PL45014B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL45014B1
PL45014B1 PL45014A PL4501458A PL45014B1 PL 45014 B1 PL45014 B1 PL 45014B1 PL 45014 A PL45014 A PL 45014A PL 4501458 A PL4501458 A PL 4501458A PL 45014 B1 PL45014 B1 PL 45014B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
monomer
irradiation
intensity
polymer
rays
Prior art date
Application number
PL45014A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL45014B1 publication Critical patent/PL45014B1/pl

Links

Description

Pierwszenstwo: 26 pazdziernika 1957 r. dla zastrz. 1, 5, 6, 7, 10, 11, 12, 13, 14; 31 stycznia 1958 r. dla zastrz. 9, 15, 16, 17, 18, 19; 12 lutego 1958 r. dla zastrz. 20, 21, 22.(Francja) Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwa¬ rzania kopolimerów szczepionych, a zwlaszcza sposób szczepienia polimerów „obojetnych", to znaczy trudnych lub niemozliwych do szcze¬ pienia w glebi.W opisie patentowym nr 41781 opisano spo¬ sób wytwarzania kopolimerów szczepionych, w którym wykorzystuje sie promieniowanie jo¬ nizujace.Wedlug tego sposobu polimer, na którym chce sie dokonac szczepienia poddaje sie na¬ swietlaniu promieniami jonizujacymi i jedno¬ czesnie wprowadza go w zetkniecie, najkorzys¬ tniej w nieobecnosci tlenu, z monomerem zdol¬ nym do polimeryzacji za pomoca wolnych ro¬ dników.Otrzymany kopolimer szczepiony zawiera szkielet lub „trzon" utworzony przez polimer wyjsciowy z lancuchami bocznymi lub „gale¬ ziami" polimerów utworzonych z monomeru wyjsciowego.Kopolimery szczepione posiadaja, na ogól wla¬ sciwosci znacznie rózniace sie od wlasciwosci kopolimerów zwyklych, otrzymanych z tych sa¬ mych monomerów lecz rozdzielonych przypad¬ kowo w lancuchy rozgalezione.Te ostatnie kopolimery maja wlasciwosci po¬ srednie miedzy wlasciwosciami dwóch odpo¬ wiednich homopolimerów, podczas gdy kopoli¬ mery szczepione moga posiadac pewne wlasci¬ wosci kazdego z dwóch skladowych polimerów pozornie odosobnionych. Kopolimery szczepione przedstawiaja wiec klase zwiazków posiada¬ jacych wlasciwosci rózne od wlasciwosci zwy¬ klych tworzyw plastycznych.Promieniowanie jonizujace stosuje sie o du¬ zej energii i o dlugosci fali krótszej od dlugos¬ ci fali swiatla ultrafioletowego: stanowi ono naprzyklad promienie beta, gamma, neutro¬ ny, elektrony przyspieszone, czasteczki ciezkie, promienie X lub tym podobne. Zródlami takich promieni moga byc stosy atomowe akcelerato¬ ry elektronów lub czastek, izotopy rodioaktyw- ne, instalacje rentgenowskie itd.Monomerem wyjsciowym korzystnie mono- meerem winylowym lub dwuwinylowym, moze byc na ogól kazda substancja, wlasciwie mó¬ wiac nawet nie „monomeryczna", zdolna do ulegania polimeryzacji za pomoca wolnych rod¬ ników, takich jajk wytwarzane przez inicjatory klasyczne.Polimer wyjsciowy moze byc w calosci poli¬ merem zdolnym do wytwarzania wolnych rod¬ ników, o ile podda sie go naswietlaniu promie¬ niami jonizujacymi.W celu zapewnienia wyjscia w reakcje z mo¬ nomerem mozna go w tym monomerze rozpus¬ cic, jesli jest rozpuszczalny lub poddac specz¬ nieniu za pomoca monomeru.Jesli stosuje sie polimery wyjsciowe silnie „obojetne" takie na przyklad, które nie zawie¬ raja atomów wodoru, jak to ma miejsce w przy¬ padku polichlorowanych olefin, a w szcze¬ gólnosci policzterofluoroetylenu lub polichloro- trójfluoroetylenu, monomer nie przenika w ma- «e polimeru i mozna tylko, co najwyzej uzys¬ kac szczepienie powierzchowne.W tym przypadku, jakim jest na przyklad szczepienie monomerów winylowych na blo¬ nach policzterofluoroetylenu, ciezar blony w wy¬ niku szczepienia nie wzrasta wiecej niz kilka procent.Wynalazek ma glównie na celu umozliwienie szczepienia, zwlaszcza monomerów winylowych, jednostajnie w masie (lub do pewnej glebokos¬ ci), polimeru „obojetnego", za pomoca naswiet¬ lania promieniami jonizujacymi.Polega on w pierwszym rzedzie na umozli¬ wieniu takiego szczepienia doglebnego przez re¬ gulowanie warunków procesu w ten sposób, zeby predkosc polimeryzacji monomeru w trak¬ cie szczepienia byla nizsza od szybkosci prze¬ nikania monomeru w polimer.W tych warunkach tworzy sie najpierw na powierzchni polimeru warstwa kopolimeru szczepionego, przy czym monomer moze prze¬ niknac te warstwe nawet wtedy, kiedy nie mo¬ ze przenikac w polimer wyjsciowy. Gdy szyb¬ kosc polimeryzacji monomeru jest nizsza od jego szybkosci przenikania w utworzony kopo¬ limer szczepiony, monomer ten przenika w ko¬ polimer szczepiony nie zostajac calkowicie zu¬ zytym przez reakcje szczepienia i homopoli- meryzacji. Inaczej mówiac, szczepienie zapew¬ nia utworzenie warstwy przepuszczalnej dla monomeru, lecz zuzywa w tym celu tylko czesc monomeru, pozwalajac w ten sposób reszcie przejsc przez wymieniona warstwe i znowu czesc tej reszty zostaje z kolei zuzyta do szcze¬ pienia tworzac dalsza przepuszczalna warstwe glebnej i tak dalej, az do wyczerpania mono¬ meru.Produktami typowymi, otrzymywanymi spo¬ sobem wedlug wynalaku sa na przyklad poli¬ mery nie zawierajace atomów wodoru, takie jak policzterófluoroetylen i polichlorotrójfluo- roetylen, szczepione gleboko przez akrylany lub metakrylany metylu, octan lub chlorek wi¬ nylu, akrylonitryl, winylopirolidyne, akryloamid, styren, winylotoluen, butadien, izopren, chloro¬ pren i mieszaniny tych zwiazków lub przez kazdy inny monomer, ulegajacy polimeryzacji za pomoca wolnych rodników.Najwazniejszym warunkiem przeprowadzania sposobu wedlug wynalazku, jest intensywnosc naswietlania promieniami jonizujacymi, której wedlug pierwszego sposobu realizowania wyna¬ lazku daje sie wartosc dostatecznie mala.Rzeczywiscie, gdyby intensywnosc naswietla¬ nia promieniami byla na tyle wysoka, ze szyb¬ kosc zszczepienia bylaby wyzsza od wyzej omówionej szybkosci przenikania, monomer zostalby zupelnie zuzyty w reakcji szczepienia zachodzace) na poczatku przenikania monome¬ ru w powierzchnie polimeru tak, ze szczepie¬ nie byloby ograniczone do strefy powierzchnio¬ wej.Maksymalna intensywnosc naswietlania pro¬ mieniami, przy której szybkosc polimeryzacji lub szczepienia jest jeszcze nizsza od szybkos¬ ci przenikania lub dyfuzji monomeru przez utworzony kopolimer szczepiony, zmienia sie w zaleznosci od charakteru skladników wys- ciowych i warunków prowadzenia procesów ta¬ kich jak: temperatura, grubosc polimeru, wiel¬ kosc jego powierzchni, obecnosc lub nieobec¬ nosc rozpuszczalnika itp.Na przyklad do szczepienia styrenu na blonie z policzterofluoroetylenu w temperaturze 190°C, maksymalna intensywnosc dopuszczalna w ce¬ lu otrzymania jednolitego szczepienia masy za¬ warta jest miedzy 3.500 i 7.000 rentgenów/godz.Optymalna wartosc dla tej intensywnosci w przypadku blony o grubosci 0,1 mm, jest rzedu 3.500 rentgenów/godz., jak wykazuja przy¬ klady nizej podane.Dla kazdego przykladu istnieje wiec optymal-1 na lub „krytyczna" wartosc intensyw&otó - na- — 2swietlania promieniami, ponizej której - stopien szczepienia powoli sie zmniejsza, a powyzej której stopien ten zmniejsza sie gwaltownie i szczepienie wówczas ogranicza sie do powierzch¬ ni polimeru; Widac zatem, ze podczas gdy szybkosc szcze¬ pienia wzrasta regularnie . ze wzrostem inten¬ sywnosci naswietlania promieniami w przy¬ padku zwyklych Warunków szczepienia przez naswietlanie promieniami dla palimerów latwo ulegajacych szczepieniu w glebi, osiagnieto spo¬ sobem wedlug wynalazku wynik zupelnie nowy i nieoczekiwany, dzieki temu, ze istnieje in¬ tensywnosc krytyczna, powyzej której jest ma¬ lo mozliwe osiagniecie jednolitego szczepienia w masie obojetnego polimeru i ze w celu uzyskania szczepienia bardziej pelnego nalezy operowac intensywnoscia zblizona do intensyw¬ nosci krytycznej.Inny sposób dzialania na intensywnosc na¬ swietlania promieniami jonizujacymi polega wedlug wynalazku, na nadaniu jej normalnie wartosci wyzszej od wartosci krytycznej i zmniejszaniu periodycznie tej wartosci poni¬ zej wartosci krytycznej lub na przerywaniu periodycznym naswietlania promieniami.W ten sposób, zespól polimer — monomer mo¬ ze byc poddawany naswietlaniu promieniami o intensywnosci wyzszej od wartosci krytycznej, trwajacymi przez krótki okres czasu, nastep¬ nie intensywnosc naswietlania promieniami zostaje zmniejszona do wartosci nizszej od war¬ tosci krytycznej (lub nawet anulowana) przez okres ezasu wystarczajacy do umozliwienia prze¬ nikania monomeru w polimer czesciowo lub powierzchownie szczepiony, po czym zespól ten poddaje sie na nowo naswietlaniu promienia¬ mi o intensywnosci wyzszej itd. W tych warun¬ kach przenikanie monomeru w polimer czes¬ ciowo szczepiony jest uprzywilejowane w cza¬ sie przerw w naswietlaniu promieniami lub w czasie slabego naswietlania i mozna stoso¬ wac inetnsywnosc naswietlan promieniami wyz¬ sza, niz gdy zespól poddaje sie w sposób cia¬ gly naswietlaniu promieniami o stalej inten¬ sywnosci.Optymalny czas trwania okresów naswietla¬ nia promieniami i przerw (lub zmniejszania) intensywnosci moze byc wyznaczony empirycznie dla kazdego poszczególnego przypadku. Tenczas trwania moze byc jednakowy lub niejednako¬ wy, moze wzrastac lub zmniejszac sie w trakcie procesu. Pierwsze naswietlanie promieniami mu¬ si byc jednak dostatecznie dlugie w celu zapo¬ czatkowania szczepienia na powierzchni poli¬ meru. Podczas pierwszej przerwy (lub zmniej¬ szenia) naswietlania monomer musi miec czas na przenikniecia przez warstwe szczepiona.Czas trwania naste£fiych okresów naswietla¬ nia promieniami musi byc wystarczajaco dlugi, zeby monomer przeniknawszy nowa warstwe mógl byc szczepiony, a okresy kolejnych przerw (lub zmniejszenia) musza byc wystarczajace, aby pozwolic na przenikanie monomeru przez w ten sposób wytworzony szczepiony kopolimer.Taki proces mozna przeprowadzic w sposób ciagly przestawiajac zespól polimer — mono¬ mer przed zródlem promieni jonizujacych wedlug scisle okreslonego cyklu.Szczepienie na ogól prowadzi sie w srodo¬ wisku bardzo lepkiego polimeru, tak ze wzrost lancuchów polimerów, których szczepienie zosta¬ lo zapoczatkowane, moze postepowac dalej pod¬ czas stosunkowo dlugiego czasu po przerwaniu naswietlania. W przypadku naswietlania przery¬ wanego wspomniane lancuchy moga wzrastac dalej podczas przerw w naswietlaniu, przy czym ta sama dawke naswietlania moze byc szczepiona na polimerze wyjsciowym o wiele wieksza ilosc momomeru. Otrzymuje sie wiec wynik zadzi¬ wiajacy, ze stopien szczepienia przy duzej inten¬ sywnosci naswietlania jest dla danego ezasu przebiegu procesu znaczniejszy, gdy naswietla¬ nie promieniami jest przerywane, niz gdy na¬ swietlanie prowadzi sie sposobem ciaglym.Innym warunkiem prowadzenia procesu, na który mozna wplywac jest temperatura trakto¬ wania.Tak wiec zdefiniowana wyzej wartosc krytycz¬ na intensywnosci naswietlania promieniami wzra¬ sta, gdy zwieksza sie temperature i na przy¬ klad blona z policzterofluoroetylenu o gru¬ bosci 0,1 mm moze byc szczepiona w calej ma¬ sie nawet przy intensywnosci* wyzszej od 7000 rentgenów/godz., jezeli temperatura procesu jest wyzsza od temperatury 19°C (patrz przyklad XXX — XXXII).Niezaleznie od wplywu na wartosc intensy¬ wnosci „krytycznej", podwyzszenie temperatu¬ ry wywoluje