PL5459B1 - Aparat reakcyjny dla gazu i cieczy, w szczególnosci do wytwarzania kwasu siarkowego zapomoca kwasu^azotowego lub tlenków azotu. - Google Patents

Description

Wszystkie dotychczasowe aparaty, slu¬ zace do otrzymywania kwasu siarkowego przy pomocy kwasu azotowego luib tlenków azotu w komorach, Wiezach,, skrzyniach Mb naczyniach najrozmaitszego ksztaltu, po¬ siadaja mimo wielkich róznic jedna wspól¬ na ceche: zmierzaja one do jak najdoklad¬ niejszego wymieszania sie gazów z faza cie¬ kla, by w ten isposób uzyskac mozliwie wiel¬ ka szybkosc reakcji chemicznej. Te sama ceche posiadac równiez musza aparaty, sluzace do wykony|wainiia wszelkich proce¬ sów chemlicznyioh lulb fizyko - chemicznych, w których odbywa sie Wzajemne: oddzialy¬ wanie gazu i cieczy.Podczas gdy najstarsze z tych aparatów (wlasciwe systemy komorowe) budowadio w postaci ogromnych komór w polaczeniu z wiezami, wypelnionemi materjalem kwaso- trwalym, celem mozliwie dokladnego ze¬ tkniecia sie gazów z ciecza, newsze wyna¬ lazki usiluja rozwiazac ten sam problem bez uzycia komór zapomoca tylko kilku wiez (systemy wiezowe), wypelnionych ma- terjaleoi kwasotrwalym, wedlug innych wreiszcie systemów stosuja sie do tego celu skrzynie, niewypelnione zadnym materia¬ lem], w których pray p|otmocy wallcólw, obra¬ cajacych sie ze znaczna szybkoscia, lub t. p. urzadzen mechanicznych ruchomych* pró¬ buje sie uzytskac dokladne wymieszanie sie gazu i cieczy.Niniejszy wynalazek rozwiazuje ten sam problemat reakcji gazu i cieczy, a zatem równiez sposób wytwarzania kwasu siarko¬ wego zapomoca kwasu azotowego lub tlen-ków &iotu w afrardtfccii próznych w sposób calkbwity i doitychic^as niestosowany, kla¬ dac nacisk na mozliwie doskonale wymie¬ szanie sie gazu i cieczy.Stosujac wylacznie prózne przestrzenie, tunika sie istosiowania jalkichikolwiek urzar dzen poruszajacych sie; uzyskuje natomiast dokladne wymieszanie sie gazu i cieczy w danej czesci aparatu przy pomocy jednego lub wiecej rozpylaczy odpowiedniej, znanej konstrukcji których zadaniem jest mozliwie drobne az do postaci rngly rozpylanie do¬ plywajacej do nich cieczy. Rozpylacze te l. li umieszczone sa nieruchonjo ponizej otwo- * rów, wycietych w rurach gazowych, biegna¬ cych w dojnych cziesbiach aparatu, a to w ten sposób, aby rozpylona ciecz zetknela sie u wylotu fury gazowej na calej powierzchni otworu z gazem, wychodzacym przez otwór do próznego oddzialu aparatu, pirzyczem przekrój rury jest talk dobrany, aby ^azi roz¬ dzielal sie równomienni.e na wszystkie otwo¬ ry tejze rury, Energje potrzebna do rozpylania cieczy pobiera sie przewaznie z pary wodnej, do¬ prowadzanej przewodem do rozpylacza, a sluzacej zarazem ewentualnie do zasilania gazów konieczna dla procesu chemicznego Wioda; w tydi zas procesach wzglednie w tych czesciach aparatu, których zasilenie w pare wodna mogloby zaszkodzic procesowi cfaemiezneraiti, stosowac mioznJa ziamiialst pa¬ ry sprezone powietrze lub tez cisnienie sa- ftiej cieczy, wytworzone przez pompe. Moz¬ na tez uzywac do rozpylenia