PL60148B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL60148B1 PL60148B1 PL118230A PL11823066A PL60148B1 PL 60148 B1 PL60148 B1 PL 60148B1 PL 118230 A PL118230 A PL 118230A PL 11823066 A PL11823066 A PL 11823066A PL 60148 B1 PL60148 B1 PL 60148B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- tantalum
- capacitors
- alloy
- electrode
- voltage
- Prior art date
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 19
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 20
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 16
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 10
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 5
- JZLMRQMUNCKZTP-UHFFFAOYSA-N molybdenum tantalum Chemical compound [Mo].[Ta] JZLMRQMUNCKZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- SPAGIJMPHSUYSE-UHFFFAOYSA-N Magnesium peroxide Chemical compound [Mg+2].[O-][O-] SPAGIJMPHSUYSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 30.VM970 60148 KI. 21 g, 10/03 MKP H 01 g 13/00 CZYTELNIA hhkiit lzicw< Wspóltwórcy wynalazku: Norman Nathan Axelrod, Herbert David Gu- berman, Newton Sehwartz, Benjamin Herbert Vromen Wlasciciel patentu: Western Electric Company Incorporated, Nowy Jork (Stany Zjednoczone Ameryki) Sposób wytwarzania kondensatorów cienkowarstwowych Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia kondensatora cienkowarstwowego, który skla¬ da sie z elektrody wykonanej ze stopu tantalu, dielektryka wykonanego w postaci warstwy tlen¬ ku stopu tantalu oraz elektrycznie przewodzacej przeciwelektrody.W ostatnich latach przemysl elektroniczny za¬ czal coraz bardziej przejawiac zainteresowanie rodzajem kondensatorów zwanych powszechnie „kondensatorami drukowanymi". Kondensatory te sa otrzymywane zazwyczaj przez nalozenie cien¬ kiej warstwy metalu na podlozu, anodyzacje na¬ lozonej warstwy w celu uzyskania cienkiej war¬ stwy tlenku i wreszcie przez nalozenie elektrody przeciwleglej, majacej bezposredni styk z anody- zowana warstwa. Kondensator powstaly w wy¬ niku tego procesu jest z natury rzeczy spolaryzo¬ wany i stanowi pierwszy przyrzad, w którym zostala wyeliminowana warstwa pólprzewodni¬ kowa z dwutlenku magnezu, która byla wymaga¬ na w stalych kondensatorach elektrolitycznych dotychczas produkowanych.Dotychczas sadzono, iz spolaryzowany konden¬ sator drukowany z elekroda w postaci cienkiej anodyzowanej warstwy metalu jest ostatecznym celem w rozwoju kondensatorów cienkowarstwo¬ wych.Jakkolwiek ten typ kondensatorów nadaje sie wybitnie do zastosowania w obwodach druko¬ wanych, to ze wzgledu na ich znaczenie dla tych obwodów podjeto szereg prac, majacych na celu ich ulepszenie. Prace badawcze prowadzone w tym kierunku mialy na celu znalezienie techniki, dzie¬ ki której mozna byloby zwiekszyc napiecie prze¬ bicia w kierunku przewodzenia i wstecznym jak równiez zmniejszyc róznice pomiedzy tymi dwo¬ ma wartosciami napiecia przebicia.Zgodnie z wynalazkiem ograniczenia pierwsze¬ go rodzaju zostaly przezwyciezone i obecnie zosta¬ nie opisany sposób wytwarzania zasadniczo nie- spolaryzowanego kondensatora z elektroda w po¬ staci cienkiej