zwiekszenie szybkosci dyfuzji mo¬ nomeru w polimer.Jest to specjalnie korzystne w przypadku, gdy stosuje sie przerywane naswietlanie pro¬ mieniami zwlaszcza, jesli pragnie sie naswie¬ tlac promieniami w niskiej temperaturze, po¬ niewaz jest mozliwe ograniczenie wzrostu tem¬ peratury w okresie przerwy, tego rodzaju prze^ bieg pozwala na unikniecie niepozadanego zwiekszenia szybkosci homopilimeryzacji przez naswietlanie, bedacego skutkiem wspomniane- - 3 —go* wzrostu temperatury. Korzystnym spo¬ sobem przeprowadzenia tego przebiegu jest pod¬ dawanie naswietlaniu polimeru czesciowo szcze¬ pionego, specznionego przez monomer, lecz bez jego nadmiaru, w temperaturze stosunkowo niskiej, * przy dawce naswietlania dostatecznej do wywolania' szczepienia obecnego monomeru* Nastepnie tak potraktowany polimer zanurza sie w kapieli z monomeru, na przyklad o tem¬ peraturze okolo 40 — 80°C, co prowadzi do gwaltownego specznienia polimeru przez mono¬ mer i cykl ten powtarza sie w sposób opisany.Jeszcze innym czynnikiem, który moze wply¬ wac ha przebieg procesu jest obecnosc rozpusz¬ czalnika. Mozna uzywac rozpuszczalnika zdolne¬ go do zwiekszania szybkosci dyfuzji monomeru przez utworzony kopolimer szczepiony i (albo) zmniejszania szybkosci polimeryzacji monome¬ ru, • co pozwala na stosowanie intensywnosci naswietlania o wartosciach wyzszych od wartos¬ ci, które mozna stosowac w nieobecnosci roz¬ puszczalnika.Na ogól rozpuszczalnik odpowiedni do prze¬ prowadzania sposobu wedlug wynalazku jest produktem, w - którym monomer jest co naj¬ mniej czesciowo rozpuszczalny, na przyklad w ilosci co najmniej 1—3°/t swojego ciezaru, przy czym ten produkt jest zasadniczo obojetny wo¬ bec polimeru, który ma byc szczepiony i nie moze zachowywac sie inaczej niz jako roz¬ cienczalnik monomeru. Takimi rozpuszczalnika¬ mi sa: woda i srodowiska wodne, weglowodory, aminy, alkohole, estry, etery, ketony itd.Gdy monomery wyjsciowe maja bardzo sla¬ ba szybkosc przenikania przez utworzony Ko¬ polimer szczepiony, to znaczy jesli kopolimer szczepiony jest stosunkowo nierozpuszczalny w monomerze wyjsciowym, mozna stosowac rozpuszczalniki, które zwiekszaja rozpuszczalnosc kopolimeru szczepionego, na przyklad rozpusz¬ czalniki zawierajace grupy, których polarnosc odpowiada polarnosci kopolimeru szczepionego i grupy, których polarnosc odpowiada polarnosci monomeru.— A wie£ moze byc korzystnym stosowanie rozpuszczalnika silnie polarnego, takiego jak formamid, dwumetyloformamid, nitryle itd.Rozpuszczalnikami zmniejszajacymi szybkosc homopolimeryzacji monomeru przez naswetla- nie promieniami jonizujacymi sa na przyklad zwiazki, które zawieraja rdzenie aromatyczne takie jak weglowodory, alkohole; estry, etery, ketony, aminy itd. aromatyczne.Tytulem przykladu zestawów monomer — roz¬ puszczalnik mozna wymienic metakrylan mety¬ lu w octanie metylu, benzenie lub toluenie, akrylonitryl w dwumetyloformanidzie, styren w toluenie lub w benzenie, butadien w benze¬ nie i winylopirolidon w wodzie. « Nie ma ograniczen jesli chodzi o stezenie mo¬ nomeru w roztworach, lecz korzystnie jest zeby zawartosc monomeru byla wystarczajaca, azeby czas trwania szczepiania nie byl za dlugi.Granice strefy optymalnej obejmujace war¬ tosc krytyczna intensywnosci naswiatlania pro¬ mieniami mozna oznaczyc na przyklad prze¬ prowadzajac próby w okreslonych warunkach prowadzenia procesu, nastepnie powoli zmniej¬ szajac intensywnosc naswietlania az do otrzy¬ mania szczepienia na pozadanej glebokosci.Calkowite dawki naswietlania promieniami konieczne do uzyskania wysokiego stopnia szcze¬ pienia sa na ogól stosunkowo male; wahaja sie one na przyklad miedzy 10.000 a 5 miliona¬ mi rentgenów, jakkolwiek w"* pewnych przy¬ padkach moga one byc znacznie wyzsze.Gdy monomer z rozpuszczalnikiem lub bez roz¬ puszczalnika przeniknal az do pozadanej glebo¬ kosci pod wplywem naswietlania promieniami o stosunkowo slobej intensywnosci mozna in¬ tensywnosc te zwiekszyc nawet ponad wartosc krytyczna tak, aby szybkosc szczepiania za¬ sadniczo zwiekszyc Szczepienie nastapi az do glebokosci osiagnietej przez monomer w mo¬ mencie, gdy intensywnosc zostaje powiejksaona.W ten sposób mozna na przyklad naswietlac promieniami o slabej intensywnosci az do za¬ poczatkowania szczepienia w calej masie po¬ limeru podstawowego. Kopolimery szczepione specznione przez monomer moga byc nastepnie poddane naswietlaniu o intensywnosci wyzszej tak, aby zakonczyc reakcje szczepienia.Azeby przeprowadzic ten proces mozna umiescic zespól polimer — monomer w pew¬ nej uprzednio oznaczonej odleglosci od zród¬ la naswietlania, a nastepnie stopniowo zbUV zac to zródlo do wymienionego zespolu lub odwrotnie, naswietlanie promieniami rozpoczy¬ na sie o intensywnosci bardzo slabej, stopnio¬ wo wzrastajacej, osiagajacej najwieksza .swoja wartosc — na koncu procesu w chwili, gdy zródlo naswietlania jest najbardziej zblizone do zespolu poddawanego reakcji.Postepujac zgodnie z wynalazkiem otrzymu¬ je sie kopolimer szczepiony, o ciezarze wielo¬ krotnie wyzszym od polimeru wyjsciowego.Szczepienie mozna przeprowadzic jednostajnie w calej - masie polimeru wstepnie¦ uksztaltowa¬ nego, zwiekszajac wszystkie trzy wymiary poli- .