PL59119B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL59119B1
PL59119B1 PL128532A PL12853268A PL59119B1 PL 59119 B1 PL59119 B1 PL 59119B1 PL 128532 A PL128532 A PL 128532A PL 12853268 A PL12853268 A PL 12853268A PL 59119 B1 PL59119 B1 PL 59119B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
printed
epoxy
holes
smoothing
glass
Prior art date
Application number
PL128532A
Other languages
English (en)
Inventor
Kacperski Leopold
Rdbert Marcinkowski inz.
inz. Jan Pyszczek mgr
Original Assignee
Instytut Tele I Radiotechniczny
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Tele I Radiotechniczny filed Critical Instytut Tele I Radiotechniczny
Publication of PL59119B1 publication Critical patent/PL59119B1/pl

Links

Description

Sposób wygladzania otworów przed metalizacja polaczen skrosnych w obwodach drukowanych Przedmiotem wynalazku jest sposób wygladzania otworów to znaczy .usuwania róznych ostrych nie¬ równosci przed metalizacja polaczen skrosnych w obwodach drukowanych z laminatu epoksydowane¬ go. 5 W procesie wytwarzania plytek montazowych z metalizowanymi otworami i drukowanymi pola¬ czeniami, sposób przygotowania powierzchni ot¬ worów decyduje o ich jakosci. Uzywany na plytki laminat epoksydowo-szklany dwustronnie foliowa- 10 ny jest materialem niejednorodnym pod wzgledem twardosci. Stad w procesie wiercenia roztarcie zy¬ wicy epoksydowej przez wiertlo daje pozornie glad¬ ka powierzchnie otworu. Zywica ta izoluje folie miedziowa od metalizowanej powierzchni otworu co jest powodem przerw elektrycznych. Natomiast tkanina szklana po wykonaniu otworu pozostawia w nim wlókna, które w procesie chemicznej meta¬ lizacji moga powodowac powstawanie pecherzyków wodoru* co powoduje nieciaglosc osadzanej war¬ stwy metalu do 70% powierzchni bocznej otworu.Celem wynalazku jest opracowanie sposobu, któ¬ ry pozwolilby na usuniecie zywicy epoksydowej oraz wlókna szklanego z otworów laminatów przed metalizacja polaczen w obwodach drukowanych.Cel ten zostal osiagniety przez zanurzenie plytek przed metalizacja polaczen skrosnych w obwodach trycznych. 2 drukowanych z laminatu epoksydowo-szklanego w roztworze o nastepujacym skladzie: kwas fluorowodorowy od 10 do 50 ml kwas siarkowy od 10 do 400 ml siarczan niklawy od 1 do 2 g i temperaturze od 15 do 70°C przez okres od 1 min. do 5 minut.Proponowany sposób umozliwia uzyskanie glad¬ kich otworów oraz eliminuje powstawanie nieciag¬ losci osadzanej warstwy metalu. 15 20 25 Przyklad: Dziesiec plytek z dwustronnymi polaczeniami drukowanymi, kazda z 100 przepusta¬ mi metalizowanymi, wykonane z laminatu epoksy¬ dowo-szklanego „Epolam", poddano narazeniom klimatycznym: —2'5°C (+70°C) 4 dni.Plytki z wygladzanymi uprzednio otworami w roztworze o skladzie: kwas fluorowodorowy 40 ml kwas siarkowy 200 ml siarczan niklawy 1,2 g temperatura 40°C czas wygladzania 4 min. nie wykazaly przerw elektrycznych, a plytki bez wygladzania otworów wykazaly piec przerw elek- 5911959119 3 4 PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe -szklanego zanurza sie na okres od 1 min. do 5 minut w roztworze o zawartosci kwasu fluorowo- Sposób wygladzania otworów przed metalizacja dorowego od 10 do 50 ml, kwasu siarkowego od polaczen skrosnych w obwodach drukowanych 100 do 400 ml i siarczanu niklawego od 1 do 2 g znamienny tym, ze plytke z laminatu epoksydowo- 5 i temperaturze od 10°C do 70°C. ZG „Ruch" W-wa, zam. 1362-69 nakl. 250 egz. PL
PL128532A 1968-08-07 PL59119B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL59119B1 true PL59119B1 (pl) 1969-12-29

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4775444A (en) Process for fabricating multilayer circuit boards
DE3249736C2 (pl)
DE102006051762B4 (de) Hochdichte Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
SE7403540L (pl)
US5264065A (en) Printed circuits and base materials having low Z-axis thermal expansion
US4541894A (en) Metallizable, essentially isotropic polymeric substrates well adopted for printed circuits
EP0115399B1 (en) Synthetic mica products
DE3920637A1 (de) Anpassbare mehrschicht-leiterplatte mit eingestelltem thermischen ausdehnungskoeffizienten
DE10136078A1 (de) Zusammensetzung zum Mikroätzen von Kupfer oder Kupferlegierung, Verfahren zum Mikroätzen und Verfahren zum Herstellen einer Schaltungsplatte
DE3012889C2 (de) Basismaterial für die Herstellung gedruckter Schaltungen
US20020015833A1 (en) Manufacturing method of electrodeposited copper foil and electrodeposited copper foil
JPS60207395A (ja) スルーホールメツキした電気プリント回路板の製造法
US20090092749A1 (en) Manufacture method of buildup circuit board
CA2429734A1 (en) Coating for preventing erosion of wellbore components
KR100454270B1 (ko) 저조도 전해동박의 제조방법 및 전해동박
PL59119B1 (pl)
CN105282980B (zh) 一种pcb金属化阶梯孔的制作方法
DE3922477A1 (de) Quellmittel zur vorbehandlung von kunstharzen vor einer stromlosen metallisierung
US3928663A (en) Modified hectorite for electroless plating
US3653997A (en) Conditioning and shaping solution for circuit boards
DE69302104T2 (de) Verfahren zur Verbesserung der Adhäsion zwischen verschiedenen Schichten in der Herstellung laminierter Leiterplatten und Zusammensetzungen zur Durchführung des Verfahrens
JPS5856383A (ja) 印刷配線板の製造法
US3561997A (en) Process for metal coating a plastic layer
DE3543615C2 (pl)
DE2014138A1 (de) Verfahren zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten