PL46691B1 - - Google Patents

Description

Wynalazek niniejszy dotyczy plyty Jajaoej efekty swietlne, zwlaszcza plyty przykrywajacej zródla swiatla, wykonywanej z odksztalconego materialu, najkorzystniej ze szkla, o powierzch¬ ni zaopatrzonej w wystajace profilowanie i co najmniej w obszarze tych wystepów z powierzch¬ nia zaopatrzona w politure ogniowa.Tego rodzaju plyty, zwlaszcza ze szkla, sa znane od dawna. Ich wykonywanie odbywa sie w duzym zakresie, na przyklad w znanych war¬ sztatach Murano we Wloszech. W stosowanym tam sposobie wymagane profilowanie na plas¬ tycznym materiale, rozpostartym na odpowied¬ nim podkladzie, wyciskane jest recznie za po¬ moca wzorników z blachy, podobnych do wy- gniataczy do ciasta. Przy wytwarzaniu ich sa jednakze zatrudnione tylko osoby, które odzna¬ czaja sie bogatym doswiadczeniem i duza zrecz¬ noscia. Równiez wówczas, gdy te warunki sa spelnione, ilosc bratków jest stosunkowo duza.Z tych wzgledów, i ze wzgledu na rzemieslni¬ cze i'ch wytwarzanie, plyty takie sa na ogól bardzo drogie.A zatem uczyniona zostala propozycja, aby goraca masa szkla byla doprowadzana do jed- koiwej grubosci za poimoca gladkiego szitrycho¬ wania, w ramie spoczywajajcej ma plaskiej plyicie podstawowej, oraz aby nastepnie, po podniesie¬ niu górnej czesci ramy, wzór byl wyciskany za pomoca wciskanego rusztu w taki sposób, zeby do uzyskania wymaganej jednakowej glebokosci wcisniecia, wystajace jego czesci oparly sie na dolnej czesci ramy. Wada tego sposobu polega jednakze przede wsz3'stkim na tym, ze wiel¬ kosc uzyskiwanych plyt wyznaczana jest wiel¬ koscia wciskanego rusztu, a zatem dla kazdej wielkosci plyty konieczny jest osobny ruszt wciskany. A wiec i ten sposób jest jeszcze bar-dzo drogi, gdyz stosujac go, dla kazdego po¬ szczególnego wzoru musza byc trzymane na ma¬ gazynie ruszty wciskane róznych wielkosci.Wady tej mozna uniknac w ten sposób, ze za¬ miast rusztu wciskanego zastosuje sie walek wzornikowy, który jest prowadzony w pewnej odleglosci od podkladu, przy czym wystajace z jego powierzchni elementy profilowe tylKo czesciowo zostaja wciskane w plastycznie od¬ ksztalcamy material, a wycisniety przez nie na boki material przeplywa do pustych prze¬ strzeni pamiiejdzy wystajacymi czesciami profii- lowyimi wallka; bez powodowania stykania sie go z powierzchnia walka. W ten sposób umozli- wiione zostalo wytwarzanie tego rodzaju plytt o dowolnej dlugosci.WiszyisUkie wykonywane wedlug tego sposobu plyty maja jednakze te wade, ze stosownie da ich wytwarzania sa one tylko jednostronnie zao¬ patrzone w politure ogniowa oraz ze dlatego wlasnie nie wypada równiez calkowicie zadowa¬ lajaco dzialanie rozpraszajace i zalamujace swiatlo, a zatem i uzyskiwane dzieki temu efek¬ ty swietlne. Wyjatkowo dobry polysk na tych zaopatrzonych w wystajace profilowanie ply¬ tach daje sie uzyskac jednakze wedlug wyna¬ lazku, gdy ich wystepy uksztaltowane zostana jako bezposrednio z. odksztalcalnegó materialu wypychane wybrzuszenia zaopatrzone obustron¬ nie w politure ogniowa, które w swej do przo¬ du wysunietej czesci, zwlaszcza w swym obsza¬ rze wierzcholkowym, wykazuja zmniejszenie grubosci stóamki, polepszajac rozpraszanie swia¬ tla.Wynalazek niniejszy dotyczy sposobu wytwa¬ rzania tego rodzaju plyt, w których na ma¬ teriale w stanie odksztalcalnym, zasadniczo roz¬ postartym warstwa jednakowej grubosci na pod¬ kladzie, jednostronnie i miejscowo doprowadza . sie do dzialania wzornik, przy czym wedlug wy¬ nalazku odksztalcalny material zostaje rozpo¬ starty na podkladzie, zaopatrzonym w otwory wylotowe dla czynnika gazowego, i najkorzyst¬ niej wyposazonym w rame, po czym nad po¬ wierzchnia tego materialu ustawia sie wzornik, i wówczas w celu wytworzenia swych wybrzu¬ szen odksztalcalny material jest wdmuchiwany i (lub) zasysany za pomoca przeplywajacego czynnika do pustych przestrzeni pomiedzy wy¬ stajacymi elementami profilowymi wzornika, przy czym bezposrednio z materialu wybrzuszo¬ ne, a takze obustronnie w politure ogniowa laopatrzone wybrzuszenia zostaja utworzone w pustych przestrzeniach pomiedzy elementami profilowymi wzornika. Przy tym wybrzuszenia te moga byc wydmuchiwane z odksztalcalnegó materialu za pomoca doprowadzenia sprezonego powietrza przez otwory wylotowe plyty pod¬ stawowej.Wedlug innej propozycji wynalazku, profilo¬ wanie plyt odbywa sie za pomoca walka wzor- nikowego prowadzonego ponad podlozem, przy czym wystajace z powierzchni walka elementy profilowe zostaja wciskane tylko czesciowo w plasko rozpostarty na podkladzie material, a w zaleznosci od ruchu walka, w obszarze kazdorazowo wchodzacych do pracy Fustych przestrzeni walka, na dolna strone przeznaczo¬ nego do przeróbki materialu rozpoczyna dziala¬ nie gazowy czynnik sprezony.Jednakze plasko rozpostarty na podkladzie material moze byc równiez przeciagany pomie¬ dzy walkiem wzornikowym, osadzonym obro¬ towo w jednym i tym samym miejscu, a znaj¬ dujaca sie ponizej tego walka plyta podstawowa, zaopatrzona w rówlnolegly do osi wallka rowek, sluzacy do doprowadzenia czynnika sprezonego.Ponadto prowadzony ponad podlozem walek wzornikowy moze w zaleznosci od swego polo¬ zenia sterowac zasuwami, za pomoca których otwierany zostaje wylot gazowego czynnika sprezonego z (równoleglych do osi walka row¬ ków. Wreszcie plastycznie odksztalcalny mate¬ rial moze byc równiez plasko rozpostarty na sjpodzyiwiajaeej na podlozu ptlycie dennej, zao¬ patrzonej w równolegla do osi walka szczeline, a jednoczesnie z prowadzonym ponad podlozem walkiem wzornikowym zostaje przesuwana w tym samym kierunku i z ta sama predkoscia co walek plyta denna, umieszczona pomiedzy nie¬ ruchomym odksztalcalnym materialem i pod¬ kladem, przy czym przez umieszczony w podkla¬ dzie wzdluzny rowek jest doprowadzany staJe gazowy^ czynnik sprezony do szczeliny przewi¬ dzianej w plycie dennej. Jednoczesnie z ksztal¬ towaniem profilu w przeznaczonej do wykony¬ wania profilowanej plycie, moze byc przedsie¬ brane za pomoca walka wzornikowego, w zna¬ ny w istocie sposób, równiez przycinanie co najmniej wzdluznych jej brzegów.Wynalazejk dotyczy równiez urzadzenia do stosowania sposobu wedlug wynalazku, które sklada sie z podkladu do rozposcierania od- ksztalcalneigo materialu oraz z umieszczonego naprzeciw niego wzornika, a odznacza sie ono tym, ze podklad zaopatrzony jest co najmniej w jeden otwór polaczony przewodem ze zródlem cisnienia czynnika gazowego, a wzornik moze - 2 -byc umieszczony w okreslonej odleglosci na¬ przeciwko polaczonego ze zródlem cisnien1a podkladu i moze byc w tym polozeniu unieru¬ chamiany. Wzornik o konstrukcji kratowej, lub co najmniej jego czesci, moze byc tak uksztal¬ towany, ze stanowi elementy scianek komory ssawnej, polaczonej z pompa ssaca. Wzornik moze miec ponadto ksztalt walka wzornikowe- gO1, a do ustalania jego odleglosci od podkladu, a zatem równiez do ustalania glebokosci zanu¬ rzania sie przeznaczonych do wcisniecia ele¬ mentów profilowych w odksztalcamy material, zaolpaltrzomy jest on na obydwóch koncach w krazki prowadzace. Przy czym w podkladzie umieszczone sa,, w miare moznosci równomier¬ nie i równolegle do osi walka rozdzielone, row¬ kowe otwory dla czynnika gazowego. Walek wzornikowy moze byc osadzony obrotowo, z moz¬ noscia wysokosciowego przestawiania w jednym i tym samym miejscu, powyzej rowkowego ot¬ woru umieszczonego w poóMadzi-e równolegle do osi walka, i moze byc zaopatrzony w zgar¬ niacz lub przyciskacz odksztalcalnego materialj, który znajduje sie w ramie przesuwanej po podkladzie. Przewidziane w podkladzie rowko¬ we otwory moga byc równiez zaopatrzontB wed¬ lug wynalazku w zasuwy zamykajace, które sa wyposazone w elementy uruchamiajace, siega¬ jace az ponad powierzchnie plyty podstawowej, a walki wzornikowe, w celu kolejnego uru¬ chamiania tych zasuw wyposazone sa w doty¬ kajacy podkladu pierscien. Wreszcie wynalazek przewiduje jeszcze urzadzenie, które jest wy¬ posazone w plyte denna, zaopatrzona w szcze¬ line równolegla do osi walka, która to plyta umieszczona jest pomiedzy nieruchomym pod¬ kladem a odksatalcalna masa, przy czym prze¬ widziana w plycie dennej szczelina znajduje sie ponizej walka i walek ten moze byc przesuwany razem z plyita denna wzgledem utrzymywanej w stanie spoczynku, na przyklad za pomoca ra¬ my, odksztalcalnego materialu, i to w tym sa¬ mym kierunku i z ta sama predkoscia.Wynalazek zostanie w dalszym ciagu szcze¬ gólowiej wyjasniony na podstawie przykladów wykonania, przedstawionych na rysunku, przy czym fig. 1 pokazuje schematycznie rzut z góry r plyty wedlug wynalazku, fig. 2 — przekrój plaszczyzna oznaczona linia 11^-11 na fig. 1, fig. 3 pokazuje schematycznie dotychczasowy sposób wytwarzania tych plyt, fig. 4 — rzut z góry plaskiego wzornika, osadzonego na ramie formujacej, filg. 5 —(przeikrój plaszczyzna, ozna¬ czona linia V—V na filg. 4, fig. 6 — przekrój plaszczyzna, oznaczona linia VI—VI na fig. 4, fig. 7 pokazuje schematycznie plaski wzornik w polaczeniu z komora ssawna, fig. 8 — prze¬ krój wzdluzny walca wzornikowego, prowadzo¬ nego w pewnej odleglosci od plyty podstawowej, fig. 9 — przekrój plaszczyzna, oznaczona linia IXi—IX na fig. 8, fig. 10 pokazuje schematycz¬ nie walek wzornikowy, osadzony obrotowo po¬ wyzej rowka umieszczanego w plycie podsta¬ wowej, równolegle do osi tego walka, fig. 11 pokazuje schematycznie, czesciowo w przekroju, rzut z przodu urzadzenia, w którym rowki plyty podstawowej zaopatrzone sa w zasuwy, a walek wzornikowy jest przystosowany do ich uru- chamiainia,, fig. 12 — rzut z boku teigo urzadze¬ nia, a fig. 13 pokazuje schematycznie urzadzenie z plyta denna, która umieszczona jest .pomiedzy cdksztalcalnym materialem i nieruchomym pod¬ kladem i która przesuwana jest razem z wal¬ kiem wzornikowym w tym samym co i on kierunku.Przedstawiona na fig. 1 i 2 plyta 1 jest zaopa¬ trzona w wybrzuszenia 2, które sa wypchniete bezposrednio z odksztalcalnego materialu i obu¬ stronnie pokryte, politura pgniowa, i które w swej wysunietej do przodu czesci, zwlaszcza w swym obszarze wierzcholkowym 3, maja pc*- cieniona scianke, polepszajaca rozpraszanie swiatla. Ksztalt i wielkosc wybrzuszen moze zmieniac sie w szerokich granicach. Wybrzusze1 nia te nie koniecznie musza zajmowac cala po¬ wierzchnie plyty. Plyty wedlug wynalazku, któ¬ re specjalnie nadaja sie jako plyty przykrywa¬ jace zródla swiatla, mozna skladac w ksztalty, które w pojedynczym wykonaniu badz nie moz¬ na wcaie wykonywac, badz tez mozna wykony¬ wac tylko z duzymi trudnosciami, tale, ze w daw¬ nym przypadku mozna zatem wykonywac z nich przykrycia dla zródel swiatla o duzych roz¬ miarach.Na fig. 3 zostala przedstawiona zasada do¬ tychczasowego wykonywania tego rodzaju plyt, zgodnie z która ruszt lub walek profilowy .zo¬ staje wyciskany az do okreslonej glebokosci w odksztalcalny material 5, rozpostarty plasko na plycie podstawowej 4, przy czym wyciskany przez pasy 6 rusztu material 5 wypychany zo¬ staje do pustych przestrzeni miedzy tymi pa¬ sami, bez dotykania jednakze samej plyty nos¬ nej 7 rusztu. Wybrzuszenia zachowuja zatem równiez swa politure ogniowa. Wada plyt wy¬ tworzonych wedlug tej znanej zasady, jak -to juz bylo wspomniane wyzej, polega na tym, ze za¬ chowuja one tylko po jednej stronie swa poli- - 3 -ture ogniowa, a ponadto wskutek prawie jed¬ nakowych wysokosci wybrzuszen dzialaja one jako blyszczace szklo prasowane.Pokazana na fig. 4—6 postac wykonania urza¬ dzenia do stosowania sposobu wedlug wynalaz¬ ku Sklada sie z podkladu, uksztaltowanego jako plyta potint&w©#a 8, na górnej stronie zaopa¬ trzona w szereg rowkowych otworów 9, które przez iprzewody 10 prowadza do nie pokazanego na rysunku zródla sprezonego powietrza. Do przyjecia i wyznaczenia grubosci odksztalcal- flggo materialu sluzy spoczywajaca na plycie podstawowej 8 rama formujaca 11- Na ramie t&i jest szczelnie osadzony plaski wzornik 12 6 konstrukcji kratowej. Najkorzystniej jest gdy w^otnik 12 sklada sie z plaskowników 13 usta¬ wianych pionowo swa szersza strona. Jezeli w tego rodzaju urzadzeniu na przyklad sprezo¬ ne |xwietrze zostanie doprowadzone z jego zródla przez przewody 10 do otworów 9, i gdy zacznie ono dzialac na dolna strone przeznaczo- iiego do ksztaltowania materialu, to material ten bedzie Wciskal sie w puste przestrzenie pomiedzy pr^ty 13 kraty wzornika 12 i bedzie tworzyl tam wyforztoszema wykazujace nie tylko obustronna pdtitare ogniowa i doskonale dzialanie razpra- Ifeajace oraz zalamujace swiatlo, ale lówniez wymagana nierównemiernosc, co nadaje tego rodzaju plytom charakter rzemieslniczych wy¬ robów artystycznych.Za t&moea dobierania grubosci warstwy roz- 'i)oiicleTa^ego materialu, glebokosci przenikania wlcSilka, zastosowanego cisnienia dmuchania i jiio sterowanego zaistóoiwiainia, oraz tempera- SWiry octk^ztalcalnego materialu, mozna uzy- Ifeac zmrfieJsz^Hle grti6osci scianki, zwlaszcza ''pffiy w^rliblho^&ch wybrzuszen. Uzyskane dzie- Tfci tefiiu bfziilariie wybrzuszen jako soczewek rozpraszajacych prowadzi do dalszego zWiek- fSenfll ^lelctów Zwlstihych Uzyskiwanych za po- Ma l$m ^rodzaju pryt. % /pr:ze^tawlbnym scherhatycznie na fig. 7 iiSz^afzSiiu wizbiriilk 12 jest uksztaltowany jaiko 1c?inVloBorVssawnej 14, przy czym powodu¬ jace wybrztfszerila ódkMztalc&lriego materialu wewnl^rl^ Uzyskiwane jest za po- 1 n^ca'c^rólSiMia fcoBibry ssawnej 14 przez jej -cCórlt Zamiast plaskiego wzornika, w przedstawio¬ nym jia fig. 8 i l-9 urzadzeniu zostal zastbsowa- ny walek wzornikowy, który sklada sie z u- Ksztaltowanego jako os trzpienia nosnego 16, którego konce zaopatrzone sa w gwinty. Na trzpieniu nosmym 16 umieszczone sa pierscienie 19, oddzielone wzajemnie za pomoca elementów dystansowych 18. Pierscienie 19, które w danym przypadku moga byc zaopatrzone na przyklad w pofalowane brzegi, moga byc wymienne w ce¬ lu umozliwienia wytwarzania róznego rodzaju wzorów. W przedstawionym na rysunku przy¬ padku elementy dystansowe 18 maja' ksztalt tulei o mniejszej srednicy zewnetrznej niz pier¬ scienie 19 i wyposazone sa w wybrania 20 dó osadzenia promieniowo umieszczonych, iako po¬ przeczki uksztaltowanych elementów profilo¬ wych 21. W tym przykladzie wykonania prze¬ widziano na przyklad piec szeregów takich ele¬ mentów profilowych 21, umieszczonych w rów¬ nych wzajemnych odleglosciach. Zarówno piers¬ cienie 19 jak i poprzeczne elementy profilowe 21 sa najkorzystniej wykonywane z blachy o grubosci na przyklad od 1 do 3 mm. Brzegi elementów profilowych 21 moiga byc rówiniez drobno pofalowane. W danym przypadku wa¬ lek wzornikowy moze byc równiez zaopatrzony w calkowicie nieregularny wzornik. W celu ustalenia odleglosci walka wzornikowego od odksztalcalnego materialu, która umozliwia swo¬ bodne jeigo wybrzuszanie do pustych przestrze¬ ni 22 pomiedzy wystajacymi elementami profi¬ lujacymi walka, oraz która jednoczesnie wyzna¬ cza glebokosc zaglebiania sie wzornika;, na o- bydwóch koncach walka wzomikowego prze¬ widziane sa krazki prowadzace 23. Zaopatrzone w wewnetrzny gwint krazki prowadzace 23 sa nakrecone na konce 17 trzpienia nosnego \6 i mocuja miedzy soba nasadzone na niego piers¬ cienie 19 i elementy dystansowe 18. W poblizu swych konców walek wzornikowy jest zaopatrzo¬ ny ponadto w noze tarczowe 24, za pomoca któ¬ rych przy wciskaniu wzornika w odksztalcalny material odbywa sie jednoczesnie równiez przy¬ cinanie! bocznych wzdluznych brzegów od¬ ksztalcanej tasmy, przeznaczonej na plyty. W ce¬ lu dlugosciowego rozcinania w kierunku wal¬ cowania na pszezególne plyty plaskiej tasmy, utworzonej z odksztalcalnego materialu 5, do¬ prowadzonego do jednakowej grubosci za pomo¬ ca postepowego ruchu walka wzornikbwego p^ ramie formujacej 11, walek ten moze byc zaopa¬ trzony w nóz, siegajacy przez cala jego dlugosc az do bocznych nozy tarczowych 24, albo tez elementy profilowe 21 jednego szeregu moga na przyklad byc tak wysokie, ze w celu pojprzecz- nego odcinania elementów plyt tak samo gleboko przenikaja w odksztalcalny material, jak boczne noze tarczowe 24.