PL64990B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL64990B1 PL64990B1 PL130349A PL13034968A PL64990B1 PL 64990 B1 PL64990 B1 PL 64990B1 PL 130349 A PL130349 A PL 130349A PL 13034968 A PL13034968 A PL 13034968A PL 64990 B1 PL64990 B1 PL 64990B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- content
- gold
- amount
- nickel
- bath
- Prior art date
Links
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 30.Y.1972 64990 KI. 48a,5/28 MKP C23b 5/28 UKD Wspóltwórcy wynalazku: Jan Socha, Tadeusz Zak Wlasciciel patentu: Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa (Polska) Kapiel do galwanicznego wytwarzania blyszczacych i twardych powlok stopowych ze zlota, zwlaszcza z miedzia, niklem, kobaltem i zelazem Przedmiotem wynalazku jest kapiel do galwa¬ nicznego wytwarzania blyszczacych i twardych po¬ wlok stopowych ze zlota, zwlaszcza z miedzia, ni¬ klem, kobaltem i zelazem.Obserwuje sie w technice coraz wieksza daznosc do nakladania elektrolitycznych powlok stopowych, ze zlota ze wzgledów ekonomicznych oraz ze wzgle¬ du na polepszenie wlasnosci mechanicznych po¬ wloki.Znane kapiele do tego celu nie pozwalaja jed¬ nak na uzyskiwanie powlok blyszczacych, co zmu¬ sza do wprowadzania dodatkowej operacji polero¬ wania, bardzo pracochlonnej i klopotliwej, zwla¬ szcza przy drobnych przedmiotach. Dla wyelimi¬ nowania chocby czesciowego operacji stosuje sie rózne dodatki blaskotwórcze.W znanej kapieli z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych nr '2 660554 jako srodki blasko¬ twórcze wprowadza sie amine z grupy amin alkile- nowych lub alkilowych zawierajacych 1—12 ato¬ mów wegla. W kapieli wedlug opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 2 724 687 sto¬ suje sie zwiazki metaloorganiczne takich metali, jak miedz, nikiel, kadm i sole cynkowe kwasu wersenowego, kwasu nitrylotrójoctowego, antrani- lodwuoctowego, aminobarbiturowodwuoctowego i aminomalonowodwuoctowego.Dotychczas znane kapiele maja wspólna wade, polegajaca na tym, ze musza zawierac nadmiar cyjanku, co ze wzgledu na toksycznosc tego zwiaz- 10 15 20 ku utrudnia w duzym stopniu rozwój procesów nakladania tego rodzaju powlok, z drugiej zas stro¬ ny kapiele te pracuja przy bardzo niskiej gestosci pradu, rzedu 0,2 A/dm2, w temperaturze 40—60°C, przy czym powloki grubsze, rzedu 20—40 mikrome¬ trów, wymagaja dopolerowania. Dodatkowo jeszcze kapiele te daja powloki stosunkowo twarde o nie¬ wielkiej (plastycznosci oraz wykazuja w pewnych przypadkach piting, co dyskwalifikuje je w przy¬ padkach stosowania w urzadzeniach elektronowych.Celem wynalazku jest opracowanie kapieli o ta¬ kim skladzie, aby mozna bylo wytwarzac powloki stopowe bez potrzeby dodatkowego polerowania przy wysokiej intensyfikacji procesu, gestosci pra¬ du rzedu 1 A/dm2, bez koniecznosci podgrzewania kapieli, przy grubosci powloki rzedu kilkudziesie¬ ciu mikrometrów, mozliwie w szerokim zakresie pH, przy bezwzglednym wyeliminowaniu nadmia¬ ru cyjanku, przy czym dodatkowo powloki winny byc twarde i plastyczne i nie wykazywac pitimgu.Kapiel wedlug wynalazku stanowi cyjanek zloto- wo-potasowy o zawartosci zlota w przeliczeniu na czysty metal w ilosci do 10 g/l, cytrynian miedzio¬ wy o zawartosci miedzi w przeliczeniu na czysty metal w ilosci