anodyzowanej warstwy metalu w naj- korzystniejszym uksztaltowaniu.Sposób bedacy przedmiotem wynalazku pocia¬ ga za soba modyfikacje konwencjonalnego sposo¬ bu, stosowanego przy produkcji drukowanych kondensatorów tantalowych przez zastosowanie anody, skladajacej sie ze stopu tantalu z co najm¬ niej jednym z metali wybranych z pierwiastków 20 grupy, Kto), II(b), III(a), IV(b), V(b), VI(b) fl VIII, okresowego ukladu pierwiastków.Kondensator otrzymany sposobem wedlug wy¬ nalazku jest kondensatorem niespolaryzowanym wykazujacym wyzsze napiecie przebicia katodo¬ wego, wieksza poczatkowa wydajnosc oraz lepsze wyniki badan trwalosci, anizeli którykolwiek z do¬ tychczas otrzymywanych konwencjonalnych rodza¬ jów kondensatorów tantalowych. Brak polaryzacji, stanowiacy ceche niektórych z tych kondensato- u rów predestynuje je do uzycia w obwodach, w 15 25 601483 których wystepuja zmiany polaryzacji, jak w ob¬ wodach pradu zmiennego i umozliwia ich dzia¬ lanie w dowolnym kierunku w zakresie napiec do 30 woltów.Obecnie zostanie objasniona istota wynalazku w powolaniu sie na rysunek, na którym fig. 1 przedstawia przekrój podloza wraz z nalozona na nia warstwa stopu tantalu, fig. 2 — widok z góry podloza pokazanego na fig. 1 po naniesieniu war¬ stwy fotoczulej i po wytrawieniu w celu uzyska¬ nia zadanego wzoru, fig. 3 — widok z góry ele¬ mentu pokazanego na fig. 2 po jego anodyzacji, fig. 4 — widok z góry elementu pokazanego na fig. 3 po nalozeniu na niego przeciwelektrody, fig. 5 — przekrój elementu pokazanego na fig. 4 oraz fig. 6 przedstawia w sposób graficzny za¬ leznosc napiecia przebicia wyrazonego w woltach w. zaleznosci od skladu stopu wyrazonego w pro¬ centowym udziale atomów, ukazujac zmiany na¬ piec przebicia na przykladzie kondensatorów o- trzymanych wedlug wynalazku.Na fig. 1 przedstawione jest podloze 11, na któ¬ rym ma byc wykonany uklad polaczen drukowa¬ nych. Sposób bedacy przedmiotem wynalazku, pozwala na uzycie takiego materialu podloza, który znosi temperatury, których to dzialaniu mo¬ ze byc poddany podczas procesu nakladania.Szczególnie odpowiednie sa w tym celu szkla oraz ceramika szklana.Pierwszy etap sposobu bedacego przedmiotem wynalazku, obejmuje czyszczenie podloza znanymi sposobami konwencjonalnymi. Po oczyszczeniu podloza naklada sie na nie metoda konwencjo¬ nalna warstwy stopu tantalu 12. Warstwy te mo¬ zna naniesc na przyklad przez rozpylanie kato¬ dowe, naparowanie w prózni lub powlekanie gal¬ waniczne. Operacje te mozna wykonac poslugujac sie katoda tantalowa, owinieta dookola paskami metalu, z którym chcemy uzyskac stop, wzgled¬ nie stosujac katode, wykonana ze stopu.Stwierdzono, ze metale nadajace sie do stoso¬ wania w niniejszym wynalazku moga byc wy¬ brane z pierwiastków metalicznych wchodzacych w sklad grup: I(b), II(b), III(a), IV(b), V(b), VI(b) oraz VIII okresowego ukladu pierwiastków. Na¬ stepnie zostalo ustalone, ze w celu uzyskania za¬ danych charakterystyk kondensatora zblizonych do przytoczonych w stopie musi wystepowac pier¬ wiastek metaliczny w ilosci zawierajacej sie od 0,01 do 20,0 procentowego udzialu atomów tego 50 pierwiastka w stopie w najkorzystniejszym za¬ kresie od 0,1 do 20 procent. Podane ograniczenia podyktowane sa wzgledami praktycznymi, a glów¬ nym punktem wyjscia byl stopien poprawienia charakterystyk. 