PL63261B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL63261B1
PL63261B1 PL115294A PL11529466A PL63261B1 PL 63261 B1 PL63261 B1 PL 63261B1 PL 115294 A PL115294 A PL 115294A PL 11529466 A PL11529466 A PL 11529466A PL 63261 B1 PL63261 B1 PL 63261B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
chamber
hole
holes
reaction
reactor
Prior art date
Application number
PL115294A
Other languages
English (en)
Inventor
Minc Stefan
Szymanski Andrzej
Koldon Marian
Original Assignee
Uniwersytet Warszawski
Filing date
Publication date
Application filed by Uniwersytet Warszawski filed Critical Uniwersytet Warszawski
Publication of PL63261B1 publication Critical patent/PL63261B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: Opublikowano: 21.VI.1966 (P 115 294) 20- YIII.1971 63261 KI. 12 g, 1/01 MKP B 01 j, 1/00 UKD Wspóltwórcy wynalazku: Stefan Minc, Andrzej Szymanski, Marian Koldon Wlasciciel patentu: Uniwersytet Warszawski, Warszawa (Polska) Chemiczny reaktor plazmowy Przedmiotem wynalazku jest chemiczny reaktor plaz¬ mowy do prowadzenia procesów chemicznych w stru¬ mieniu plazmy.Znany reaktor do prowadzenia reakcji chemicznych w strumieniu plazmy stanowi komore, do której czyn¬ nik reakcyjny doprowadzany byl w strumieniu plazmy przez szereg otworów umieszczonych promieniowo. Nie daje to nalezytego wymieszania czynnika reakcyjnego z doprowadzonym do komory gazem nosnym, wskutek czego ilosc niezmieszanego a wiec i nieprzereagowane- go czynnika w gazach odlotowych byla stosunkowo duza.Odprowadzenie ciepla z dyszy oraz z komory odby¬ walo sie przez chlodzenie wodne, przy czym odebrane w ten sposób cieplo bylo odprowadzane wraz z ogrzana woda, a wiec w calosci tracone. Dysza i komora stano¬ wily jedna calosc, co stanowilo duze utrudnienie, zwla¬ szcza przy pracach eksperymentalnych, które wymagaja szeregu zestawów róznych dysz i komór. Stwierdzono, ze lodpowiednie usytuowanie wzgledem siebie wlotów gazu reakcyjnego i gazu nosnego zapewni dobre wymie¬ szanie tych mediów, a tym samym wysoka wydajnosc reakcji.Reaktor wedlug wynalazku (przedstawiony jest sche¬ matycznie na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przeikrój podluzny reaktora, fig. 2 przekrój plaszczyzny przez wlot gazu nosnego, fig. 3 i 4 przekrój plaszczyzny z uwidocznieniem usytuowania otworów wprowadzaja¬ cych czynnik reakcyjny.Reaktor plazmowy sklada sie z korpusu 1 zamkniete- 10 15 20 25 30 go pokrywa izolacyjna 3 z osadzona w niej katoda pal¬ nika plazmowego 2. Wewnatrz korpusu znajduje sie dy¬ sza 4 i komora 15. Miedzy obudowa 5 komory 15 a walcowa ksztaltka 6 utworzony jest kanal spiralny 7.W górnej czesci korpusu znajduje sie otwór 10, a w dyszy 4 nawiercone sa otwory 8. W dolnej czesci kor¬ pusu znajduje sie otwór 9, który nawiercony jest pod katem do promienia korpusu reaktora. W korpusie re¬ aktora umieszczone sa równiez otwory 11, 12, 13 i 14 do wpnowadzania i odprowadzania wody chlodzacej ksztaltke 6 i dysze 4. Kierunek nawiercenia otworów 8 jest zgodny lub przeciwny z kierunkiem nawiercenia otworu 9.Dzialanie reaktora jest nastepujace: poprzez otwór 9 wprowadzamy jest gaz nosny, który w dyszy 4 ulega na¬ grzaniu i zjonizowaniu, a nastepnie przechodzi do ko¬ mory reakcyjnej 15. Czynnik reakcyjny doprowadza sie do otworu 10, poprzez 'kanal spiralny 7 do otworów*8.W komorze 15 nastepuje w strumieniu pHazmy reakcja.Dzieki zawirowaniu, czas przebywania czynnika reak¬ cyjnego w miejscu jego wejscia do komory jest dluzszy niz przy wejsciu promieniowym, wskutek czego zacho¬ dzi lepsze wymieszanie obu czynników, a wiec uzyskuje sie zmniejszenie ilosci czynnika nieprzereagowanego w gazach odlotowych.Kierunek zawirowania czynnika reakcyjnego moze byc zgodny lub odwrotny do kierunku wirowania gazu nosnego przy zachowaniu okreslonej proporcji iloscio¬ wej obu czynników. Prowadzenie czynnika reakcyjnego kanalem spiralnym wzdluz tworzacych komory reakcyj- 6326163261 nej zajpewniia chlodzenie komory ipnzy równoczesnym ogrzaniu tego czynnika, co wplywa na zwiekszenie efek¬ tywnosci procesu. PL PL

Claims (4)

1. Zastrzezenie patentowe Chemiczny reaktor plazmowy znamienny tym, ze sta¬ nowi go korpus (1) posiadajacy komore (15), której obudowa (5) oddzielona jest kanalem spiralnym (7) od walcowej ksztaltki (6), palnik plazmowy (2) oraz dysze (4) z otworem (8), przy czym w dolnej czesci korpusu (1) znajduje sie otwór (9) dopcrowaidzajaicy gaz nosny, nawiercony pod katem (1) nawiercone sa otwory (11), (12), (13) i (14) dla wlo¬ tu i wylotu wody chlodzacej, zas kierunek nawiercenia otworów (8) jest zgodny lub przeciwny z kierunkiem nawiercenia otworu (9). Fig.
2. Fiq.
3. Fig.
4. WDA-l. Zam. 930, naklad 250 egz. PL PL
PL115294A 1966-06-21 PL63261B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL63261B1 true PL63261B1 (pl) 1971-06-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100397268B1 (ko) 슬러지상반응기및그사용방법
RU2267239C2 (ru) Устройство сдвоенной плазменной горелки
US6756566B2 (en) Convection heating system for vacuum furnaces
US20110305604A1 (en) Reactor for producing polycrystalline silicon using the monosilane process
KR960701691A (ko) 유동상 반응기내의 고체물질을 순환시키는 방법 및 장치(method and apparatus for circulating solid materian in a fluidized bed reactor)
CN108613201B (zh) 具有阻隔壁的等离子洗涤装置
US3445191A (en) Arc heater apparatus for chemical processing
KR960701690A (ko) 유동상 반응기내의 고체물질을 순환시키는 방법 및 장치(method and apparatus for circulating solid materian in a fludized bed reactor)
PL63261B1 (pl)
US3375392A (en) Plasma generator utilizing a ribbonshaped stream of gas
KR100934716B1 (ko) 반응장치 및 반응방법
WO2010134760A2 (ko) 멀티 플라즈마를 이용한 열원 집중 장치, 폐기물 처리 장치 및 방법
CN104363690B (zh) 一种双级喷管结构的等离子体喷枪
US3723290A (en) High temperature chemical reaction apparatus
US2923811A (en) Singlephase or polyphase electric arc device for producing gas currents having a high energy density
KR102481030B1 (ko) 색도 저감 저온 플라즈마 발생기를 이용한 연속식 수처리 반응 장치
AU606084B2 (en) Device for the heat exchange between a recycle gas leaving an nh3 converter and water
JP2004508682A (ja) プラズマ助長ガス反応装置
KR101006914B1 (ko) 촉매식 오존분해장치
CN114040993B (zh) 原子层沉积设备
KR102566577B1 (ko) 글라이딩 아크 플라즈마트론을 이용한 플라즈마 활성수 제조장치
KR101177283B1 (ko) 화학기상증착 공정의 폐가스 처리를 위한 플라즈마 토치
FI75968C (fi) Plasmaprocessenhet med cellstruktur.
JP7432214B2 (ja) 尿素製造装置及び尿素製造方法
RU2052908C1 (ru) Плазмохимический реактор