazem, zna¬ mienna tym, ze zawiera cyjanek zlotowo-potasowy o zawartosci zlota w przeliczeniu na czysty metal w ilosci do 10 g/l, cytrynian miedziowy o zawar- 35 tosci miedzi w przeliczeniu na czysty metal w ilo¬ sci do 5 g/l, albo siarczan niklu o zawartosci niklu w przeliczeniu na czysty metal w ilosci ekwimo- larnej z BDTA, albo siarczan kobaltu o zawartosci metalu w ilosci ekwimolarnej z EDTA, albo siar- 40 czan zelaza o zawartosci metalu w ilosci ponizej a/4 w stosunku molowym do EOTA oraz co naj¬ mniej trzy skladniki z grupy zwiazków chelatuja¬ cych obejmujacych werseniany, aminosulfoniany, cytryniany, przy czym skladniki te wystepuja 45 w ilosciach 50—100 g/l wersenianu, 10—50 g/l cy¬ trynianu, 10—50 g/l aminosulfonianu oraz 0,1— 0,5 g/l imidu kwasu o-sulfobenzoesowego i 0,1— 0,2 g/l izopropylonaftalenosulfonianu. Typo Lódz, zam. 88/72 — 205 egz. Cena zl 10,— PL PL
PL130349A 1968-11-30 PL64990B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL64990B1 true PL64990B1 (pl) 1972-02-29

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100883131B1 (ko) 구리-주석 합금 도금용 피로인산욕
KR101502804B1 (ko) Pd 및 Pd-Ni 전해질 욕조
KR0171685B1 (ko) 팔라듐 2원 또는 3원 합금 도금 조성물, 이를 이용한 도금방법 및 도금체
US2910413A (en) Brighteners for electroplating baths
US4229268A (en) Acid zinc plating baths and methods for electrodepositing bright zinc deposits
US4144141A (en) Ammonia free palladium deposition using aminoacetic acid
US3149058A (en) Bright gold plating process
JPS6214232B2 (pl)
US3317412A (en) Method for obtaining a bright zinc coating by electrodeposition and the bath used therefor
JPS62109991A (ja) 電気めつき液
WO2009139384A1 (ja) 銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法
US3770596A (en) Gold plating bath for barrel plating operations
US4048023A (en) Electrodeposition of gold-palladium alloys
JPS6141999B2 (pl)
PL64990B1 (pl)
US2862861A (en) Copper cyanide plating process and solution therefor
US3506548A (en) Electrodeposition of nickel
US4101388A (en) Prevention of anode bag clogging in nickel iron plating
US3088884A (en) Electrodeposition
US3186926A (en) Electroplating solution containing a diester of selenious acid
GB2039299A (en) Brightening and levelling agent for acid zinc plating baths
US4253920A (en) Composition and method for gold plating
US2834725A (en) Cobalt-nickel electroplating solution
US4615774A (en) Gold alloy plating bath and process
HK74389A (en) Bath for the galvanic deposition of gold alloys