PL452950A1 - Sposób i urządzenie do kalibracji wzorców wielokątnych - Google Patents

Sposób i urządzenie do kalibracji wzorców wielokątnych

Info

Publication number
PL452950A1
PL452950A1 PL452950A PL45295025A PL452950A1 PL 452950 A1 PL452950 A1 PL 452950A1 PL 452950 A PL452950 A PL 452950A PL 45295025 A PL45295025 A PL 45295025A PL 452950 A1 PL452950 A1 PL 452950A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
passes
reflected
quarter
wave plate
mirror
Prior art date
Application number
PL452950A
Other languages
English (en)
Inventor
Olga Iwasińska-Kowalska
Ahmad Khamaysa
Marek Dobosz
Original Assignee
Politechnika Warszawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Warszawska filed Critical Politechnika Warszawska
Priority to PL452950A priority Critical patent/PL452950A1/pl
Publication of PL452950A1 publication Critical patent/PL452950A1/pl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02—Interferometers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest sposób i urządzenie do kalibracji wzorców wielokątnych. Sposób kalibracji wzorca wielokątnego (1), umieszczonego na stole obrotowym (2) z użyciem jednoosiowego interferencyjnego czujnika odchyleń kątowych (3), w którym w pierwszym etapie wiązka transmitowana (7) przechodzi przez przepuszczającą światło otwartą przesłonę (13) wiązki transmitowanej i padając na pierwsze zwierciadło (11) wzorca wielokątnego (1) odbija się od niego i ponownie przechodzi przez otwartą przesłonę (13), płytkę ćwierćfalową (9) wiązki transmitowanej, po czym odbijana jest przez rozdzielacz wiązki (6), i przechodzi przez płytkę ćwierćfalową (14) i wprowadzana jest do jednoosiowego interferencyjnego czujnika odchyleń kątowych (3), przy czym w tym czasie wiązka odbijana (8) jest przesłaniana przesłoną (15), a w drugim etapie wiązka odbita (8) przechodzi przez płytkę ćwierćfalową (10), przepuszczającą światło otwartą przesłonę (15) i kierowana jest zwierciadłem (16) na drugie zwierciadło (12) wzorca wielokątnego (1), od którego się odbija, a następnie odbijana jest przez zwierciadło (16) i przechodzi przez otwartą przesłonę (15), przechodzi przez płytkę ćwierćfalową (10), transmitowana jest przez rozdzielacz wiązki (6) przechodzi przez płytkę ćwierćfalową (14) i wprowadzana jest do jednoosiowego interferencyjnego czujnika odchyleń kątowych (3), przy czym w tym czasie wiązka transmitowana (7) jest przesłaniana przesłoną (13).
PL452950A 2025-08-18 2025-08-18 Sposób i urządzenie do kalibracji wzorców wielokątnych PL452950A1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL452950A PL452950A1 (pl) 2025-08-18 2025-08-18 Sposób i urządzenie do kalibracji wzorców wielokątnych

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL452950A PL452950A1 (pl) 2025-08-18 2025-08-18 Sposób i urządzenie do kalibracji wzorców wielokątnych

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL452950A1 true PL452950A1 (pl) 2026-05-11

Family

ID=99717285

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL452950A PL452950A1 (pl) 2025-08-18 2025-08-18 Sposób i urządzenie do kalibracji wzorców wielokątnych

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL452950A1 (pl)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PL219676B1 (pl) * 2012-01-27 2015-06-30 Politechnika Warszawska Sposób pomiaru odchyleń kątowych wiązki laserowej i interferometr do pomiaru odchyleń kątowych wiązki laserowej
US20230296743A1 (en) * 2022-03-15 2023-09-21 Hl Klemove Corp. APPARATUS AND METHOD FOR CALIBRATING DISTORTION OF POLYGONAL MIRROR ROTATING LiDAR SENSOR

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PL219676B1 (pl) * 2012-01-27 2015-06-30 Politechnika Warszawska Sposób pomiaru odchyleń kątowych wiązki laserowej i interferometr do pomiaru odchyleń kątowych wiązki laserowej
US20230296743A1 (en) * 2022-03-15 2023-09-21 Hl Klemove Corp. APPARATUS AND METHOD FOR CALIBRATING DISTORTION OF POLYGONAL MIRROR ROTATING LiDAR SENSOR

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7733501B2 (en) Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
CN105612460B (zh) 独立于偏振的干涉仪
CA1321298C (en) Alignment of lithographic system
US20090097008A1 (en) Alignment Method and Apparatus, Lithographic Apparatus, Metrology Apparatus and Device Manufacturing Method
JP6909873B2 (ja) アライメント測定システム
TW201303258A (zh) 照射控制
CN107450287B (zh) 调焦调平测量装置及方法
JP2006237617A (ja) リソグラフィ装置、偏光特性を決定する方法
US20160377995A1 (en) Device and method for positioning a photolithography mask by a contactless optical method
JP2021501309A (ja) 構造を測定するメトロロジ装置、リソグラフィシステム、及び方法
TW200305005A (en) Multi-axis interferometer
JP2005525548A5 (pl)
JPH0743245B2 (ja) アライメント装置
JP7361210B2 (ja) 放射源試験
US20230324164A1 (en) Interferometer system, method of determining a mode hop of a laser source of an interferometer system, method of determining a position of a movable object, and lithographic apparatus
US20060119838A1 (en) Optical measuring apparatus and operating method for an optical imaging system
US6963408B2 (en) Method and apparatus for point diffraction interferometry
US20020067490A1 (en) Pattern inspecting apparatus, pattern inspecting method, aligner, and method of manufacturing electronic device
CN1700101B (zh) 用于投影光刻机的调焦调平传感器
KR101929906B1 (ko) 노광장치 및 노광장치의 정렬 방법
US7329881B2 (en) Charged-particle beam system
TW200615505A (en) Apparatus for measuring displacement
JPH1058173A (ja) レーザ加工装置
US20110128551A1 (en) Interferometric system and method for adjusting a path difference
RU2684435C1 (ru) Установка для калибровки/поверки и способ калибровки средств измерений угла расходимости лазерного пучка