mieszaniny pary wbdnej i powietrza. Mozna telz tam, gdzie warunki temu sprzyjaja, uzyc do te¬ go celu samych gazów o odpowiedniem ci¬ snieniu albo gazów, zmieszanych z para wodna lub powietrzem; mozna wreszcie w prooeisach, w których ciecz posiada sprzy¬ jajace temu wlasciwosci fizyko - chemicz¬ ne, uzyc do rozpylania pary tej cieczy, uzy¬ skanej1 przez podgrzanie cieczy.Jak z powyzszego wynika, w tego ro¬ dzaju urzadzeniu wszystkie skladniki da¬ nego procesu chemicznego tworza jednoli¬ ta mieszanine juz u wylotu rury gazowej, przycz&in wykorzystuje sie takze rozpreze¬ nie gazów samych, które wychodzac z wa¬ skiego stosunkowo otworu rury gazowej do wielkiej próznej przestrzeni porywaja drob¬ niutkie kropelki! cieczy. Jest zatem w tern urzadzeniu nietylko doskonale wykorzysta¬ nie przestrzeni samej, ale uzyskuje sie przytem jednolity sklad mieszaniny, a za¬ tem równoczesnie latwa moztoosc kontrolo¬ wania procesu chemicznego i wplywania na jeigo przebieg przy pomocy regulowania do¬ plywu skladników gazowych i cieklych.Wyzej opisane1 urzadzenie ma w dalszej swojej konsekwencji jeszcze jedno znacze¬ nie dzieki temu, ze poszczególne oddzialy aparatu sa prózne i nie posiadaja zadnych urzadzen wewnetrznych, niema potrzeby budowania tychze czesci oddzielnie, jak np. wiez, skrzyn lub t. p. Caly aparat moze byc wlasciwie jedna komora jakiegokolwiek ksztaltu, przedzielona celowo zapomoca cienkich scianek na równe lub nierówne od¬ dzialy zaleznie od potrzeby procesu che¬ micznego. A poniewaz ciecz zasilajaca te oddzialy doplywa zawlsze do rozpylaczy, u- mieszczcnych w dolnych cziesciach aparatu, wystarczy wiec naniescie dna poszczegól¬ nych oddzialów tarasowo, to zboczy w &dr powiedniem wzniesieniu jedno wzgledem drugiego, aby w ten sposób uzyskac doplyw cieczy z oddzialów wyzszych do nizszych bez pomocy pomp lub t. p. urzadzen me¬ chanicznych. Mozna przytem gazy przepu¬ szczac albo z oddzialu najnizej [polozonego do najwyzszego, jak to ma miejsce nip. w procesie fabrykacji kwasu siatkowego, ale mozna tez w razie, gdy proces chemiczny tego wymaga, przepuszczac gazy w kierun¬ ku odwrotnym, rtó znabzy z oddiialu najwy¬ zej polozonego do najnizszego.Aparat bedacy przedmiotem wynalazku, przedstawiony jest schematyczinie na zala¬ czonym rysunku. Fig. 1 przedstawia widok podluzny aparatu, fig. 2 — pnzekrój po- — 2 —przeczny, zas fig. 3 —¦ przekrój podluzny.Sklada sie on z oddzialów 1, 2, 3, 4 i t. d, oddzielonych od siebie sciankami /, II, UL i t. d. Dna tych oddzialów wzniesione sa wzgledem siebie o tyle aby ciecz, wytwa¬ rzana w danym oddziale, mogla samoczyn¬ nie doplynac do sasiedniego oddzialu. Przez otwór 14 w scianie oddzialu 1 wchodzi rura gazowa 5, przebiegajaca wpoprzek dna te¬ go oddzialu i zamknieta na koncu, jak to widoczne z pnzekmju poprzecznego na fig. 2; przekrój tej rury gazowej zweza ,sie, w miare oddalania sie od otworu 14. W rurze tej wyciete sa dla przykladu trzy otwory 6, 7, 8, ponizej których umieszczone sa rozr pylacze w tej samej ilosci a wiec dla przy¬ kladu 9, 10, 