W czasie utleniania na przyklad p-ksylenu na kwas p-toluilowy wytwarza sie cieplo reakcji, które mozna odprowadzic z urzadzenia utleniajacego tylko czesciowo z uchodzacym ksylenem wraz z parami wody poreakcyjnej.Jezeli proces ten prowadzi sie przy niskich cisnieniach, wówczas do odprowadzenia resztek ciepla reakcji wystarczy prosta chlodnica plasz¬ czowa. Wraz z rosnacymi cisnieniami wzrasta jednak coraz bardziej procentowy udzial nie odprowadzonego odpowietrzeniem ciepla reakcji tak, ze jezeli ma sie osiagnac maksymalne wykorzystanie komory reakcyjnej koniecznym staje sie stosowanie dodatkowych urzadzen chlodzacych. Równiez obnizenie temperatury utleniania w celu polepszenia wydajnosci pro¬ cesu zwieksza takze te ilosc ciepla na skutek przesuniecia stosunków cisnien czastkowych w powietrzu odprowadzonym.W dotychczas stosowanych w technice du¬ zych urzadzeniach sluzacych do utleniania po¬ wietrzem na przyklad p-ksylenu do odprowa¬ dzania nadmiernego ciepla reakcji, stosuje sie uklady chlodzace umieszczone poza wlasciwym urzadzeniem do utleniania, przez które prze¬ prowadza sie za pomoca pomp obiegowych utleniany material. Sposób ten wymaga stoso¬ wania skomplikowanych i drogich urzadzen, a zwlaszcza przy latwopalnych i lotnych sub¬ stancjach, utlenianych pod cisnieniem i daja¬ cych wysokotopliwe i sklonne do wykrystali¬ zowania produkty, które n,a skutek zatykan, nieszczelnych polaczen kolnierzowych, ciekna¬ cych dlawików oraz szybko scierajacych sie pierscieni uszczelniajacych pomp obiegowychprowadza stale do zaklócen w prowadzonym procesje, kosztów napraw i strat materialo¬ wych. e Stwierdzono, ze-wyzej wymienione wady moz¬ na* usunac, jezeli nadmiar ciepla reakcji be¬ dzie** sie odprowadzac przez specjalny uklad chlodzacy wbudowany w urzadzenie do utle¬ niania o dowolnym ksztalcie i wielkosci apara¬ tów utleniajacych.Na rysunku przedstawiono urzadzenie wedlug wynalazku z ukladem chlodzacym, przy czym uklad ten sklada sie z pionowo ustawionych rurek chlodzacych A, które nie posiadaja spa¬ wanych szwów i które sa polaczone z kolek¬ torami B, przy czym wyloty ich umieszczone poza urzadzeniem utleniajacym i co najmniej z jednej rury obiegowej C z komora wlotowa D sluzaca do wywolywania samoczynnego obiegu utlenianej substancji.Fig. 1 przedstawia schematycznie urzadzenie w przekroju wzdluz osi pionowej; fig. -2 — urzadzenie w przekroju poprzecznym w plasz¬ czyznie wzdluz linii I—I.Stosowanie rurek chlodzacych bez spawanych szwów, a takze zewnetrznych kolektorów daje te korzysc, ze unika sie w ten sposób nie¬ szczelnosci szwów i tym samym koniecznosci spawan przy reperacjach wewnatrz urzadzenia utleniajacego.Uklad chlodzacy np. przy utlenianiu po¬ wietrzem, p-ksylenu zasila sie najkorzystniej odparowywana woda kondensacyjna, poniewaz dzieki temu istnieje mozliwosc dokladnego kie¬ rowania przebiegiem reakcji zaleznie od tempe¬ ratury przez zmiane cisnienia pary i unikniecia wykrystalizowywania wysokotopliwych produk¬ tów utleniania. Do zasilania ukladu chlodza¬ cego moga byc oczywiscie uzyte takze inne od¬ powiednie ciecze, lub tez ich pary.W celu uzyskania w urzadzeniu utleniajacym wymaganego obiegu materialu utlenianego bez pomocy pomp obiegowych i by zapobiec stra¬ caniu sie szczególnie ciezkich substancji, prze¬ widziana jest przynajmniej jedna odpowiednio szeroka rura obiegowa C, przez która przebie¬ gac bedzie material utleniany na zasadzie róz¬ nicy w ciezarze wlasciwym mocno nasyconego powietrzem slupa cieczy i cieczy ubogiej w po¬ wietrze.Wedlug wynalazku zamiast stosowania rury obiegowej C i komory wlotowej D, mozna pra¬ cowac przy stosowaniu jednej pompy obiego¬ wej, która bedzie pobierala w odpowiednim miejscu urzadzenia utleniany material, a w dru¬ gim miejscu urzadzenia bedzie go z powrotem doprowadzala. ¦ Przy stosowaniu urzadzenia wedlug wynalaz¬ ku z wbudowanym wewnetrznym ukladem chlodzacym A w polaczeniu z rura obiegowa C i komora wlotowa D, unika sie nietylko wad zwiazanych z zewnetrznym osadzeniem ukla¬ dów chlodzacych i pomp obiegowych, lecz takze uzyskuje sie mozliwosc pracy przy dokladnie wyznaczonych, mozliwie niskich temperatu¬ rach utleniania, poniewaz cieplo reakcji jest odprowadzane bezposrednio z miejsca jego wy¬ tworzenia i nie ma potrzeby stosowania spadku temperatury na zewnetrznych ukladach chlo¬ dzacych. PL