PL410079A1 - Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych - Google Patents

Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych

Info

Publication number
PL410079A1
PL410079A1 PL410079A PL41007914A PL410079A1 PL 410079 A1 PL410079 A1 PL 410079A1 PL 410079 A PL410079 A PL 410079A PL 41007914 A PL41007914 A PL 41007914A PL 410079 A1 PL410079 A1 PL 410079A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plasma
applying coatings
cover plates
enhanced chemical
chemical method
Prior art date
Application number
PL410079A
Other languages
English (en)
Other versions
PL236571B1 (pl
Inventor
Tadeusz Uhl
Karol Kyzioł
Karolina Kozłowska
Piotr Żakiewicz
Original Assignee
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie
Innowacja Polska Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Ec Grupa Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie, Innowacja Polska Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością, Ec Grupa Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością filed Critical Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie
Priority to PL410079A priority Critical patent/PL236571B1/pl
Publication of PL410079A1 publication Critical patent/PL410079A1/pl
Publication of PL236571B1 publication Critical patent/PL236571B1/pl

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych, celem przedłużenia czasu ich eksploatacji charakteryzuje się tym, oczyszczoną nakładkę wykonaną z materiału kompozytowego na osnowie polimeru, umieszcza się w reaktorze RF CVD i odpompowuje się w układzie do próżni (5 • 10-5 ÷ 1 • 10-6 Tr), poddaje procesowi trawienia jonowego i funkcjonalizacji powierzchni w czasie 10 minut w temperaturze pokojowej, dozując do komory reaktora RF, Ar i pokrywa powłoką DLC, podlegającą następnie procesowi depozycji w czasie 60 minut, w temperaturze pokojowej, poprzez dozowanie do komory reaktora RF mieszaniny reakcyjnej, CH4, H2, Ar, przy ciśnieniu w komorze nie mniejszym niż 0.1 Tr, jonizując cząsteczki mieszaniny gazowej do powstania plazmy.
PL410079A 2014-11-06 2014-11-06 Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych PL236571B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL410079A PL236571B1 (pl) 2014-11-06 2014-11-06 Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL410079A PL236571B1 (pl) 2014-11-06 2014-11-06 Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL410079A1 true PL410079A1 (pl) 2016-05-09
PL236571B1 PL236571B1 (pl) 2021-01-25

Family

ID=55910574

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL410079A PL236571B1 (pl) 2014-11-06 2014-11-06 Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL236571B1 (pl)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5614055A (en) * 1993-08-27 1997-03-25 Applied Materials, Inc. High density plasma CVD and etching reactor
DE19718518C2 (de) * 1997-05-02 1999-11-04 Daimler Chrysler Ag Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von Diamant auf einem Substrat und Verwendung
US7223676B2 (en) * 2002-06-05 2007-05-29 Applied Materials, Inc. Very low temperature CVD process with independently variable conformality, stress and composition of the CVD layer
US7993752B2 (en) * 2008-03-17 2011-08-09 Nano PV Technologies, Inc. Transparent conductive layer and method

Also Published As

Publication number Publication date
PL236571B1 (pl) 2021-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SG196762A1 (en) High pressure, high power plasma activated conformal film deposition
WO2010123877A3 (en) Cvd apparatus for improved film thickness non-uniformity and particle performance
PH12015500540A1 (en) Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition
TW200737306A (en) Apparatus and process for plasma-enhanced atomic layer deposition
WO2011139775A3 (en) Process chamber lid design with built-in plasma source for short lifetime species
TW200618074A (en) Soft de-chucking sequence
WO2012075017A3 (en) Apparatus and process for atomic layer deposition
WO2011031556A3 (en) Gas distribution showerhead and method of cleaning
PH12012501584A1 (en) Parallel plate reactor for uniform thin film deposition with reduced tool footprint
IN2014DN09214A (pl)
WO2012118952A3 (en) Apparatus and process for atomic layer deposition
WO2012027009A3 (en) Gas distribution showerhead with high emissivity surface
WO2012118955A3 (en) Apparatus and process for atomic layer deposition
MY167870A (en) Microwave plasma reactors and substrates for synthetic diamond manufacture
WO2011029096A3 (en) Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus
TW201614727A (en) Method of depositing insulation layer on deep trench having high aspect ratio
WO2011034751A3 (en) Hot wire chemical vapor deposition (cvd) inline coating tool
TW200802549A (en) Vertical plasma processing apparatus for semiconductor process
MY156300A (en) A chemical vapour deposition system and process
WO2011153420A3 (en) Method of improving film non-uniformity and throughput
MY162042A (en) Manufacturing apparatus for depositing a material on a carrier body
TW201129713A (en) Curved microwave plasma line source for coating of three-dimensional substrates
EP2390381A3 (en) Method of producing coated member
PL410079A1 (pl) Plazmochemiczny sposób nanoszenia powłok na nakładki w zderzakach kolejowych
KR20160001133U (ko) 파이프 내면 코팅장치