PL31519B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL31519B1 PL31519B1 PL31519A PL3151940A PL31519B1 PL 31519 B1 PL31519 B1 PL 31519B1 PL 31519 A PL31519 A PL 31519A PL 3151940 A PL3151940 A PL 3151940A PL 31519 B1 PL31519 B1 PL 31519B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- solution
- insoluble compound
- centrifuge
- precipitated
- optically active
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 20
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 claims description 5
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 claims 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- -1 for example Chemical class 0.000 description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 6
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 6
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 5
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 5
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004251 Ammonium lactate Substances 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940059265 ammonium lactate Drugs 0.000 description 2
- 235000019286 ammonium lactate Nutrition 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZOBLYBZQXQGFY-HSHFZTNMSA-N azanium;(2r)-2-hydroxypropanoate Chemical compound [NH4+].C[C@@H](O)C([O-])=O RZOBLYBZQXQGFY-HSHFZTNMSA-N 0.000 description 2
- ZCZLQYAECBEUBH-UHFFFAOYSA-L calcium;octadec-9-enoate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCC=CCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCC=CCCCCCCCC([O-])=O ZCZLQYAECBEUBH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFQRIMAQYHCKEL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)guanidine Chemical compound CN(C)NC(N)=N VFQRIMAQYHCKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYMRPDYINXWJFU-UHFFFAOYSA-N 2-carbamoylbenzoic acid Chemical class NC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O CYMRPDYINXWJFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000165918 Eucalyptus papuana Species 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P ammonium sulfide Chemical compound [NH4+].[NH4+].[S-2] UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 150000002927 oxygen compounds Chemical class 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003022 phthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KAQHZJVQFBJKCK-UHFFFAOYSA-L potassium pyrosulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OS([O-])(=O)=O KAQHZJVQFBJKCK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- CSABAZBYIWDIDE-UHFFFAOYSA-N sulfino hydrogen sulfite Chemical compound OS(=O)OS(O)=O CSABAZBYIWDIDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);disulfate Chemical compound [Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Description
Wynalazek niniejszy dotyczy sposobu zmniejszania odbicia powierzchni optycz¬ nie czynnych oraz urzadzenia do wykony¬ wania tego sposobu. Pod wyrazeniem „po¬ wierzchnie optycznie czynne" nalezy przy tym rozumiec powierzchnie soczewek optycznych, pryzmatów, plytek i podob¬ nych, wykonanych z najrozmaitszych ro¬ dzajów szkla i innych materialów przezro¬ czystych, jak spatu wapiennego, soli ka¬ miennej, szkla kwarcowego, materialów sztucznych, lub materialów odbijajacych.Celem wynalazku jest zwiekszenie prze¬ puszczalnosci swiatla i zmniejszenie szko¬ dliwych odbic w ukladach optycznych.Znane sa rozmaite sposoby zmniejsza¬ nia odbijania powierzchni optycznie czyn¬ nych, np. na drodze chemicznej przez wy¬ trawienie przy pomocy kwasów, siarkowo¬ doru, siarczaku amonowego lub podobnych zwiazków, na drodze fizycznej przez po¬ krywanie warstwa innej substancji, np. flu¬ orkiem wapnia, osadzonym na powierzchni przez odparowanie.Znane sposoby wykazuja te wade, ze naniesione warstwy substancji obcych nie posiadaja szczególnie duzej zdolnosci przy¬ legania, tak ze najczesciej mozna je usu¬ nac nawet przez lekkie tarcie. Oprócz tego warstwy takie, np. warstwy fluorków zasa-dowyoh, nie sa dostatecznie odporne na dzialanie skladników powietrza atmosfe¬ rycznego, jak pary wodnej, dwutlenku we¬ gla i tlenu, a poza tym wytwarzanie warstw przez odparowywanie jest zlozone i ko¬ sztowne. Natomiast sposoby z wytrawia¬ niem wykazuja te wade, ze warstwy o rów¬ nomiernej grubosci ustalonej daja sie wy¬ twarzac tylko z wielka trudnoscia.Przedmiotem wynalazku niniejszego jest natomiast sposób otrzymywania rów¬ nomiernych warstw, szczególnie silnie przy¬ legajacych, chemicznie odpornych i wytwa¬ rzanych najprostszymi srodkami.W mysl wynalazku powierzchriie opty¬ cznie czynne najpierw czysci sie dokladnie, azeby usunac zwlaszcza warstwy brudu, zawierajace tluszcz. Oczyszczone po¬ wierzchnie zwilza sie roztworem, zawiera¬ jacym kwas krzemowy, np. przez zanurza¬ nie, polewanie lub spryskiwanie, po czym powierzchnie te ewentualnie suszy sie, a nastepnie traktuje srodkiem, który usu¬ wa kwas krzemowy. Bezposrednio po tym wymywa sie nie zawierajace kwasu krze¬ mowego skladniki. Srodek stracajacy, np- kwas solny, stosuje sie najodpowiedniej w postaci roztworu wodnego, tak ze wy¬ tracanie kwasu krzemowego i rozpuszcza¬ nie pozostalych skladników moze byc do¬ konywane w jednym zabiegu roboczym.Oprócz kwasu krzemowego do wykony¬ wania sposobu wedlug wynalazku nadaja sie równiez substancje pokrewne, zwlaszcza zwiazki pierwiastków 4-ej grupy ukladu okresowego, które daja stale, nierozpusz¬ czalne zwiazki tlenowe, przezroczyste w cienkich warstwach, jak np. kwas tyta¬ nowy, dwutlenek cyrkonu, kwas cynowy.Wymienione zwiazki mozna stosowac w po¬ staci rozpuszczalnych w wodzie soli, zwla¬ szcza soli potasowcowych. Przez dodawa¬ nie kwasów nieorganicznych, jak np. siar¬ kowego, solnego, fosforowego, azotowego t podobnych, kwasów organicznych, jak mrówczanego, octowego, propionowego, mlekowego, winowego, cytrynowego, ben- zeno-sulfonowego i podobnych lub przez dodawanie soli kwasów, jak dwusiarczanu potasu, dwusiarczynu itd., mozna otrzymy¬ wac kwasy krzemowe wzglednie analogicz¬ ne zwiazki na powierzchniach optycznie czynnych. Przez zastosowanie soli odpo¬ wiednich wielokwasów, jak np. wielokrze- mianów, mozna równiez wywolac stracanie przy pomocy rozpuszczalników ogranicz¬ nych, jak np. alkoholu etylowego.Kwas krzemowy i zwiazki podobne mozna równiez zastosowac w innej postaci, np. w postaci czterochlorku krzemu, cztero¬ chlorku cyny, siarczanu cyrkonu i podob¬ nych. Zwiazki te rozpuszcza sie badz w wo¬ dzie, badz w rozpuszczalnikach organicz¬ nych, po czym zwilza sie powierzchnie, która ma byc powleczona odpowiednimi roztworami. Wytracenie kwasu krzemowe¬ go wzglednie podobnych zwiazków na opty¬ cznie czynnych powierzchniach uskutecznia sie nastepnie przez traktowanie woda, za¬ sadami lub podobnymi substancjami.Wreszcie kwas krzemowy itd, mozna równiez stosowac w postaci organicznych zwiazków zespolonych, np. jako krzemian dwumetyloaminoguanidynowy.Ogólnie wiec biorac, wedlug wynalazku zwilza sie optycznie czynne powierzchnie roztworem substancji, z której mozna wy¬ tracic zwiazek nierozpuszczalny o wzorze ogólnym Me02 , JC.