— 4 —meru bez zmieniania jego zewnetrznego ksztal¬ tu geometrycznego.Aczkolwiek ciezar i wymiary polimeru wyj¬ sciowego moga wzrastac w duzym stopniu bez zamieniania jego ksztaltu zewnetrznego, istnie¬ je jednak na ogól granica tego wzrastania, której nie nalezy przekraczac, gdyz kopolimer szczepiony moze sie rozpasc co najmniej czes¬ ciowo, jesli wymienione wzrastanie jest zbyt znaczne, zwlaszcza w czasie przemywania prze¬ prowadzonego w celu usuniecia homopolimeru utworzonego w tym samym czasie co kopoli¬ mer szczepiony; tak na przyklad w przypadku szczepienia styrenu z policzterofluorotylenem mozna obserwowac taki rozpad, gdy ciezar otrzymanej substancji szczepionej osiagnie war¬ tosc dziesiec razy wieksza od wartosci polimeru wyjsciowego.Monomer wyjsciowy wybiera sie najkorzyst¬ niej sposród tych, których szybkosc homopoli- meryzacji nie jest zbyt duza przy naswietlaniu promieniami jonizujacymi w stosunku do ich szybkosci przenikania przez utworzony kopo¬ limer szczepiony, w przeciwnym razie wartosc krytyczna intensywnosci naswietlania moze byc w praktyce za slaba. W przypadku uzycia ta¬ kich polimerów moze byc korzystnym stosowa¬ nie rozpuszczalnika, jak na przyklad benzenu mogacego zmniejszyc szybkosc polimeryzacji Przy raz zapoczatkowanym szczepieniu az do pewnej glebokosci szybkosc homopolimeryzacji jest mniej krytyczna tak, ze moze byc mozli¬ wym, w rozpatrywanym przypadku prowadze¬ nie dalej reakcji z monomerem czystym.Tworzenie kopolimeru szczepionego moze byc prowadzone w sposób opisany wyzej w paten¬ cie nr 41781 z wyjatkiem tego co dotyczy szcze¬ gólnego regulowania warunków procesu spre¬ cyzowanych wyzej. Tak wiec monomer moze byc ciekly lub w roztworze, a polimer pod po¬ stacia produktu gotowego lub pólproduktu jak np. pretów, sztabek, rurek, plytek, blon, wy¬ robów pelnych lub wydrazonych, w postaci ziarna, granulek lub proszku, jak na przyklad proszek do ksztaltowania lub w postaci przed¬ miotów ksztaltowanych, wlókien itp.Na ogól najlepsze wyniki otrzymuje sie pro¬ wadzeniem szczepienia w nieobecnosci tlenu i w prózni Oczywiscie temperatura procesu powinna byc nizsza od temperatury rozkladu kazdego ze skladników.Produkty otrzymywane sposobem wedlugwy¬ nalazku posiadaja wiele ciekawych wlasciwos¬ ci Na przyklad blony z policzterofluóroetylenu szczepionego styrenem wykazuja dobre przy¬ leganie przy nakladaniu na plyte polistrenu za pomoca goracej plyty zelaznej. Takie blony szczepione w masie miekna bez rozplywania sie powyzej temperatury miekniecia polistyre¬ nu; te wlasciwosc mozna wykorzystac przy ksztaltowaniu w prózni.Jezeli polistyren szczepiony na policztero- fluoetynie jest sulfonowany mozna utworzyc z tego szczepionego w klasyczny sposób pro¬ duktu blone pólprzepuszczalna do wymiany jo¬ nów, blone której szkielet z policzterofluoro- teyienu posiada doskonala wlasciwosc, miano¬ wicie odpornosc na czynniki chemiczne.Wazna korzysc wynalazku polega na uzyska¬ niu zupelnie nowej grupy produktów szczepio¬ nych, otrzymywanych przez szczepienie polime¬ rów, których dotychczas nie mozna bylo szcze¬ pic w glebi. Te produkty posiadaja na przyklad pewne pozadane wlasciwosci podstawowego po¬ limeru, takie jak obojetnosc chemiczna i (lub) odpornosc i (lub) rozpuszczalnosc, nie posiada¬ jac juz pewnych mniej pozadanych wlasciwos¬ ci tego polimeru, takich jak brak rozciagliwos¬ ci lub jego niezdolnosc do ksztaltowania. A wiec kopolimery szczepione gleboko, otrzymane spo¬ sobami opisanymi w przykladach podanych ni¬ zej, wykazuja obojetnosc chemiczna, odpornosc i wlasciwosci izolacyjne swoich polimerów pod¬ stawowych, bedac przy tym zdatnymi do ksztal¬ towania na goraco, co nie jest mozliwe w przy¬ padku samych polimerów. Na przyklad blona z kopolimeru szczepionego utworzonego z poli¬ styrenu i teflonu (policzterofluóroetylenu) otrzymanego wedlug przykladu III i zawierajaca okolo 58*/t wagowych polistyrenu wykazuje nie- rozpuszczalnosc teflonu w rozpuszczalnikach ta¬ kich jak: cykloheksan, 40^/t formaldehyd, 90"/*- owy alkohol etylowy, alkohol metylowy, kwas octowy, kwas mrówkowy, dwumetyloformamid, bezbarwny olej mineralny, frakcje olejów sma¬ rowych, frakcje benzynowe, stezony kwas siar¬ kowy, kwas solny, 20?/»-owy kwas azotowy, 30%-owy wodorotlenek sodowy i amoniak, po¬ zostajac jeszcze zdolna do specznienia przez czynniki speczniajace, takie jak aceton, octan etylu, eter, metyloetyloketon, octan metylu, chlorek metylu, trójchloroetylen i benzen, przy czym dzialanie tych rozpuszczalników bylo wypróbowane przez pozostawienie ich w zetknie¬ ciu z blona przez 30 dni w temperaturze poko¬ jowej.Podczas gdy teflon nie mieknie ani nie top¬ nieje przed tym, zanim temperatura jego nie - 5 -osiagnie temperatury okolo 400—450°C, pro¬ dukt szczepiony zaczyna mieknac w temperatu¬ rze okolo 160°C i mozna go ksztaltowac na wszystkie pozadane postacie w tej tempera- aurze lub w temperaturach wyzszych, na przy¬ klad w postaci folii lub Mon, klasycznymi spo¬ sobami ksztaltowania. W ten sposób mozna otrzymywac wyroby ksztaltowane, takie jak na przyklad naczynia przemyslowe, wykazujace wiele wlasciwosci obojetnosci teflonu w sto¬ sunku do rozpuszczalników. Teflon szczepiony 56V»-ami polistyrenu posiada wybitne wlasci¬ wosci dielektryczne teflonu i mozna go stoso¬ wac do celów izolacji elektrycznej i tym po¬ dobnych, poniewaz mozna go latwo ksztalto¬ wac w pozadana postac lub nawet wokolo prze¬ wodów elektrycznych. Blona o grubosci okolo 0,12 mm posiada na przyklad odpornosc die¬ lektryczna wystarczajaca do wytrzymywania 15.000 woltów przy 10 miliamperach.Wedlug odmiany sposobu wedlug wynalaz¬ ku mozna stosowac produkt czesciowo szczepio¬ ny. Tak jest w przypadku produktu otrzymywa¬ nego w przykladzie II (teflon czesciowo szcze¬ piony przez styren); powierzchnia kopolimeru posiadajac niska temperature miekniecia, moze byc dostatecznie zmiekczona przez