55 Stwierdzono, ze uzycie mniejszej ilosci anizeli podane minimum uniemozliwia uzyskanie lep¬ szych charakterystyk roboczych, anizeli w przy¬ padku kondensatorów tantalowTych.Z drugiej zas strony przekroczenie podanych 60 wartosci maksymalnych spowoduje wyrazne po¬ gorszenie wlasnosci kondensatora. Utrzymanie wartosci w zaleconym zakresie powoduje, ze o- trzymany uklad jest niespolaryzowany oraz po¬ siada lepsze charakterystyki przebicia. 65 148 4 W sposobie wedlug wynalazku minimalna gru¬ bosc warstwy nalozonej na podloze zalezna jest od dwóch czynników. Pierwszym z nich jest gru¬ bosc tej warstewki metalu, która zamieniona zo- 5 staje na tlenek podczas procesu anodyzacji, dru¬ gim zas czynnikiem jest minimalna grubosc war¬ stewki nieutlenionego metalu pozostala po ano¬ dyzacji proporcjonalna do maksymalnej opornosci, która jest dopuszczalna w elektrodzie ze stopu 10 tantalu.Jak to juz zostalo wspomniane, korzystne jest gdy minimalna grubosc elektrody ze stopu tan- talowego wynosi w przyblizeniu 2000 Angstremów.Nie ma natomiast ograniczenia maksymalnej gru- 15 bosci elektrody.Dla napiecia anodyzujacego do 130V stwierdzo¬ no, ze najkorzystniejsza grubosc powloki wynosi co najmniej 4000 Angstremów. Uwaza sie, ze z tych 4000 Angstremów utlenia sie maksymalnie okolo 20 1000 Angstremów podczas procesu anodyzacji przez co grubosc elektrody pozostaje okolo 3000 Ang¬ stremów.Po przeprowadzeniu operacji powlekania formuje sie zadany uklad polaczen drukowanych na po- 25 wlóce 12, usuwajac calkowicie niektóre jej partie i poslugujac sie przy tym na przyklad kazda zna¬ na metoda fototrawienia.Na fig. 2 przedstawiony jest widok z góry na podloze 11 wraz z wzorem otrzymanym po usu- 30 nieciu czesci powloki 12.Po dokonaniu operacji fototrawienia, powloka 12 ze stopu poddana zostaje anodyzacji w odpo¬ wiednim elektrolicie, przez co uzyskuje sie cien¬ ka warstwe tlenków 13, jak to pokazane zostalo 35 na fig. 3. Odpowiednimi w tym celu elektrolitami sa na przyklad kwas fosforowy lub kwas cytry¬ nowy.Ostatnim etapem sposobu wedlug wynalazku jest nalozenie przeciwelektrody 14, pokazanej na 40 fig. 4, która powinna sie stykac z warstewka tlen¬ ków 13.W sposobie wedlug wynalazku mozna stosowac kazda odpowiednia metode nakladania powloki przewodzacej na powierzchnie tlenkowa, jak na przyklad naparowanie prózniowe.Przekrój poprzeczny gotowego kondensatora przedstawiony jest na fig. 5.Celem lepszego zrozumienia istoty wyzej omó¬ wionego sposobu zostanie obecnie podanych kil¬ ka przykladów rozwiazania niniejszego wynalaz¬ ku.Przyklad I. Plytka szklana o szerokosci 2,54 cm i o dlugosci 7,62 cm zostala oczyszczona znanym sposobem ultradzwiekowym. Nastepnie na oczyszczone podloze zostala nalozona warstewka tantal-molibden za pomoca napylenia. Uzyta do tego celu katode stanowil kawalek odpowiedniego do wyrobu kondensatorów tantalu o wymiarach 15,24 X 15,24 Xl,21 cm, oraz skretka molibdenowa