//2O, przy czym Me ozna¬ cza pierwiastek 4-tej grupy ukladu okreso¬ wego. Poniewaz, jak wiadomo, wymienione zwiazki pierwiastków 4-ej grupy ukladu periodycznego, zawierajace tlen, moga tworzyc najrozmaitsze wodorotlenki, przeto x moze oznaczac liczbe dowolna. Zwiazki te, zwlaszcza po odpowiednim wysuszeniu, mozna równiez otrzymywac w postaci wol¬ nej od wody. Po dokonanym wytraceniu skladniki warstw naniesionych na optycz¬ nie czynne powierzchnie, które nie zawie¬ raja kwasu krzemowego lub podobnego, usuwa sie przez dokladne wymycie. Zostar — 2 —ja wiec usuniete sole, powstajace np. wsku¬ tek reakcji krzemianów potasowców z kwa¬ sami lulb przy rozkladzie czterochlorku krzemu albo czterochlorku cyny w obecno¬ sci zasad'. Wymywanie uskutecznia sie na ogól woda, mozna jednak równiez zastoso¬ wac rozpuszczalniki organiczne, jak np. al¬ kohol.Odpowiednio do zadanej grubosci war¬ stwy traktowanie wedlug wynalazku moze byc dokonywane raz lub kilka razy. Cho¬ ciaz grubosc warstwy moze sie zmieniac w szerokich granicach nie tracac swego dzialania zmniejszajacego odbicie, to jed¬ nak istnieje pewna najwlasciwsza grubosc warstwy, przy czym pozostaje rzecza nie¬ rozstrzygnieta, czy dzialanie zalezy od sa¬ mej grubosci warstwy, czy tez od zmiany wspólczynnika zalamania, zwiazanej ze zmiana grubosci.Grubosc warstwy mozna równiez zmie¬ niac nie tylko przez wielokrotne powtarza¬ nie traktowania wedlug wynalazku, lecz takze przez zastosowanie odpowiedniego stezenia roztworu, którym zwilza sie od¬ nosne powierzchnie.Warstwy utworzone na powierzchniach optycznie czynnych w celu zwiekszenia ich wytrzymalosci mechanicznej mozna rów¬ niez poddawac dodatkowo traktowaniu cieplnemu, np. przez ogrzewanie do wyso¬ kich temperatur, w szczególnosci np. do 200—500° C przy obróbce szkla. Jezeli wy¬ twarzania warstw dokonywa sie przez wie¬ lokrotne powtarzanie traktowania wedlug wynalazku, wówczas dobrze jest, aby ogrze¬ wanie nastepowalo po tym traktowaniu.Warstwy zmniejszajace odbicie w stop¬ niu szczególnie wysokim otrzymuje sie wtedy, gdy z roztworu, którym zwilza sie powierzchnie optycznie czynne, kwas (krze¬ mowy lub zwiazki podobne wydziela sie czesciowo w postaci koloidalnej. Moze to na¬ stapic np. przez dodawanie srodków slabo kwasnych, np. soli jednozasadcwych kwa¬ sów tlenowych lub mieszanin soli, zwlasz¬ cza soli amonowych, tych kwasów. Do tego celu nadaja sie równiez kwasy ftalowe, amidy kwasów ftalowych, fenole wielo- wartosciowe, jak np. rezorcyna i floroglu- cyna. Mozna równiez zastosowac wielo- czasteczkowe alkohole alifatyczne, jak al¬ kohol oktylowy i nonylowy. Przez odpo¬ wiedni dobór ilosci wspomnianych substan¬ cji, temperatury i stezenia roztworów wyj¬ sciowych mozna w duzym stopniu wplywac na wlasciwosci koloidalne kwasu krzemo¬ wego wzglednie zwiazków podobnych, Otrzymanymi w ten sposób roztworami, zwilza sie nastepnie powierzchnie optycz¬ nie czynne, a nastepnie uzupelnia sie wy¬ tracany kwas krzemowy lub podobny w wy¬ zej podany sposób.Poniewaz w tych roztworach wydziela ny kwas krzemowy i * podobny istnieje w postaci bardzo rozproszonej tylko przez ograniczony okres czasu, przeto roztwór do zwilzania traktowanej optycznie czynnej powierzchni musi byc stosunkowo swiezy.Mozna jednak zwiekszyc trwalosc tego rodzaju roztworów przez dodawanie odpo¬ wiedniego koloidu ochronnego, np. gumy arabskiej, gumy tragantowej, dekstryny, olejanu wapnia i podobnego srodka.Warstwy zmniejszajace odbicie w zna¬ cznym stopniu mozna