ogrzewanie, azeby umozliwic przyklejenie jej pod cisnie¬ niem do innej powierzchni, na przyklad do plytki polistyrenu, przy czym powierzchnia tej plytki w ten sposób zostaje ulepszona. Zamiast polistyrenu mozna uzyc innych powierzchni, którym pragnie sie nadac ulepszone wlasci¬ wosci, takich jak drzewo, metal, kamienie, szklo itd.Interesujacym zastosowaniem jest nakladanie blon odpornych na korozje i scieranie, na przy¬ klad teflonu szczepionego na metale.Zmiana kopolimeru szczepionego w odnie¬ sieniu do jego zdolnosci ulegania specznieniu przez niektóre rozpuszczalniki jest wazna, po¬ niewaz pozwala na stosowanie substancji za¬ wierajacych te rozpuszczalniki do wielu róz¬ nych celów — takich jak drukarstwo, farbiar- stwo, klejenie, W ten sposób teflon szczepiony 58^/o-ami poli¬ styrenem, moze byc zadrukowany lub barwio¬ ny farba drukarska lub roztworem farby z do¬ datkiem jednego lub wiekszej liczby rozpuszczal ników wyliczonych wyzej, zdolnych do specz¬ nienia szczepionego teflonu. Wspomniany ko¬ polimer szczepiony moze byc tak samo zwia¬ zany z innymi produktami za pomoca klasycz¬ nych kleiw przy uzyciu jako dodatkowego roz¬ puszczalnika, jednego z tych zwiazków, które sa wstanie zapewnic wyzej wspomniane dzia¬ lanie speczniajace.Ponizej podano kilka przykladów wyjasnia¬ jacych zastosowanie w praktyce wynalazku, na turalnie bezograniczenia go. W tych przykladach intensywnosc promieni gamma mierzona Jest za pomoca dozymetru z siarczanu zelazowego przyjmujac jako wydajnosc radiochemiczna utleniania wartosc G (Fe3*) = 15,5. W przykla¬ dach od I do XXIX, naswietlanie promieniami prowadzi sie w temperaturze 19%, a zródlo stanowi kobalt — 60 o 18 curie. W przykladach od XXX — XXXIV jako zródlo naswietlania promieniami stosuje kobalt — 60 o 200 curie.Przyklady: I, X, XI, XIV, XVIII, XXII, XXV i XXVII odnosza sie do prób przeprowadzonych z intensywnoscia naswietlania promieniami le¬ zaca poza strefa krytyczna.Przykad I. Blone z policzterofluoroetyle- nu (teflon) o grubosci 1 mm wprowadzono do rurki szklanej trudno topliwej i nie tlukacej sie, znanej pod nazwa handlowa „pyrex"i za¬ topiono pod próznia z 6 cm3 styrenu. Te rur¬ ke naswietlano promieniami y o intensywnosci 2160 rentgenów/godzine, az do osiagniecia calej dozy 194000 rentgenów.Nastepnie ampulke otworzono i blone wyjeto, przemyto trzykrotnie benzenem i badano. Po¬ wierzchnia stala sie bardzo chropowata i przed¬ stawiala male chropowatosci dosc regularnie rozlozone. Zwiekszenie ciezaru blony bylo bar¬ dzo slabe: okolo 4*/V Przyklad II. Blone z policzterofluoróety- lenu o grubosci 0,1 mm wymiarach 5,5x6,0 cm zwinieto i zatopiono pod próznia w rurce „pi- rex'owej" z 7 cm* styrenu w ten sposób, ze blona byla zmoczona monomerem do wysokosci okolo 3 cm, przy czym czesc wyzsza blony nie byla zmoczona przez monomer. Nastepnie rur¬ ke te naswietlano promieniami y o intensyw¬ nosci 1120 r/godz., az do dawki 11000 r. Czesc blony, która byla zanurzona w monomerze róznila sie od czesci nie zmoczonej, poniewaz byla ona bielsza, bardziej sztywna i znacznie zwiekszyla swa powierzchnie, wymiar szerokos¬ ci 5,5 cm powiekszyl sie do 6,5 cm. Z tej blo¬ ny wycieto wzdluz jej wysokosci paseczek sze¬ rokosci 10 mm w taki sposób, ze zawieral on zarówno czesc dolna silnie szczepiona oraz czesc górna blony i paseczek ten nalozono na plytke z polistyrenem przez spreparowanie goracym zelazem Czesc silnie szczepiona wykazala dobre przyleganie do plytki z polistyrenu, podczas gdy czesc wyzsza przylegala zaledwie w paru punktach. Kawalek tej samej blony z poli- — 6. —czterofluoroetylenu nie naswietlony promie¬ niami, potraktowany w ten sposób, nie wykazal zadnego ' przylegania . do plytki z polistyrenu.Ten wynik wskazuje, ze czesc wyzsza blony, która nie byla zanurzona w styrenie mimo to ulegla lekkiemu szczepieniu moze wskutek dzialania par styrenu.W przykladach III — XXI i XXV — XXIX stosowano male kawalki blony z policztero- flurbetylenu odciete od blony o grubosci 0,1 mm nozem szewskim. Te odcinki blony mierzyly 8x 15 mm. Blony te zatapiano pod próznia z 3-^5 cm3 styrenu i naswietlano promieniami Pr zy k la d III. Kawalek blony z policztero- fluoroetylenu o ciezarze 0,0278 g, zatopiono pod próznia z 3 cm3 styrenu i naswietlano promienia¬ mi o 1220 r/godz az do dawki 131000 r. Blona ta znacznie zwiekszyla swoje wymiary, zacho¬ wujac scisle ksztalt konturów poczatkowych.Po wysuszeniu <•ta szczepiona blona mierzyla 10 x 18 mm i wazyla 0,0532 g. Absorbowala ona benzen w ilosci 12°/o w stosunku do swe¬ go ciezaru w zwyklej temperaturze.Przyklad IV. Inny kawalek blony, wa¬ zacy 0,0320 g naswietlano z intensywnoscia 1220 r/godz. az do dawki 195000 r. Ta blona wysuszona mierzyla 12 x 23 mm i wazyla 0.1055 g.Zachowala ona wszystkie szczególy struktury blony poczatkowej.Przyklad V. Kawalek blony wazacy 0,0308 g byl naswietlany promieniami z intensywnosci 350 r/godz. az do dawki 80000 r. Ta blona osu¬ szona mierzyla 11x20 mm i wazyla 0,0735 g.Przyklad VI. Kawalek blony . wazacy 0,Q316 g naswietlano promieniami' z intensyw¬ noscia 350 r/godz. az do dawki 69000 r. Ta blona osuszona wazyla 0,0564 g.Przyklad VII. Kawalek blony wazacy 0,0300 g naswietlano promieniami z intensyw¬ noscia 103 r/godz az do dawki 23500 r. Ta blo¬ na osuszona wazyla 0,0364 g.P r z y k la d VIII. Kawalek blony wazacy 0,0308 g. naswietlano promieniami z intensyw¬ noscia 51,5 r/godz. az do dawki 17600 r. Ta blpna wazyla po osuszeniu 0,0356 g.Przyklad IX. Kawalek blony wazacy 0,0326 g. przede wszystkim naswietlano pro¬ mieniami o