PL435709A1 - Sposób nanoszenia metodą magnetronową powłok tlenkowych na podłoża oraz powłoki otrzymane tym sposobem - Google Patents

Sposób nanoszenia metodą magnetronową powłok tlenkowych na podłoża oraz powłoki otrzymane tym sposobem

Info

Publication number
PL435709A1
PL435709A1 PL435709A PL43570920A PL435709A1 PL 435709 A1 PL435709 A1 PL 435709A1 PL 435709 A PL435709 A PL 435709A PL 43570920 A PL43570920 A PL 43570920A PL 435709 A1 PL435709 A1 PL 435709A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
magnetron
cathode
vacuum chamber
coatings
vacuum
Prior art date
Application number
PL435709A
Other languages
English (en)
Other versions
PL242483B1 (pl
Inventor
Wiesław DOROS
Przemysław Ząbek
Original Assignee
D.A. Sept Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by D.A. Sept Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością filed Critical D.A. Sept Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority to PL435709A priority Critical patent/PL242483B1/pl
Publication of PL435709A1 publication Critical patent/PL435709A1/pl
Publication of PL242483B1 publication Critical patent/PL242483B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Sposób nanoszenia metodą magnetronową na podłoża powłok tlenkowych, polegający na tym, że w urządzeniu magnetronowym, na systemie planetarnym obrotowym (5) umieszcza się podłoże (4) przeznaczone do napylania odpowiednią powłoką, po czym włącza się zasilacz (3) i sterownik tego urządzenia, a za pomocą dysz rurowych do komory próżniowej doprowadza się gaz nośny typu argon oraz gaz reaktywny typu tlen lub acetylen, bądź też gaz nośno-reaktywny typu tlen, jednocześnie w komorze próżniowej tego urządzenia wytwarza się próżnię, charakteryzuje się tym, że w urządzeniu magnetronowym umieszczone są dwie katody, katoda A (1) oraz katoda B (2), których moc reguluje się niezależnie, od 100 W do 10 KW, dozuje się gazy robocze od 150 cm3/min do 900 cm3/min, próżnia początkowa w komorze próżniowej tego urządzenia wynosi 10-5 i przechodzi do wartości roboczej wynoszącej od 10-3 do 10-1, a dozowanie i mieszanie pierwiastków metali z katody A (1) oraz katody B (2) odbywa się w plazmie magnetronu.
PL435709A 2020-10-16 2020-10-16 Sposób nanoszenia metodą magnetronową powłok tlenkowych na podłoża oraz powłoki otrzymane tym sposobem PL242483B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL435709A PL242483B1 (pl) 2020-10-16 2020-10-16 Sposób nanoszenia metodą magnetronową powłok tlenkowych na podłoża oraz powłoki otrzymane tym sposobem

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL435709A PL242483B1 (pl) 2020-10-16 2020-10-16 Sposób nanoszenia metodą magnetronową powłok tlenkowych na podłoża oraz powłoki otrzymane tym sposobem

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL435709A1 true PL435709A1 (pl) 2022-04-19
PL242483B1 PL242483B1 (pl) 2023-02-27

Family

ID=81212421

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL435709A PL242483B1 (pl) 2020-10-16 2020-10-16 Sposób nanoszenia metodą magnetronową powłok tlenkowych na podłoża oraz powłoki otrzymane tym sposobem

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL242483B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL242483B1 (pl) 2023-02-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4728529A (en) Method of producing diamond-like carbon-coatings
CN102912306B (zh) 计算机自动控制的高功率脉冲磁控溅射设备及工艺
CN109136871B (zh) 一种双极脉冲磁控溅射方法
CN102618846B (zh) 一种多炬等离子体喷射cvd法沉积超硬膜的方法及装置
WO1999059759A3 (en) Low work function surface layers produced by laser ablation using short-wavelength photons
CN112063975B (zh) 一种通过调制强流脉冲电弧制备ta-C涂层的方法
MY189225A (en) Ticn having reduced growth defects by means of hipims
Pedersen et al. A novel high-power pulse PECVD method
CN104411863B (zh) 高功率脉冲涂装方法
CN102424972A (zh) 金属表面复合涂层制作方法
PL435709A1 (pl) Sposób nanoszenia metodą magnetronową powłok tlenkowych na podłoża oraz powłoki otrzymane tym sposobem
CN107419213A (zh) 一种金属基体的表面防腐方法
KR101020773B1 (ko) 아크 이온 플레이팅 장치
RU2013151452A (ru) Способ магнетронного распыления импульсами высокой мощности, обеспечивающий повышенную ионизацию распыленных частиц, и устройство для его осуществления
JP4791636B2 (ja) ハイブリッドパルスプラズマ蒸着装置
ITRM20010060A1 (it) Perfezionamento di un metodo e apparato per la deposizione di film sottili, soprattutto in condizioni reattive.
BRPI0920910B1 (pt) Processo de tratamento prévio para processos de revestimento e processo que compreende um processo de tratamento prévio
JP2024539171A5 (pl)
PL431678A1 (pl) Sposób nanoszenia metodą magnetronową na podłoża ultracienkich powłok funkcyjnych o zwiększonej odporności fizycznej i chemicznej oraz podłoża z powłokami funkcyjnymi otrzymane tym sposobem
KR100295618B1 (ko) 이온빔을이용한고진공마그네트론스퍼터링방법
RU157370U1 (ru) Установка для нанесения покрытий на поверхности деталей
RU2705834C1 (ru) Способ нанесения покрытий на изделия из материалов, интенсивно окисляющихся в атмосфере воздуха, и установка для его реализации
CN212199400U (zh) 镀膜设备
CN1775997A (zh) 微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺
Meyer et al. Production Coating Cost Comparison