o srednicy wynoszacej 0,013 cm nawinieta na wy¬ zej opisanej katodzie.Napylanie nastepowalo z obydwóch kranców katody przy napieciu 4000V i natezeniu 50 mili- amperów w atmosferze argonu przy cisnieniu 30 mikronów, przez 60 minut pozwalajac na uzyska-« 5 60148 nie w ten sposób warstwy stopu, o grubosci 4000 Angstremów. Otrzymana powloka zawierala 0,19% udzialu atomów molibdenu.Nastepnie ustalono uklad polaczen drukowa¬ nych kondensatora za pomoca normalnego foto- trawienia, po czym kondensator zostal poddany operacji anodyzowania w wodnym roztworze kwa¬ su cytrynowego o stezeniu 0,01% przy stalej ge¬ stosci pradu wynoszacej jeden miliamper/cm2, do¬ póki napiecie nie osiagnelo 130V, a nastepnie ano- dyzacja przebiegala przy zachowaniu stalego na¬ piecia. W trzydziesci minut po uzyskaniu stalego napiecia kondensator zostal wyjety z roztworu anodyzujacego i wytrawiony w roztworze o ste¬ zeniu 0,01 procent wagowo chlorku glinowego w czystym metanolu, przy czym przez piec sekund byl trawiony z przylozonym do stopu dodatnim na¬ pieciem wynoszacym 90V. Z kolei plytka zostala wyplukana w alkoholu i w wodzie, po czym po¬ nownie anodyzowana w kwasie cytrynowym przy napieciu 130V przez 30 minut. Po zakonczeniu procesu anodyzacji plytka zostala wyplukana w wodzie destylowanej, a nastepnie wysuszona.Nastepnie zostaly naparowane zlote przeciwele- ktrody przy uzyciu konwencjonalnych metod, konczac w ten sposób proces produkcji konden¬ satora.W celu okreslenia napiecia przebicia posluzono sie technika pomiarowa rozrózniajaca prad lado¬ wania od pradu uplywu. Dla uzyskania stalego poziomu pradu ladowania wzrost napiecia byl u- trzymywany w stalej wysokosci wynoszacej ±1 wolt/sek., wystepowanie zas przebicia stwierdzo¬ no przy dwukrotnej wartosci pradu ladowania.Wartosc napiecia przebicia anodowego wynosila 85V, zas wartosc napiecia przebicia katodowego wynosila 60V.W celach porównawczych proces ten zostal powtórzony z kilkoma róznymi pierwiastkami wchodzacymi w sklad stopu z tantalem, jak rów¬ niez i bez nich. Wyniki tych przykladów zostaly ujete dla zwiezlosci! w formie ponizszej tabeli 1: Tabela I Nr przykladu 1 1 2 3 4 5 6 7 8 1 9 10 11 1 12 Pierwiastek wchodzacy w sklad stopu 2 Mo Mo Mo Mo Mo Mo Mo Mo Mo Mo Mo Procentowy udzial atomów pierwiastka w stopie 3 0,19 0,38 0,76 1,14 1,52 1,90 2,28 2,96 3,04 6,9 21 Ilosc skretek 4 1 1 2 3 4 5 6 7 8 2 6 0 Srednica [cm] 5 0,013 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0,381 0,381 Napiecie przebi¬ cia anodowego [V] 6 85 78 83 72 68 86 79 ri2 70 61 54 85 Napiecie przebi¬ cia katodowego [V] 7 60 60 70 64 62 66 64 57 53 49 44 5 _lA 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 1 37 1 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 2 1 Fe Fe Fe Fe Fe Fe Fe Fe Ee Fe Ni Ni Ni Ni Cu Cu Cu Cu Al Al Al Al W W W W Ti Ti Ti Ti V V V V — — — — — 3 0,05 0,11 0,16 0,21 0,26 0,37 0,42 0,47 0,52 1,26 ¦ — — — — — — — — * 1 1 2 3 i 4 5 7 8 9 10 23 1 2 4 8 1 2 4 8 1 2 3 6 2 4 8 16 2 4 6 8 2 4 8 16 0 0 0 0 0 5 | 0,023 0,023 0,023 0,023 0,023 0,023 0,023 0,023 0,023 0,023 0,051 0,051 0,051 0,051 0,051 0,051 0,051 0,051 0,U76 0,076 0,076 0,076 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0,025 0.025 0,025 0,025 0,025 — — — — — 6 94 85 90 86 82 81 79 80 81 . 