intensywnosci 51,5 r/godz^ az do dawki 17600 r. Nastepnie ampulke szklana, za¬ wierajaca te blone naswietlano promieniami o intensywnosci 22000 r/godz. az do dawki 440000 r. Blona ta mierzyla 9x16 mm i wazy¬ la 0,0564 g. jej grubosc znacznie wzrosla.PrzykladX. Kawalek blony wazacy 0,0268 g. najpierw naswietlano promieniami o intensyw¬ nosci 22000 r/godz. - Zadnej zmiany wygladli tej blony nie zaobserwowano, nawet po osiaga nieciu dawki 2,5 megardntgenów. Ampulke wiec otworzono, blone wysuszono i zwazono.Ciezar jej wynosil 0,0318 g. Jej powierzchnia nie byla zmieniona, lecz grubosc lekko sie powiekszyla i blona byla bardziej sztywna niz na poczatku.Przyklad XI. Kawalek blony wazacy 0,0244 g. naswietlano promieniami o intensyw¬ nosci 7000 r/godz. az do dawki 380000 r. Blo¬ na ta wykazywala nieregularne narosle, lecz jej kontur zewnetrzny nie byl prawie wcale zmie¬ niony. Po wysuszeniu wazyla ona 0,0380 * g.Przyklad XII. Kawalek blony wazacy 0,0274 g. naswietlano promieniami' o intensyw^ nasci 2160 r/godz. az do dawki 340000 r. Po wysuszeniu, blona ta wazyla 0,0958. Jej po¬ wierzchnia wybitnie zwiekszyla sie bez zmia¬ ny jej zewnetrznego konturu.Przyklad XIII. Kawalek blony wazacy 0,0304 g. naswietlano promieniami o 103 r/godz. az do dawki 46500 r. Ta blona miala po wysu¬ szeniu wymiary 10 x 19 mm i wazyla 0,665 g.Przyklad XIV. Kawalek blony wazacy 0,0254 g. naswietlano promieniami o 7.000 r/godz. az do dawki 1740000 r. Powierzchnia tej blony byla bardzo guzowata i posiadala liczne na¬ rosla. Blona ta miala wymiary 9x16 i wazyla •0,0550 r.Przyklad XV. Kawalek blony wazacy 0,0254 g. naswietlano promieniami o 3560 r/godz. az do dawki 268000 r. Ta blona mierzyla 12x22 mm i wazyla 0,0802 g.Przyklad XVI. Kawalek blony wazacy 0,0252 g naswietlano promieniami o 3560 r/godz. az do dawki 880000 r. Powierzchnia tej blony znacznie sie powiekszyla, lecz blona zdefor¬ mowala sie i przedstawiala kilka narosli prze¬ zroczystych. Jej dlugosc byla równa 29 mm a szerokosc rzedu 15 mm. Blona ta wazyla 0,2335 g.Przyklad XVII. Kawalek blonjr wazacy 0,0248 g naswietlano promieniami o 2160 r/godz. az do dawki 390000 r. Ta blona mierzyla 14 x 26 mm i wazyla 0,125 g.Przyklad XVIII. Kilka kawalków folii policzterofluoroetylenu o grubosci 0,1 mm, o wymiarach 8x15 mm i wazacych 0,020 — 0,028 g zatopiono pod próznia w ampulkach zawierajacych styren i poddano ciaglemu na¬ swietlaniu promieniami, których zródlem byl kobalt — 60 o intensywnosci 22000 r/godz.Czas naswietlania wahal sie od 39 do 967 godzin.Po naswietleniu folie przemyto benzenem, wy- — '7 —suszono i zwazono. Zebrane wyniki podano ponizej. Zwiekszenie ciezaru folii przedstawia stostioek ciezaru folii szczepionej P do cieza¬ ru folii poczatkowej Po.Czas naswietlania promieniami P o 22000 r/godz. godz. Po 39 1.13 73 1.20 114 1.21 158 1.24 383 1.26 967 1.26 Te wyniki pokazuja, ze ciagle naswietlanie promieniami o intensywnosci 22000 r/godz. nie pozwala przekroczyc granicy szczepienia odpo¬ wiadajacej P/Po = 1.26, przy uzyciu folii i za¬ chowaniu warunków pracy opisanych wyzej.Przyklad XIX. Folie z policzterofluoro¬ etylenu taka sama jak folia z przykladu XVIII, wazaca 0,022 g, zatopiono pod próznia z 5 cm8 styrenu i naswietlano z przerwami promienia¬ mi o intensywnosci 22000 r/godz. jak podano nizej.Naswietlanie Przerwa ti = 2 godz ti = 1 godz 40 mm tt = 1 godz 40 mm U = 17 godz 10 mm U — 1 godz 30mm te = 1 godz 45 mm tr = 1 godz. 45mm t« = 1 godz. 20 mm ti =1 godz 05mm tio = 15 godz 20 mm tu = 1 godz Czas ogólny trwania naswietlania wynosil wiec 8 godzin, przerwy zas 37,15 godzin. Folia przemyta benzenem, wazyla po wysuszeniu 0,0330 g co odpowiada P/Po = 1.56. Jej budowa byla doskonale jednorodna i mierzyla ona 10x21 mm.P r z y k la d XX. Kawalek blony z polocztero- fluoroetylenu wazacy 0,0215 g i zatopiony pod próznia z mieszanina 2.5 cm8 benzenu naswie¬ tlano promieniami o 22000 r/godz. az do dawki 1,7 megarentegenów. Wymiary tej blony wzro¬ sly. Po osuszeniu mierzyla ona 14 x 24 mm i wazyla '0*0470 g.Przyklad XXI. Inny kawajek blony z policzterofluoroetylenu wazacy 0,0192 g i zato¬ piony pod próznia z mieszanina 2,5 cm8 styrenu 2,5 cm8 benzenu naswietlano promieniami o 7000 r/godz. az do dawki 510000 rentgenów. Po wy¬ suszeniu blona ta mierzyla 13 x 23 mm i wazyla 0,041 g.Przyklad XXII. Folie z polichlorotrój- fluoetylenu (Kel-F) o grubosci 2 mm, wazaca 0,397 g zatopiono pod próznia w ampulce szklan- nej zawierajacej 3 cm3 styrenu. Nastepnie te ampulke naswietlano promieniami o intensyw¬ nosci 1220 rentgenów na godzine az do dawki 3030000 rentgenów.Po naswietleniu fiolia speczniala nieregular¬ nie, objetosc warstwy zewnetrznej powiekszy¬ la sie wiecej niz warstwy srodkowej folii i cie¬ zar folii po wysuszeniu wynosil 0,514 g.Przyklad XXIII. Inna folie z polichloro- trójfluoroetylenu wazaca 0,3816 g zatopiono pod próznia z 3 cm3 styrenu i naswietlano pro¬ mieniami o 350 r/godz. az do dawki 720000 rentgenów. Po tym dzialaniu monomer zostal calkowicie spolmeryzowany i wymiary folii z poliehlorotrójfluoroetylenu znacznie powiek¬ szyly sie. Nastepnie mieszanine ekstrahowano benzenem, który rozpuscil polistyren i w zna¬ cznym stopniu specznil szczepiona folie. Ciezar calkowity folii specznionej w len sposób otrzy¬ manej wynosil 7,041 g. Po wysuszeniu ciezar jej wynosil 1,221 g.Pr zyklad XXIV. Folie taka sama jak w przykladzie XXII, wazaca 0,382 g zatopiono pod próznia w ampulce zawierajacej mieszani¬ ne 2 cm8 styrenu i 2 cms benzenu. Nastepnie ampulke naswietlano promieniami o intensy¬ wnosci 