-%-W pfrzedstawibnym schematycznie na fig. 10 urzadzeniu walek wzbrnikoWy jest najkorzyst¬ niej osadzony obrotowo z moznoscia przestawi^r tiia pionowego, w jednym i tym samym miej¬ scu, ponad rowkowym otworem 9, umieszczo¬ no w plycie podstawowej 8, równolegle do 'osi i& Wsftka. W danym przypadku walek wzor- hikówy tiióze wspólpracowac z urzadzeniem zg&m^aj^m. W tym wykonaniu material od¬ ksztalcamy, prasko rozpostarty na plycie pod¬ stawowej $i na przyklad w ramie formujacej 11, odstaje przeciagany pomiedzy plyta podstawowa # i walkiiem wzornikowym.W przedstawionym schematycznie na fig. 11 i 12 uiz4dzeniu przewidziarie w plycie podsta¬ wowej & roWikowe oUwbry 9 sa zabjpatrzbhe w oftsjr#e^yfoujaee zasuwy zamyfcajace 25, Wtóre sa sterowane za pomoca walka wzbrnikowego, TW z^RjzfKJsci dd jego polozenia. W tym celu kaz¬ da zaMtiwa zamykajaca 25 jest zaopatrzona w sie¬ gajacy Mz r£eza powierzchnie pllyty podstawo\vej 8 trzpien uruchamiajacy 25, na którlgb swo¬ bodnym kóneii osadzony jest wystajacy poza plyte podstaWdwa 8 guzik timcliamfajacy 27.Watelk WaSrnikbWy je&t za/^atfcaoriy na jednym #i kSftcu w dotykajacy podkladu pierscien 28, &tóry w sWym ruchu obrbtdWyfh Wciska kolejno gu2h& tt i WBfcuifSk Tfigb dtwlfera odhos- ftoiaSSrie irfa fig. 13 Urzadzeaile zaopatrzone jgst % jJo^itl&d, uM£faltoWany jako plyta den¬ na $& któfóa Umieszczbha jest pdrriiedzy od- fes2tól«tmym mafeirialem 5 i pl^ta podstawowa 8 i wypoarazbna jest w szczeline 30. Ddkladhie po¬ nad ta szczelina jest Umieszczony walek Wzor- ti$cbW$r, icltóiry razeim z plylfea denna 29 poru¬ szany je&t mimo odksztalcalnego materialu 5, utrzymywanego w stanie spoczynku za pomoca ramy 11, i to w tym samym kienihku i z ta sa- riia predkoscia. Dó przewidzianej w plycie den¬ nej SS Szczeliny 30 jest stalfe doprowadzane spie- zb^e fcbWtótrzfc Jrzez wzdluzny rowek 9, umiesz- trzfcriy *w plycie riódstawoWej.Jaicó[material dla ksztaltowanych wedlug wy- rlalazku ftljft 'wchodzi w g#e fiie tylko przezro- czytste, bedharWihe Itfb barwione, a ta^e powle- k&iie sztóo, kle równiez przeswiecaj^ szklo "je^nidfBdrie lub szklo pbwlekane, lub tez wszyst¬ kie w frcdbBhy sposób odkfeztareiaftse Iwerzywo sztuczne o róznorodnych wla^wosefiaeh op- tytczmych. Ozaalanile ,stofófe1JBbe ope*aJajee sienna zja wdsTkHi zalaim#iia sWliatla, rozpraszania swiatla, lubtóMibiriacji-bb^woeh t^ch zjawisk, moze byc imferiiarte w rdzttiaity sposób za pomoca odpo- tifó&ftiego nadawania któfó^tu i trttfadu wybrzu¬ szen, przy czym "specjalnie fakj&IaWfc je£t irów- tffcz, tpfzy zmm$wmibi f*taeSh*^a;^^ rialów, polepszanie |F2e^rfka*ite SWfettg fcrzez brzegowe czysci w^TrMs8en\ PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia pfetentóW** 1. Plyta dajaca efekty swietlne, zwlaszcza ply¬ ta przykrywajaca zródla swiatla, wykonana z odksztalcalnego materialu,' najkorzystniej ze szkla, o ipowierzclund zaopatrzonej w w^r- sttaljajoe profilowanie i co najtaamtiej w ob¬ szarze tych wystajacych elementów o po¬ wierzchni z politura ogniowa, znamienna tym, ze jej wystepy sa uksztaltowane, jako bezposrednio z odksztalcalnego materialu wypychane wybrzuszenia (2), zaopatrzone w obustronna politure ogniowa, które w swej do przodu wysunietej czesci, zwlaszcza w swym obszarze wierzcholkowym (3) wykazu¬ ja zmniejszenie grubosci scianki, polepszaja¬ ce rozpraszanie swiatla. 