np. otrzymywac w sposób nastepujacy: 100 g krzemianu wapnia, który na i czasteczke (Mol) zasady zawiera 3,6 cza¬ steczek kwasu krzemowego, rozpuszcza sie w 2,5 litrów wody i miesza z 75 cm8 50%-owego roztworu mleczanu amonowe¬ go i 0,2 g olejanu wapnia w temperaturze pokojowej. W roztworze tym zanurza sie na krótko traktowane powierzchnie po u~ przednim dokladnym usunieciu tluszczu, po czym nadmiar cieczy odwirowywa sie.Nastepnie powierzchnie traktuje sie 30%-owym roztworem kwasu aizotowegtf w ciagu 30 minut w temperaturze kapieli 60° C i wreszcie przedmiot myje sie do¬ kladnie woda. — 3 —. Osiagniety wedlug wynalazku postep techniczny wynika z tego, ze nip. przy za¬ stosowaniu szkla o wskazniku zalamania 1,64 strata swiatla okreslonej powierzchni wskutek odbicia wynosi prawie 0,1 %, gdy powierzchnia ta zostala powleczona war¬ stwa w sposób podany powyzej, natomiast w przeciwnym przypadku strata swiatla tejze powierzchni wynosi okolo 6°/o.Odpornosc mechaniczna warstw otrzy¬ manych sposobem wedlug wynalazku, np. na naciecia, mozna zasadniczo zwiekszyc przez to, ze do roztworów, którymi zwilza sie traktowane powierzchnie, dodaje sie dioksanów lub pochodnych furanowych, jak np/furfurolu. Do tego wyzej podanego roztworu mozna dodac np. obok mleczanu amonowego i olejami wapniowego 10 cm3 dioksanu. W ten sposób zwieksza sie w wy¬ sokim stopniu twardosc warstw.Warstwy, nanoszone na powierzchnie optycznie czynne, mozna równiez utwardzac w ten sposób, ze obok traktowania obrabia¬ nych powierzchni zgodnie z wynalazkiem nanosi sie jeszcze na nie niezwykle cienka warstewke ochronna z kwasu krzemowego lub podobnego srodka. Uskutecznia sie to w ten sposób, ze powierzchnie, pokryte warstwami zmniejszajacymi odbicie pod¬ daje sie jeszcze raz postepowaniu wedlug wynalazku, lecz przy uzyciu roztworu krzemianu wapnia lub podobnego, posiada¬ jacego bardzo male stezenie. Do wytwa¬ rzania takich cienkich i szczególnie twar¬ dych warstw okazaly sie specjalnie odpo¬ wiednimi np. roztwory krzemianu wapnia, zawierajace 10 g krzemianu na 1 litr wody.Warstwy zmniejszajace odbicie, otrzy¬ mane sposobem wedlug wynalazku, trzy¬ maja sie nie tylko bardzo dobrze, lecz sa równiez calkowicie odporne na dzialanie zwyklych kwasów, z wyjatkiem fluorowo¬ doru i goracego kwasu fosforowego, jak równiez na dzialania atmosferyczne, nato¬ miast na dzialanie ciepla warstwy te sa niewrazliwe.Dla ulatwienia wytwarzania warstw zmniejszajacych odbicie o grubosci stalej zaleca sie, przed przystapieniem do wytra¬ cania kwasu krzemowego itd., poddawanie powierzichni zwilzonych roztworami trak¬ tujacymi dzialaniu sily odsrodkowej, W tym celu powierzchnie zwilzone roztwo¬ rami krzemianu wapnia lub podobnymi » wprowadza sie w stanie jeszcze wilgotnym do wirówki. Stosownie do liczby jej obro¬ tów na minute i dlugosci czasu wirowania mozna otrzymywac warstwy o zupelnie okreslonej grubosci.Wirówka taka posiada najkorzystniej wymienne wkladki, które sa zaopatrzone w wieksza liczbe przyrzadów do przytrzy¬ mywania traktowanych przedmiotów. Od¬ nosne przedmioty sa umieszczane w mozli¬ wie wielkiej odleglosci od osi obrotu wi¬ rówki; dzieki temu unika sie tego, ze na oddalone od osi czesci odnosnego przed¬ miotu oddzialywa znacznie wieksza sila odsrodkowa, niz na czesci, zblizone do osi.Na rysunku uwidoczniono schematycz¬ nie przyklad urzadzenia do wykonywania sposobu wedlug wynalazku.Fig. 1 przedstawia odpowiednio przy¬ stosowana wirówke, a fig. 2 — wymienna Wkladke do tej wirówki w widoku