1220 r/godz. az do dawki calkowitej 380000 rentgenów. Folia speczniala jednolicie w calej swojej masie i po wysuszeniu wazyla 0,672 g.Przyklad XXV. Folie z policzterofluoro¬ etylenu o grubosci 0,1 mm mierzaca 8 x 15 mm i wazaca 0,227 g zatopiono w ampulce pod próz¬ nia z 3 cm3 metakrylanu metylu. Nastepnie ampulke te naswietlano promieniami o inte- sywnosci 1,220 r/godz. az do dawki calkowitej 400000 rentgenów. Po tym naswietlaniu wy¬ ciagnieto z ampulki zawarta brylke polimetakry¬ lanu metylu, zawierajaca folie z policzterofluoro¬ etylenu. Na calosc dzialano metyloetyloketonem azeby rozpuscic nadmiar homopolimeru. Mozna bylo w ten sposób wydobyc folie szczepiona, do której przylegala jeszcze warstwa polimeta¬ krylanu metylu. Po wysuszeniu, nadmiar poli¬ metakrylanu metylu mozna bylo oderwac od nosnika przez wielokrotnie powtarzane zagi¬ nanie. W ten sposób otrzymana folia wazyla 0,0231 g. Powierzchnia jej praktycznie nie ule¬ gala powiekszeniu.Przyklad XXVI. Folie taka sama jak w przykladzie XXV, wazaca 0,0219 g zatopiono pod próznia z mieszanina 0,2 cm3 metakrylanu metylu i 2,8 cm3 benzenu. Mieszanine naswietla¬ no promieniami o intensywnosci 1220 r/godz. az do dawki calkowitej 384000 rentgenów.Po wysuszeniu, folia wazyla 0,310 g i mie¬ rzyla 9x17 mm. Budowa jej byla bardzo je- - 8 -dnorodna i byla bardziej biala i twardsza od folii wyjsciowej.Przyklad XXVII. Folie z policzterofluoro- etylenu taka sama jak folia z przykladu XXV, wazaca 0,0228 g zatopiono pod próznia z 5 cm* styrenu i naswietlano promieniami o intensyw¬ nosci 22000 r/godz. az do dawki calkowitej 8400000 rentgenów. Pb przemyciu benzenem i wysuszeniu folia wazyla 0,0287 g. Byla tward¬ sza i grubsza od folii wyjsciowej, lecz jej wy¬ miary z wyjatkiem grubosci nie zmienily sie.Przyklad XXVIII. Folie taka sama jak w przykladzie XXV, wazaca 0,0215 g zatopiono pod próznia z mieszanina 2,5 cm3 styrenu i 2,5 cm8 benzenu, po czym naswietlano ja promieniami o intensywnosci 22000 r/godz. az do dawki 3120000 rentgenów. Po naswietlaniu film wybitnie zwiekszyl swa objetosc. Po prze¬ myciu benzenem i wysuszeniu wazyl 0,0470 g i-mierzyl 14x24 mm Przyklad XXIX Folie z policzterofluro- etylenu taka sama jak folia z przykladu XXV, wazaca 0,0226 g zatopiono pod próznia z mie¬ szanina 2,5 cm8 styrenu i 2,5 cm8 benzenu.Nastepnie folie te naswietlano promieniami o intensywnosci 7000 r/godz. az do dawki cal¬ kowitej 1600000 r. Folia ta znacznie powiekszy¬ la sie, wazyla 0,0790 g i mierzyla 15x29 mm.Struktura jej byla doskonale jednorodna.Przyklad XXX. Folie z policzterofluoro- etylenu o grubosci 0,1 mm, wazaca 0,235 g zatopiono pod próznia w ampulce zawieraja¬ cej S cm8 styrenu. Nastepnie ampulke te umie- ssCKmo w kapieli — termostacie o temperatu¬ rze 40°C i naswietlano promieniami o inten- sywnctci 7560 r/godz. az do dawki calkowitej 37800 rentgenów. Po tym naswietlaniu folia lekko powiekszyla sie we wszystkich trzech wymiarach. Byla bielsza od folii poczatkowej, miala wyglad doskonale jednorodny i wazyla po wysuszeniu 0,0280 g. Po dluzszym trzymaniu jej w benzenie rozmiekla i wazyla 0,0293 g.Przyklad XXXI. Taka sama próba jak opisano w przykladzie XXX, zostala przepro¬ wadzona z folia wazaca 0,0225 g. Ta próbka byla naswietlana w temperaturze 40°C promie¬ niami o intensywnosci 7560 r/godz az do calko¬ witej dawki 185000 rentgenów. Po tym naswie¬ tlaniu trzy wymiary folii znacznie powiekszyly sie. Po wysuszeniu wazyla 0,0625 g i wygla¬ dala doskonale i jednorodnie. Po dluzszym trzymaniu jej w benzenie rozmiekla i wazyla 0,0676 g.Przyklad XXXII. Taka sama próbe jak W przykladzie XXX przeprowadzano z folia wazaca 0,0234 g. Te próbke naswietlono w tem¬ peraturze 40°C promieniami o intensywnosci 7560 r/godz az do calkowitej dawki 185000 rentgenów. Po tym naswietlaniu wszystkie trzy wymiary folii znacznie powiekszyly sie. Po dluzszym suszeniu wazyla ona 0,200 g. Po trzy¬ maniu jej przez 48 godzin w benzenie na- miekla i wazyla 0,272 g.Przyklad XXXIII. Folie z policzteroflu- oroetylu o grubosci 0,1 mm, wazaca 0,0205 g zatopiono pod próznia w ampulce zawierajacej 2,8 g izoprenu. Nastepnie ampulke te naswie¬ tlano w temperaturze 20°C z intensywnoscia 24800 r/godz. az do calkowitej dawki 5980000 r.Po tym naswietlaniu wszystkie trzy wymiary folii znacznie powiekszyly sie. Po wysuszeniu wazyla ona 0,0344 g. Folia ta byla bardzo Spre¬ zysta, a jej powierzchnia klejaca Nalozona pod slabym cisnieniem na plytke szklana silnie przylegala. Po trzymaniu jej przez 40 godzin w benzenie, ciezar jej pozostal bez zmiany.Przyklad XXXIV. Taka sama próbe jak opisano w przykladzie XXXIII przeprowadzo¬ no z folia z policzterofluoroetylenu, wazaca 0,0220 g. Te próbke naswietlano promieniami o intensywnosci 248 r/godz. az do calkowitej dawki 34900000 rentgenów. Po naswietlaniu wszystkie trzy wymiary folii znacznie zwie¬ kszyly sie, lecz zatrzymala ona swa wyjsciowa postac geometryczna. Folia ta wazyla 0,244 g.Byla bardzo sprezysta i przezroczysta. Po trzy¬ maniu przez 48 godzin w benzenie próbka ta wazyla 0,269 g. PL

Claims (5)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania kopolimerów szcze¬ pionych przez poddawanie naswietlaniu promieniami jonizujacymi polimeru stano¬ wiacego podstawe do szczepienia w obec¬ nosci monomeru szczepienia, znamienny tym, ze reguluje sie w ten sposób warun¬ ki prowadzenia procesu, aby szybkosc po¬ limeryzacji monomeru byla mniejsza od szybkosci jego przenikania w trakcie szcze¬ pienia w polimer, sam przez sie nie poz¬ walajacy latwo monomerowi na przenika¬ nie.