do 5 g/l, albo siarczan niklu o za¬ wartosci niklu w przeliczeniu na czysty metal w ilosci ekwimolarnej z EDTA, albo siarczan ko¬ baltu o zawartosci metalu w ilosci ekwimolarnej z EDTA, albo siarczan zelaza o zawartosci metalu w ilosci ponizej 3/4 w stosunku molowym do EDTA 64 990w S4 990 oraz co najmniej trzy skladniki z grupy zwiazków chelatujacych obejmujacych werseniany, aminosul- foniany i cytryniany, przy czym skladniki te wy¬ stepuja w ilosciach 50—100 g/l wersenianu, 10— 50 g/l cytrynianu, 10—50 g/l aminosulfonianu, a dla zwiekszenia plastycznosci i wyeliminowania pitingu dodatki w postaci 0,1—0,5 g/l imidu kwa¬ su o-sulfobenzoesowego i 0,1^0,2 g/l izopropylo- naftalenosulfonianu jako srodka £ówierzchniowo- czynnego.Kapiel wedlug wynalazku umozliwia otrzymywa¬ nie Wyfczcaacych powlok stopowych zlota bez ko¬ niecznosci dodatkowego polerowania, przy duzej gestosci pradowej rzedu 1 A/dm2, bez koniecznosci podgrzewania na skutek obecnosci w duzych ste¬ zeniach dobrze przewodzacych soli chelatujacych, które umozliwiaja równoczesnie wyeliminowanie wolnych cyjanków, poniewaz same wiaza w kom¬ pleksy jon metalu stopowego, dzieki czemu poten¬ cjaly redukcji tych metali sa zblizone do potencja¬ lu redukcji zlota. Poza tym powloki maja duza plastycznosc i nie wykazuja pitingu.Przyklad I. Przygotowano kapiel skladajaca sie z cyjanku rie^owo-potasowego o zawartosci zlo¬ ta w przeliczeniu na czysty metal — 7,5 g/l, cy¬ trynianu miedziowego o zawartosci miedzi w prze¬ liczeniu na czysty metal 2,5 g/l, wersenianu so¬ dowego w ilosci 100 g/l, aminosulfonianu sodowe¬ go w ilosci 25 g/l i cytrynianu sodowego w ilosci 25 g/l oraz 0,2 g/1 imidu kwas** o-sulfobenzoesowe¬ go i 0,1 g/l izopropylonatftalenosulfonianu.Kapiel ta przy pH = 4 — 10, przy gestosci pra¬ dowej 0,8 A/dm2 .pozwolila na uzyskanie powloki ze stopu zlotowo-miedziowego o grubosci 12 mikro¬ metrów w czasie 1 godziny.Przyklad H. Przygotowano kapiel skladajaca sie z cyjanku zlotowo-potasowego o zawartosci zlo¬ ta w przeliczeniu na czysty metal w ilosci 6 g/l, siarczanu niklu o zawartosci niklu w przeliczeniu na czysty metal w ilosci 15 g/l, wersenianu sodo¬ wego w ilosci 100 g/l, aminosulfonianu sodowego w ilosci .20 g/l i cytrynianu sodowego w ilosci 30 g/l oraz 0,2 g/l imidu kwasu o-sulfobenzoesowe¬ go i 0,1 g/l izopropylonaftalenosulfoniann.Kapiel ta przy pH = 3,5 — 4,0 i gestosci pradu 1 A/dm2 umozliwila uzyskanie powloki ze stopu zlotowo-niklowego o grubosci 12 mikrometrów w czasie 1 godziny.Przyklad III. Przygotowano Mapi*\ skladaja¬ ca sie z cyjanku zlotowopotasow^efjo O zawartosci zlota w przeliczeniu na czysty metal W ilosci 7 g/l, siarczanu kobaltu o zawartosci kobaltu w ilosci 5 15 g/l w przeliczeniu na czysty metal, wersenianu sodowego w ilosci 100 g/l, aminosulfonianu sodo¬ wego w ilosci 20 g/l i cytrynianu sodowego w ilo¬ sci 30 g/l oraz 0,2 g/l imidu kwasu o-MiHobenzoe- sowego i 0,1 g/l izopropylonaftalenosulfonianu. 