z góry.Jak widac na fig. 1, os obrotu 1 wirów¬ ki jest napedzana slimakiem 2 i kolem sli¬ makowym 3. Dajaca sie odejmowac wklad¬ ka 4 wirówki posiada szpony 5 do przy¬ trzymywania przedmiotu 6.Mechanicznie czyszczone przedmioty umocowuje sie w szponach 5, a po odtlusz¬ czeniu nadtlenkiem wodoru myje sie je de¬ stylowana woda i suszy. Nastepnie wklad¬ ke 4 zanurza, sie np. w roztworze zawiera¬ jacym krzemian wapnia, wklada sie ja do wirówki i natychmiast odwirowuje. Po wy¬ jeciu wkladki z wirówki, suszy sie przed¬ mioty i straca sie nastepnie kwas krzemo¬ wy lub podobny. Przedmioty mozna jednak równiez poi wysuszeniu jeszcze raz lub kil¬ ka razy powtórnie zanurzyc i ponownie — 4 —wytracic kwas. Wytracanie kwasu krzemo wegq uskutecznia sie w ten sposób, ze wkladke 4 wraz z obrabianymi przedmio¬ tami pozostawia sie przez dluzszy czas w kapieli kwasowej lub alkoholowejf naj¬ lepiej przy jednoczesnym powolnym obra¬ caniu jej. Po wytraceniu kwasu krzemowe¬ go lub podobnego przedmioty wymywa sie woda i plucze, a nastepnie dopiero wyj¬ muje sie je z wkladki. W zadnym okresie obróbki przedmiotów obrabianych nie do¬ tyka sie rekami.Stwierdzono, ze spotegowanie mecha¬ nicznego dzialania wirowania osiaga sie przez dodawanie do roztworów, którymi zwilza sie obrabiane przedmioty, substan- cyj, które zmniejszaja ich napiecie po¬ wierzchniowe, np. mydla, alkylowanych aromatycznych kwasów sulfonowych, jak np. kwasu izopropylonaftalenosulfonowego i innych znanych substancji, zmniejszaja¬ cych napiecie powierzchniowe. Przy zasto¬ sowaniu kwasu izopropylonaftalenosulfo¬ nowego szczególnie korzystna okazala sie domieszka 15 cm3 nasyconego roztworu na 1 litr cieczy traktujacej. Przy uzyciu tego rodzaju roztworu okazalo sie korzystnym nastawianie wirówki na taka liczbe obro¬ tów, przy której obrabiane przedmioty po¬ siadaja przecietna szybkosc obwodowa, wahajaca sie miedzy 10 i 100 m/sek, przy czym promien toru wynosi 20 cm. Czas wi¬ rowania utrzymuje sie przy tym w grani¬ cach 1—3 minut. Azeby podczas wirowania krople cieczy nie zwisaly na oddalonych od osi koncach przedmiotów zanurzonych, poleca sie przytrzymywac przedmioty w wirówce tak, aby ich powierzchnie opty¬ cznie czynne przechodzily bez przerw i wy¬ stepów w oprawe. PL
Claims (11)
- Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób zmniejszania odbicia po¬ wierzchni optycznie czynnych, znamienny tym, ze powierzchnie te poddaje sie oczysz¬ czaniu i zwilia roztworem substancji, z któ¬ rej d&je sie wytracic nierozpuszczalny zwiazek o wzorze ogólnym MeQ*.x,HzO, w którym Me oznacza pierwiastek 4-ej gru¬ py ukladu periodycznego, a x -—liczbe do¬ wolna, nastepnie wytraca sie wsjpomniany zwiazek nierozpuszczalny i wreszcie war¬ stwe stracona na wspomnianych powierzch¬ niach wymywa sie i suszy, przy czym gru¬ bosc warstwy nalezy dobierac tak, aby optyczny wspólczynnik odbicia tych po¬ wierzchni byl jak nacjniniejszy,
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze traktowanie roztworem, wytracanie zwiazku nierozpuszczalnego, wymywanie i suszenie powtarza sie wielokrotnie.
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1, 2, zna¬ mienny tym, ze powierzchnie zwilza sie roztworem krzemianu potasowca, a nastep¬ nie wytraca sie kwas krzemowy.
- 4. Sposób wedlug zastrz. 1, 2, zna¬ mienny tym, ze wytworzone warstwy ogrze¬ wa sie dó wysokich temperatur.
- 5. §posób wedlug zastrz. 1, 2, zna¬ mienny tym, ze zwiazek nierozpuszczalny wytraca sie poczatkowo czesciowo, a aa- stepnie calkowicie.