96 70 68 71 69 79 80 78 80 96 87 82 85 94 86 78 75 75 86 100 97 98 65 63 101 95 87 98 90 91 7 1 51 62 51 66 66 66 63 70 65 61 33 38 46 49 50 ' 47 51 49 23 23 39 39 38 45 34 I tt 1 18 21 34 51 66 45 I 41 68 11 14 12 [ 14 1 7 Analiza wyników podanych w tabeli I wyraznie wskazuje, ze opisany przyrzad wykazuje znacz¬ nie wyzsze wartosci napiecia przebicia katodo¬ wego w porównaniu z konwencjonalnym przyrza¬ dem tantalowym.Na fig. 6 przedstawiono w sposób graficzny za¬ leznosc napiecia przebicia w woltach od skladu stopu wyrazonego w procentowym udziale ato¬ mów danego pierwiastka w stopie z tantalem przy zalozeniu, ze zmiany napiecia przebicia anodo¬ wego i katodowego sa funkcja zmieniajacej sie koncentracji molibdenu i zelaza w kondensato¬ rach ze stopem tantalu.Na wykresie z fig. 6 na osi odcietych zazna¬ czono procentowy udzial atomów Mo lub Fe w stopie z tantalem a na osi rzednych napiecie w woltach. Krzywa 21 przedstawia przebieg zmian napiecia anodowego dla stopu Fe-Ta, krzywa 22 — zmiany napiecia anodowego dla stopu Mo-Ta krzywa 23 — zmiany napiecia katodowego dla stopu Fe-Ta a krzywa 24 — analogiczne zmiany napiecia katodowego dla stopu Mo-Ta. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 607 60148 8 Nalezy zwrócic uwage, ze w obydwu stopach Ta-Mo oraz Ta-Fe napiecie katodowe przebicia lub napiecie wsteczne wykazuje znaczny procen¬ towy wzrost powyzej wartosci napiec odpowiada¬ jacych poszczególnym skladnikom, natomiast nie¬ niszczace anodowe napiecie przebicia w przód ogól¬ nie biorac jest na poziomie lezacym w zakresie od 50 do 100 woltów, co jest wymaganym pozio¬ mem w róznych zastosowaniach kondensatora.Widocznym jest, ze zakres najkorzystniejszych wlasnosci stopów lezy w granicach od 0,1% do 20% udzialu Fe lub Mo. Takie stopy nie tylko wykazuja wyzsze napiecie przebicia w kierunku przewodzenia i wstecznym, lecz równiez zasadni¬ czo sa bezbiegunowe.W celu wykazania wyzszej procentowo jakosci kondensatorów wykonywanych wedlug wynalaz¬ ku na tle znanych kondensatorów tantalowyeh zastosowano nastepujacy sposób postepowania: wykonano wedlug sposobu omówionego powy¬ zej 105 tantalowych i 105 kondensatorów ze sto¬ pu tantal-molibden (0,6% udzialu atomów Mo).Do okreslenia krytycznej ilosci spelniajacych wymogi jakosci kondensatorów w partii przyjeto liczbe kondensatorów wykazujacych prad uplywu mniejszy lub równy 1X10—8 ampera po jednej minucie pracy pod napieciem 75 woltów. Wyni¬ kowy % kondensatów spelniajacych wymogi ja¬ kosciowe zostal okreslony liczba kondensatorów wykazujacych zmiany pojemnosci mniejsze niz 10% po 16 tygodniach próby zycia pod napieciem' 50 woltów w temperaturze 85°C. Wyzszosc kon¬ densatorów wykonanych wedlug wynalazku w przeciwienstwie z przed tym wykonanymi jest wykazana w tabeli II.Tabela II Ta | Ta-Mo Liczba kon¬ densatorów 105 105 Kondensatory spelniajace wymogi jakosciowe Na poczatku próby % 88 98 Na koncu próby % 59 72 W jeszcze innych przykladach serie kondensato¬ rów byly formowane przez natryskiwanie katod tantalowych, katod stopowych tantalowo-molib- denowych (0,09% molibdenu) i stopowych katod tantalowo-molibdenowych (0,14% molibdenu), na¬ tomiast samo wykonanie kondensatorów odpowia¬ dalo powyzej opisanemu. Katodowe napiecia prze¬ bicia dla tych kondensatorów sa podane w ta¬ beli III.Tabela III Ta-czysty Ta-Mo (0,092) Ta-Mo (0,14 %) Liczba kondensatorów 57 50 50 Katodowe napiecie przebicia (woltów) 5—8 45-60 45—55 Do innych badanych serii wykonano wedlug sposobu opisanego powyzej 60 kondensatorów tan¬ talowych i 120 ze stopu tantal-molibden (0,6% u- dzialu molibdenu). Koncowa wydajnosc zostala okreslona przez liczbe kondensatorów wykazuja¬ cych zmiany pojemnosci, mniejsze niz 10% po 2 tygodniach próby zycia pod napieciem — 30 wol¬ tów w temperaturze 85°C. Wyniki zostaly zesta¬ wione ponizej w tabeli IV.Tabela IV Ta | Ta-Mo Liczba kondensatorów 60 120 Kondensatory spelniajace wyma- 1 gania jakosciowe po próbie dlugo¬ trwalej % 42 93 PL
Claims (1)
1 .13 , ™ 1 //ni. 21 g, 10/03 60 148 MKP H 01 g 13/00 C^ 8 Bltk 1065/70 r. 230 egz. A4 PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL60148B1 true PL60148B1 (pl) | 1970-04-25 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2930951A (en) | Electrical capacitor | |
| US3607679A (en) | Method for the fabrication of discrete rc structure | |
| US6261434B1 (en) | Differential anodization process for electrolytic capacitor anode bodies | |
| US4121949A (en) | Method of making a cathode electrode for an electrolytic capacitor | |
| US3421195A (en) | Capacitor and method of making same | |
| US2221596A (en) | Method of manufacturing dry rectifiers | |
| US3320500A (en) | Tantalum alloy capacitor | |
| US3234442A (en) | Method for fabricating thin film circuit elements and resulting elements | |
| US1925307A (en) | Electric condenser | |
| US3085052A (en) | Method for making film capacitors | |
| US3254390A (en) | Electrolyte solution of | |
| PL60148B1 (pl) | ||
| US3256468A (en) | Electrode for electrical capacitors and method of making the same | |
| US3664931A (en) | Method for fabrication of thin film capacitor | |
| Smyth | Solid‐State Anodic Oxidation of Tantalum | |
| US999749A (en) | Method of forming coils for electric apparatus. | |
| US3378471A (en) | Anodized tantalum and niobium and method of forming an oxide coating thereon | |
| JPH03150822A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極 | |
| US3786323A (en) | Capacitor with anodized electrode of tantalum silicon alloy | |
| JPH059710A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極の製造方法 | |
| US3751349A (en) | Method for electrolytically forming a coating of titanium-alkaline earth metal compound oxide | |
| JPH02267915A (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法 | |
| TWI437591B (zh) | Manufacturing container for capacitor element manufacturing, manufacturing method of capacitor element, and method for manufacturing capacitor | |
| KR100375261B1 (ko) | 콘덴서용 금속증착 필름의 제조방법 | |
| Rosztoczy et al. | Orientation Dependence of the Aluminum Oxide Dielectric in Film Capacitors |