10 Kapiel ta przy pH —4— 5 i gestosci pradu 1 A/dm2 umozliwila uzyskanie powloki ze stopu zlotowo-kobaltowego o grubosci 12 mikrometrów w czasie 1 godziny.Przyklad IV. Przygotowano kapiel skladajaca 15 sie z cyjanku zlotowo-potasowego o zawartosci zlo¬ ta w przeliczeniu na czysty metal w ilosci 7,t g/l, siarczanu zelaza o zawartosci zelaza w przelicze¬ niu na czysty metal w ilosci 10 g/l, wersenianu sodowego w ilosci 100 g/1, aminosulfonianu sodo- 20 wego w ilosci 20 g/l i cytrynianu sodowego w ilo¬ sci 30 g/l oraz 0,2 g/l imidu kwasu o-sulfobenzo¬ esowego i 04 g/l UopropylonaitaleiWiulfonianu.Kapiel ta przy pH = 4 — 5 i gestosci pradu 1 A/dm2 umozliwila uzyskanie powloki ze stopu 25 zlotowo-zelazowego o grubosci 12 mikrometrów w czasie I godziny. PL PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Kapiel do galwanicznego wytwarzania blyszcza- 30 cych i twardych powlok stopowych ze zlota, zwla¬ szcza z miedzia, niklem, kobaltem i zelazem, zna¬ mienna tym, ze zawiera cyjanek zlotowo-potasowy o zawartosci zlota w przeliczeniu na czysty metal w ilosci do 10 g/l, cytrynian miedziowy o zawar- 35 tosci miedzi w przeliczeniu na czysty metal w ilo¬ sci do 5 g/l, albo siarczan niklu o zawartosci niklu w przeliczeniu na czysty metal w ilosci ekwimo- larnej z BDTA, albo siarczan kobaltu o zawartosci metalu w ilosci ekwimolarnej z EDTA, albo siar- 40 czan zelaza o zawartosci metalu w ilosci ponizej a/4 w stosunku molowym do EOTA oraz co naj¬ mniej trzy skladniki z grupy zwiazków chelatuja¬ cych obejmujacych werseniany, aminosulfoniany, cytryniany, przy czym skladniki te wystepuja 45 w ilosciach 50—100 g/l wersenianu, 10—50 g/l cy¬ trynianu, 10—50 g/l aminosulfonianu oraz 0,1— 0,5 g/l imidu kwasu o-sulfobenzoesowego i 0,1— 0,2 g/l izopropylonaftalenosulfonianu. Typo Lódz, zam. 88/72 — 205 egz. Cena zl 10,— PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL64990B1 true PL64990B1 (pl) | 1972-02-29 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100883131B1 (ko) | 구리-주석 합금 도금용 피로인산욕 | |
| KR101502804B1 (ko) | Pd 및 Pd-Ni 전해질 욕조 | |
| KR0171685B1 (ko) | 팔라듐 2원 또는 3원 합금 도금 조성물, 이를 이용한 도금방법 및 도금체 | |
| US2910413A (en) | Brighteners for electroplating baths | |
| US4229268A (en) | Acid zinc plating baths and methods for electrodepositing bright zinc deposits | |
| US4144141A (en) | Ammonia free palladium deposition using aminoacetic acid | |
| US3149058A (en) | Bright gold plating process | |
| JPS6214232B2 (pl) | ||
| US3317412A (en) | Method for obtaining a bright zinc coating by electrodeposition and the bath used therefor | |
| JPS62109991A (ja) | 電気めつき液 | |
| WO2009139384A1 (ja) | 銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法 | |
| US3770596A (en) | Gold plating bath for barrel plating operations | |
| US4048023A (en) | Electrodeposition of gold-palladium alloys | |
| JPS6141999B2 (pl) | ||
| PL64990B1 (pl) | ||
| US2862861A (en) | Copper cyanide plating process and solution therefor | |
| US3506548A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US4101388A (en) | Prevention of anode bag clogging in nickel iron plating | |
| US3088884A (en) | Electrodeposition | |
| US3186926A (en) | Electroplating solution containing a diester of selenious acid | |
| GB2039299A (en) | Brightening and levelling agent for acid zinc plating baths | |
| US4253920A (en) | Composition and method for gold plating | |
| US2834725A (en) | Cobalt-nickel electroplating solution | |
| US4615774A (en) | Gold alloy plating bath and process | |
| HK74389A (en) | Bath for the galvanic deposition of gold alloys |