- 6. Sposób wedlug zastrz. 1 — 5, zna¬ mienny tym, ze po oczyszczeniu roztworem substancji, z której daje sie wytracic nie¬ rozpuszczalny zwiazek o wzorze ogólnym MeOz. x.H20, w którym Me oznacza pier¬ wiastek 4-ej grupy ukladu periodycznego, a x — liczbe, zwiazek nierozpuszczalny wy¬ traca sie czesciowo, a nastepnie calkowicie po dodaniu stabilizatorów. 7. „
- 7. Sposób wedlug zastrz. 1 — 6, zna¬ mienny tym, ze stosuje sie roztwór, zawie¬ rajacy skladniki wybrane z grupy obejmu¬ jacej dioksany i pochodne furanowe.
- 8. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze po obróbce pierwszej powtarza sie wspomniany zabieg przy uzyciu bardzo rozcienczonego roztworu w celu otrzymania dalszej, niezwykle cienkiej warstejwki. — 5 —
- 9. Sposób wedlug zastrz. 1 — 8, zna¬ mienny tym, ze po zwilzeniu powierzchni poddaje sie ja odwirowaniu w wirówce, po czym dopiero wytraca sie zwiazek nieroz¬ puszczalny.
- 10. Sposób wedlug zastrz. 1 — 9, zna¬ mienny tym, ze stosuje sie roztwór, który zawiera zwykle substancje zmniejszajace napiecie powierzchniowe, a po odwirowa¬ niu powierzchni w wirówce wytraca sie zwiazek nierozpuszczalny.
- 11. Urzadzenie do wykonywania spo¬ sobu wedlug zastrz. 1—10, znamienne tym, ze sklada sie z wirówki o wymiennych wkladkach, zaopatrzonych w przyrzady trzymakowe, nadajace sie do niezawodne¬ go przytrzymywania przedmiotów, których powierzchnie maja byc zaopatrzone w zmniejszajace odbicie warstwy, przy czym Wkladki sa wykonane tak, ze po¬ wierzchnie optycznie czynne przechodza równomiernie i bez przerw w oprawe. Ernst L e i t z G. m. b. H. Zastepca: inz. St. Pawlikowski rzecznik patentowy Staatsdruckerei Warschau — Nr. 11987/43.Do opisu patentowego Nr 31519 FIG.1 fig. z PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL31519B1 true PL31519B1 (pl) | 1943-03-31 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3616098A (en) | Method of producing glare-reducing glass surface | |
| US4055458A (en) | Etching glass with HF and fluorine-containing surfactant | |
| US2356553A (en) | Process to lower the reflection of optically active surfaces | |
| KR100944465B1 (ko) | 친수성막과 그 제조방법 및 친수성막 형성용 도료 | |
| US4578100A (en) | Method of making non-glare coated glass | |
| DE3062695D1 (en) | Preparation of an ultra-black coating due to surface morphology | |
| JP2003054998A (ja) | Lcdガラスのための水で除去可能な被膜 | |
| US2273613A (en) | Process for preparing mirrors | |
| PL31519B1 (pl) | ||
| US5378315A (en) | Removing imaging member layers from a substrate | |
| US3150007A (en) | Process for cleaning stone | |
| US5352329A (en) | Removing portions of imaging member layers from a substrate | |
| CN101502835B (zh) | Mocvd设备内石墨基座的清洗方法 | |
| US1657147A (en) | Varnish and paint removing compound | |
| JP3996156B2 (ja) | ガラス素材の親水表面を製作する成分及び方法 | |
| JPS61192748A (ja) | 分子中に不飽和結合を有するポリマ−の洗浄方法 | |
| KR930001287B1 (ko) | 웨이퍼 세척 처리 방법 및 장치 | |
| CN106098537A (zh) | 高压二极管镀镍硅片前处理清洗方法 | |
| JP4758725B2 (ja) | 洗浄剤 | |
| SU1342886A1 (ru) | Способ защиты полированной поверхности оптических деталей | |
| JP6566959B2 (ja) | 有機被覆を備える基材を除去するための方法 | |
| Wesson et al. | Wetting characteristics of E-glass textile filaments | |
| ES393253A1 (es) | Un aparato para tratar un cuerpo de vidrio, material vitro-cristalino, ceramica o roca. | |
| US523604A (en) | Putting colored lines on school-slates | |
| US2930717A (en) | Non-blocking pellicle and method for making the same |