2. Slpdisólb wytwarzania pljtóy Wedlug zn^fcrz. 1, w tótórytm na material iw stamie^jafes2t§lcal- ftytti, zai&adniazo htópbstartyni Warstwa jed¬ nakowej grubbsci na ^kladBte, jedftiogtron- nie i rtliejsc^Wo ddi^roW^dza sie ^do dbania Wzorriik, znaftitóhhy tym, ze d&fB^eflfeainy materi&l (5) rozpos-ta^y sSbstóje m ps&Wln- dzie (8), za-oipaM^htm w ointaofjr Utymorte dla idzyiriiriiika gazoW^ga i najfeof^j^i^j wy- poBanonylcli W ranie!ffi),nasi!^n^ tlfca po- iwderaohinia tego maffeerialu (5)^l^rWia sie wtoornik {12) i wófafezais Wtjelu W^^f&enda W^lbrzltez^n (12) o^li^alfeilny ftii»1*ffi (5) jest |Wic&hU)chlWariyi ftuto)^a^afty«a pbmao- ca ipirzeplyiwiajajc^gb ci^nlntea do ^UMych !^estraen«i|poniiejdzyw^t^eythl €*ittienlta- milprofilowyimi {13) wtoóiriniiKtei (12), {jfrzy fezyini bezposrednio z materialu {S) wy^JRniete, a taklze na ofoyfliWÓch stronach^ W {j^itUle ogniowa zaopatrzone WybrzUSzenfa (S) sa tworzone w piistych przestr^ehlalch j^mie- dzy wystajacymi elenTfchtSmi ^rclildwymi (3) wzornika (12). 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze wybrzuszenia (2) sa wydmuchiwane z odksztalcalnego materialu (5) za pomoca doprowadzania sprezonego powietrza prze/ otwory wylotowe (9) plyty podstawowej (6). 4. Sposólb weklluig z^isfWz.

2. Itrti 3, zn&inieniny tym, ze |5¥bfllowan1» plyt * 5 -tpoirnioc^fwianka iwtzoirinjl^owiejgio, pfrotwadzoaiego nad podkladem (8), przy czym wystajace . z powierzchni (walka elemenity profilowe (19) tylko czesciowo przenikaja w plasko rozpo¬ starty na podkladzie (8) material (5), a w za¬ leznosci od ruchu walka, w obszarze kaz¬ dorazowo czynnej pustej przestrzeni (22), na dolna strone przeznaczonego do odksztalca¬ nia materialu (5) zaczyna dzialac gazowy czynnik sprezony. 5. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze plasko rozpostarty na podkladzie (29) ma¬ terial (5) jest przeciagany pomiedzy wal¬ kiem wzornikowym (16), osadzonym obro¬ towo w jednym i tym samym miejscu, a ply¬ ta podstawowa (8), znajdujaca sie ponizej tego walka (16) i zaopatrzona w równoleg¬ ly do osi rowek (9), sluzalcy do doprowa¬ dzania sprezonego ozynniika. 6. Sposób wedlug zastrz. 4 znamienny tym ze prtfwajdzony ponad podkladem (8) walek wzornikowy (16) steruje w zaleznosci od swego polozenia zasuwami (25), za pomoca których otwierany zostaje wylot gazowego czynnika sprezonego z równoleglych do osi walka (16) rowków (9) w podkladzie (8). 7. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze plastycznie odksztalcamy material (5) zosta¬ je plasko rozpostarty na plycie dennej (29), ulozonej na podkladzie (8) i zaopatrzonej w szczeline (30), a jednoczesnie z walkiem wzcrnikowym prowadzonym ponad podkla¬ dem zostaje przesuwana w tym samym kie¬ runku i z ta sama predkoscia co watek (16) : plyta denna (29), umieszczona pomiedzy nie- -ruichomym odkislzlfcatoallnyim materialem (5) i poklaldem (8), przy azymprzez umieszczo¬ ny w, podkladzie wzdluzny rowek (9) jest stale doprowadzany gazowy czynnik spre¬ zony do-przewidzianej w plycie dennej (29) szczeliny (30). 