11, rozpylajace ciecz, uzyska¬ na w oddziale wyzej polozonym, a dopro¬ wadzona przewodem 12, jak to uwidocznio¬ no na fig. 3. Tam, gdzie do rozpylenia uzy¬ wa sie pary wodnej, wzglednie powietrza lub tez innego gazu lub pary, posiada roz¬ pylacz jeszcze drugi przewód 13, sluzacy do doprowadzania tychze. Rura gazowa 5, umieszczona w nakrywie oddzialu 1, odplly- wa gaz i wchodzi zinowu przez otwór 14 do oddzialu 2 w isposób identyczny, jak w od¬ dziale /, potem do oddzialów 3, 4 i i d., poCzem po skonczonym procesie opuszcza aparat. W wiekszosci procesów gaz przeply¬ wa zatem z oddzialu najnizej polozonego, a zatem w kierunku strzalki na fig. 1, istnie¬ ja jednakze procesy, w których celowem jeist przepuszczac gaz w kierunku odwrot¬ nym. PL

Claims (4)

1. Zastrzezenia patentowe. 1. Aparat reakcyjny dla gazu i cieczy, w szczególnosci do wytwarzania kwasu siatkowego zapomoca kwasu azotawego lub tlenków azotu w naczyniach próznych do¬ wolnego ksztaltu, znamienny tern, ze poni¬ zej otworów (6, 7, 8 i t. dl.), wycietych w rurach gazowych,, przebiegajacych wpo¬ przek dna poszczególnych oddzialów, apa¬ ratu, umieszczone sa nieruchomo rozpyla¬ cze (9, 10, 11 i t d.) odpowiedniej formy, zasilane w cieczi w ten sposób, aby rozpylo¬ na ciecz zetknela sie w otworach (6, 7, 8 i t. d.) na calym przekroju tychze z gazem, wchodzacym do tego oddzialu.
2. 2. Aparat reakcyjny dla gazu i cieczy, w szczególnosci do wytwarzania kwasu siar¬ kowego zapomoca kwasu azotowego lub tlenków azotu wedlug zastrz. 1, znamienny tern, ze do rozpylenia cieczy uzywa sie w poszczególnych oddzialach aparatu zalez¬ nie od przebiegu procesu chemicznego, albo pary wodnej albo sprezonego powietrza, lub mieszaniny tychze, albo gazu samego pod cisnieniem, lub tez gazu zmieszanego z para wodna, hiib z powietrzem, wrleszcie rozpylenie to nastapic moze zapomoca ci¬ snienia cieczy samej wzglednie przy pomo¬ cy pary, uzyskanej przez podgrzanie cie¬ czy.
3. 3. Aparat reakcyjny dla gazu i cieczy, w szczególnosci do wytwarzania kwasu siar¬ kowego zapomoca kwasu azotowego lub tlenków azotu wedlug zas-trz. 112, znamien¬ ny tern, ze oddzialy aparatu nie sa zbudo¬ wane oddzielnie, lecz) tworza wlasciwie jed¬ na komore jakiegokolwiidk ksztaltu, prze¬ dzielona sciankami fi, II, III i t. diJ na rów¬ ne lub nierówne oddzialy flt 2, 3, 4 i t. d,).
4. 4. Aparat reakcyjny dla gazu! i cieczy, w szczególnosci do wytwarzania kwasu siarkowego zapomoca kwasu azotowego lub tlenków azotu wedlug zastrz. 1, 2 i 3, zna¬ mienny tem, ze dna poszczególnych oddzia¬ lów umieszczone sa tarasowo, tak ze ciecz, wytworzona w danym oddziale splywa pod wlasnem cisnieniem z oddzialu wyzeji po¬ lozonego do rozpylaczy w oddzialach nizej polozonych, przyczem gaz przeplywac mo¬ ze albo w kierunku od najnizej polazonego oddzialu do najwyzszego albo w kierunku odwrotnym. J a k ó b F i s c h 1 e r. Zastepca: M. Goldwasser, adwokat.Do opisu patentowego Nr 5459. ^r I i^y m X 3 er* < r4 W 3 4 N i f\3 ¦rar K< r Od "isr U Druk L. BogutUwikiego, Warszawa. ¦^¦¦liifijLiiiSjfiej; PL