  2. 2. Z Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie polimer nie posiadajacy ato¬ mów wodoru.
  3. 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako polimer stosuje sie poliolefin.
  4. 4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze jako polimer poliolefinowy stosuje sie — 9 —policlUorowcowany olefin.
  5. 5. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze jako polimer stosuje sie policzterofluoro- etylen, 6. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze jako polimer stosuje sie polichlorotrój- fluoroetylen, 7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako monomer stosuje sie styren. 8. Sposób wedlug zastrz. 1-^6 znamienny tym, ze jako monomer stosuje sie izopren, 9. Sposób wedlug zastrz. 1—6, znamienny tym, ze jako monomer stosuje sie metakryian metylu. 10. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie chwilowa intensywnosc na* swietlania promieniami jonizujacymi sto¬ sunkowo slaba, równa jej wartosci „kry¬ tycznej" lub bliskiej tej wartosci 11. Sposób wedlug zastrz. 5, 7 i 10, znamienny tym, ze prowadzi sie naswietlanie z in¬ tensywnoscia nizsza od okolo 7000 r/godz. 12. Sposób wedlug zastrz. ll# znamienny tym, ze prowadzi sie naswietlanie z intensyw¬ noscia okolo 3500 r/godz 13. Sposób wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze zwieksza sie intensywnosc naswietlania promieniami jonizujacymi az do wartosci wytwarzajacej szybkosc polimeryzacji wyz¬ sza od szybkosci przenikania monomeru, po tym gdy monomer przeniknal do po¬ zadanej glebokosci. 14. Sposób wedlug zastrz, 13, znamienny tym, ze powiekszanie naswietlania przeprowa¬ dza sie zblizajac stopniowo traktowany zespól do zródla naswietlania. 15. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie nonomer w rozpuszczalniku. 16. Sposób wedlug zastrz. 15, znamienny tym, ze stosuje sie rozpuszczalnik zmniejszajacy szybkosc polimeryzacji monomeru. 17. Sposób wedlug zastrz 16, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie weglowo¬ dór aromatyczny. 18. Sposób wedlug zastrz. 17, znamienny tym, ze jako rozpuszczalnik stosuje sie benzen. 19. Sposób wedlug zastrz 15, znamienny tym, ze stosuje sie rozpuszczalnik zwiekszajacy szybkosc dyfuzji monomeru w utworzony kopolimer szczepiony. 20. Sposób wedlug zastrz. 1, zgodnie z którym naswietlanie przeprowadza sie z intensyw¬ noscia taka, ze szybkosc polimeryzacji be¬ dzie wyzsza od szybkosci przenikania mo¬ nomeru poprzez utworzony kopolimer szcze¬ piony, znamienny tym, ze zmniejsza sie okresowo intensywnosc naswietlania az do wartosci dostatecznie niskiej i w czasie dostatecznie dlugim aby pozwolic prze- nikoac monomerowi poprzez utworzony azcaapiony kopolimer. 21. Sposób wedlug zastrz. 20, znamienny tym, ie przerywa sie periodycznie oaswiettoiiie promieniami jonizujacymL . 22. ^»sób wedlug zastrz. 21, znamienny tym, ze powieksza sie temperature traktowanego zespolu polimer — monomer w trakcie pe¬ riodycznych przerw w naswietlaniu. 23. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze pracuje sie w temperaturze wyzszej od temperatury otoczenia, zwlaszcza w tempe¬ raturze 40°C. Centre National de la Recherche Scientif ique Zastepca: mgr Józef Kaminski rzecznik patentowy P.W.H. wzór jedfeoraz. zam. PL/Ke, Czst. zam. 2211 4.V.6l. 100 egz. Al pism. ki. 111. PL
PL45014A 1958-10-18 PL45014B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL45014B1 true PL45014B1 (pl) 1961-08-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3252880A (en) Grafting polymers or copolymers
US3298942A (en) Production of graft copolymers of perhalogenated olefins
US3115418A (en) Process of producing graft polymers and resultant graft polymer
US4589964A (en) Process for graft copolymerization of a pre-formed substrate
GB1581641A (en) Methods of heat treatment of graft copolymer films
HUP0104331A2 (hu) Monomer egységek polimerhez való kapcsolása vizes közegben
US3839172A (en) Radiation grafting of acrylic monomers onto perhalogenated olefin polymeric substrates
US3666693A (en) Sequential graft copolymerization of acid and basic monomers onto a perhalogenated olefin polymer
EP3277747A1 (de) Herstellung eines pmma-schaumstoffs unter verwendung von vernetzern, reglern und treibmitteln
TWI324614B (en) Polymer grafted support polymers
Chapiro et al. Synthesis of permselective membranes by radiation induced grafting of hydrophilic monomers into poly (tetrafluoroethylene) films
US3759738A (en) Graft polymeric substrate
Taher et al. Radiation initiated graft copolymerization of N-vinylpyrrolidone and acrylamide onto low density polyethylene films by individual and binary system
DE3129515A1 (de) Schaeumbare styrolharzmasse und verfahren zu ihrer herstellung
PL45014B1 (pl)
Hegazy et al. Kinetic study of preirradiation grafting of acrylic acid onto poly (tetrafluoroethylene–perfluorovinyl ether) copolymer
Kaur et al. Graft copolymerization of 4‐vinylpyridine and methyl acrylate onto polyethylene film by radiochemical method
Aliev et al. Graft polymerization of acrylic acid onto polycarbonate by the preirradiation method
US3372100A (en) Process for improving the properties of a polymer by cross-linking in the presence of radiation
Hegazy et al. Radiation initiated grafting onto fluoro polymers for membrane preparation II
DE2018607C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Formmassen
DE1495367A1 (de) Pfropfpolymerisate
Zu et al. Cation-exchange membranes by radiation-induced graft copolymerization of monomers onto HDPE
Chaudhari et al. Radiation grafting of methyl methacrylate on radiation crosslinked natural rubber film: Part I. Grafting conditions and grafting yield
US3442780A (en) Grafting of vinyl aromatic monomers onto polychlorotrifluoroethylene with irradiation