PL410047A1 - Sposób nakładania powłoki Ti-B na podłoże ceramiczne Al₂O₃, powłoka Ti-B naniesiona na podłoże ceramiczne Al₂O₃ tym sposobem, oraz wyroby ceramiczne, zwłaszcza narzędzia skrawające na bazie Al₂O₃ pokryte powłoką Ti-B - Google Patents

Abstract

Sposób nakładania powłoki Ti-B na podłoża ceramiczne Al2O3 metodą DB IBAD charakteryzuje się tym, że prowadzi się go w próżni, korzystnie ~10-4 Pa, wykorzystując dwie wiązki: wiązkę rozpylającą i wiązkę wspomagającą jonów gazu szlachetnego, korzystnie Ar+, o energii od 10 keV do 15 keV (od 1,60 x 10-15 J do 2,40 x 10-15 J), korzystnie 15 keV (2,40 x 10-15 J), w ten sposób, że wiązkę rozpylającą jonów kieruje się pod kątem ? wynoszącym od 65° do 67°, korzystnie ? = 67°, względem normalnej do powierzchni tarczy (3) z TiB2, a wiązkę wspomagającą jonów kieruje się pod kątem ß wynoszącym od 75° do 90°, korzystnie ß = 90°, do powierzchni podłoża (4) w postaci wyrobu ceramicznego. Powłoka Ti-B naniesiona na podłoże ceramiczne Al2O3 charakteryzuje się tym, że składa się z co najmniej jednej warstwy Ti-B o budowie amorficznej lub amorficzno-krystalicznej, w której nanokrystality TiB2 otoczone są amorficzną osnową Ti-B, a udział fazy krystalicznej w powłoce wynosi od 20% do 90% obj. TiB2. Wyroby ceramiczne, zwłaszcza narzędzia skrawające na bazie Al2O3, pokryte powłoką Ti-B charakteryzują się tym. co najmniej jedna warstwa powłoki Ti-B ma budowę amorficzną lub amorficzno-krystaliczną, w której nanokrystality TiB2 otoczone są amorficzną osnową Ti-B, a udział fazy krystalicznej w powłoce wynosi od 20% do 90% obj. TiB2.