8. Urzadzenie do stosowania sposobu wedlug zastrz. 2—7, skladajace sie z podkladu do rozposcierania odksztalcalnego materialu oraz z naprzeciwko niego umieszczonego wzornika, znamienne tym, ze podklad (8) za¬ opatrzony jest w co najmniej jeden otwór (9), polaczony poprzez przewód (10) ze zród¬ lem cisnienia czynnika gazowego, a wzornik {12) moze!byó umieszczany w okreslonej od¬ leglosci naiprzeeiwlko polaczonego ze zród¬ lem cisnienia podkladu (8) i w tym polo- : zeniu umieruchamiany. 9. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze wzornik (12) o konstrukcji kratowej, lub co najmniej jego czesci, sa tak uksztaltowa¬ ne, ze stanowia elementy (23) sciany ko¬ mory ssawnej (14), polaczonej z pompa ssaca. 10. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze wzornik ma ksztalt walka wzornikowego (16), a do ustalania jego odleglosci od pod¬ kladu (8), a zatem równiez do ustalenia gle¬ bokosci zanurzania sie przeznaczonych do wcisniecia elementów profilowych (19) w cdksztalcalny material (5), na odbyd- wóch swych koncach zaopatrzony jest w krazki prowadzace (23), a w podkladzie umieszczone sa rowkowe otwory (9) dla czynnika gazowego, rozlozone w miare moz¬ nosci równomiernie i równolegle do oji walka (16). 11. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze walek wzornikowy (16)% powyzej rowkowego otworu (9), umieszczonego rów¬ nolegle do osi walka (16) w pokladzie, osa¬ dzony jest obrotowo z moznoscia wysoko¬ sciowego przestawiania w jednym i tym sa¬ mym miejscu, oraz zaopatrzony jest w zgar¬ niacz lob przyciskacz dla odksztalcalnego materialu (5), który znajduje sie w ramie (11), przesuwanej na podkladzie (8). 12. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze przewidziane w podkladzie (8) rowkowe otwory (9) sa zaopatrzone w zasuwy zamy¬ kajace (25), które wyposazone sa w siegaja¬ ce az poza górna 'powierzchnie trzpienie uruchamiajace (26) z guzikami (27), a wa¬ lek wzornikowy (16) wyposazony jest w sty¬ kajacy sie z podkladem (8) pierscien (28), przeznaczony do uruchamiania tych zasuw (25). 13. Urzadzenie wedlug zastrz. 8, znamienne tym, ze wyposazone jest w plyte denna (29), zaopatrzona w równolegla do osi walka (16) szdaeline (30), która to pily*ta umieszczona jest pomiedzy nieruchomym podkladem (8) a oditósztalcaltoa maisa (5), przy czym prze- wildkaiama w plycie dennej {29) szczelina (30) znajduje sie ponizej walka (16), a walek ten przesuwany jest razem z plyta denna (29) wzgledem utrzymywanego w stanie spoczyn¬ ku, zwlaszcza za pomoca ramy (U), od¬ ksztalcalnego materialu (5), i to w tym sa¬ mym kierunku i z ta sama predkoscia. Rupert Nikoll . Zastepca: inz. Zbigniew Kaminski rzecznik patentowy vIo ofpiisu paitenltoiwego nr 46691 Ark. 1 F~iQ.3 7,6-. F-jg.7 15-3*13, ,14 _Do opisu patentowego nr 46691 Ank. 2 2959. RSW „Prasa';, K!ch: I FT 1 *-. i? \ f'^ "J" * PL