PL3081B1 - Sposób otrzymywania dobrze przylegajacych i gestych osadów cyny. - Google Patents

Sposób otrzymywania dobrze przylegajacych i gestych osadów cyny. Download PDF

Info

Publication number
PL3081B1
PL3081B1 PL3081A PL308120A PL3081B1 PL 3081 B1 PL3081 B1 PL 3081B1 PL 3081 A PL3081 A PL 3081A PL 308120 A PL308120 A PL 308120A PL 3081 B1 PL3081 B1 PL 3081B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
tin
adherent
obtaining well
tin deposits
dense tin
Prior art date
Application number
PL3081A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL3081B1 publication Critical patent/PL3081B1/pl

Links

Description

Do galwanicznego cynowania uzywane sa wylacznie alkaliczne cynowe kapiele, chociaz posiadaja one wade zmiennosci swe¬ go skladu, latwosc tworzenia gabczastej ma¬ sy, oraz nieznaczna wydajnosc pradu.Kwasne cynowe kapiele sa wlasciwie nie¬ znane, o ile nie braic pod uwage metody Roseleut'a z pyrofosforanem sodowym, ja¬ ko skladowa czescia. Inna kapiel Engelsa (Schlotter, Galvanostegie I, str. 202) z kwasem winowym nile otrzymala praktycz¬ nego zastosowania, chociaz kwasne cynowe kapiele sa korzystne ze wzgledu na ich wysoki! elektrochemiczny , rówtnoWaznik.Przyczyna, dla której one nie sa stosowal¬ ne, polegaj naf tern, ze wszystkie osady cyny z kwasnych roztworów wykazuja sil¬ nie krystaliczna postac i nie pokrywaja ka¬ tody równo, lecz warstwa na wzór tkaniny koronkowej. Wada ta uwidacznia sie zwla¬ szcza przy elektirolitycznem' cynowaniu zelaza. Z kwasnych rozczynów przylega cyna tak slabo,, ze przy szczotkowa!- niu zupelnie schodzi1. Pominawszy mai¬ ly stopien przylegania cyny otrzymanej z kwasnych roztworów, nie sa one w galwa- noplastyce uzywane jeszcze z powodu sklonnosci tworzenia narosli krystalicz¬ nych.Stwierdzono, ze z roztworów soli cyno¬ wych, wolnych od alkaljów i amonjaku, o- trzymuje sie osady cyny geste, nie two¬ rzace narosli krystalicznych, o ile do silnie kwasnego roztworu cyny doda sie nie-* #znaczne ilosci zelatyny, lub innych cial koloidalnych. Zastosowanie cial koloidal¬ nych do kapieli metalowych juz dawno znane, jest zupelnie nowe w kombinacji z kwasnemi, Wolnemil od alkalj ów roztwo¬ rami soli cyny. 0 ile nie starano sie uzyc kapieli alkalicznych, to dla utrzymania1 w roztworze chlorku cynawego uzywano do¬ tychczas chlorku amonu.Nie jest niezbednem uzywanie silnie stezonych roztworów soli cynawych, jak po- daije Pfannhauser (Z. f. Elch. VIII. 41 i na¬ stepne), gdyz juz roztwór zawieraj»acy: 120 g siarczanu cynalwego 2 g zelatyny ixa 1000 cm3 wody traJci wlasciwosc tworzenia1 narosli krysta¬ licznych.Roztwory powyzszego skladu sa odpo¬ wiednie dla miedzi i mosiadzu, gdyz po¬ krywaja takowe dobrze przylegajacym i gestym osadem cyny. Struktura oddzie¬ lonej cyny tak sie zmienila, ze mozna ja porównac z elektrolitycznie otrzymanem zelazem, które posiada przy grubszych warstwach najmniej uwydatniona krysta¬ liczna strukture, ze wszystkich elektroli¬ tycznie osadzanych metali. Pomimo tych wlasciwosci powyzsza1 kapiel nie da sie zastosowac przy cynowaniu zelaznych przedmiotów. Cyna nie przylega dosta¬ tecznie do pokrywanego metalu; gdy osad cyny pokrywa wiedz i cyne bez zarzutu, na zelazie daje jednak drobnokrystaliczny osad. W roztworze nie powstaja narosle krysztalowi lecz cyna wydziela sie, jak to mozna stwierdzic pod mikroskopem, w po¬ staci drobnych piramidalnych krysztalów.Okolicznosc ta jest w praktyce nilepozajdamai.Stwierdzono, ze i ta wada da sie usunac o ille doda sie do koloidalnego roztworu cy¬ ny substancji kapilarnie czynnych jak np. fenolu lub floroglucyny. Na zelazie mozna otrzymac z kwasnego roztworu dobre osa¬ dy, o ile, naJprzyklad, zrobi sie kapiel o na¬ stepujacym skladzie: 150 jgj chlorku cynawego 2 g zelatyny 5 g fenolu 1000 cm3 wody 5 g kwaisu solnego. PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób otrzymywania dobrze przy¬ legajacych i gestych osadów cyny, zna¬ mienny tem, ze do zwyklych kwasnych roz¬ tworów soli cynawych, wolnych od alkaljów i amonjaku, dodaje sie ciala koloidalne.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamien¬ ny tem, ze do zwyklych kwasnych roztwo^ rów soli cynawych, wolnych od alkalji i a- monjaku, dodaje sie, prócz cial koloidal¬ nych, jeszcze substancje kapilarnie czynne. Max Schlo t ter. Zastepca: S. Pawlikowski, rzecznik patentowy. Druk L. Boguslawskiego, Warszawa. PL
PL3081A 1920-07-09 Sposób otrzymywania dobrze przylegajacych i gestych osadów cyny. PL3081B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL3081B1 true PL3081B1 (pl) 1925-11-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6254397B2 (pl)
US2198365A (en) Electroplating
US3764489A (en) Electrodeposition of gold alloys
US3500537A (en) Method of making palladium coated electrical contacts
CN100424232C (zh) 镍电镀液
US4069113A (en) Electroplating gold alloys and electrolytes therefor
US1969553A (en) Electrolyte for the deposition of
PL3081B1 (pl) Sposób otrzymywania dobrze przylegajacych i gestych osadów cyny.
GB2160897A (en) Electroless plating solution
US3338725A (en) Novel plating process and composition
JP2010031329A (ja) ニッケルめっき浴
US3829366A (en) Treatment of titanium cathode surfaces
JP2768498B2 (ja) 亜鉛一鉄合金電着用水性アルカリ浴及びこれを用いる亜鉛一鉄合金の電着法
US1918159A (en) Electrodeposition
CN115807248A (zh) 一种镀银光亮剂及其制备方法
US3920527A (en) Self-regulating plating bath and method for electrodepositing chromium
US3630856A (en) Electrodeposition of ruthenium
US2866740A (en) Electrodeposition of rhodium
US2250842A (en) Protection of metal articles against corrosion by coating by electrodeposition
CA1050471A (en) Electroplating of rhodium-ruthenium alloys
SU699037A1 (ru) Электролит дл осаждени покрытий сплавом никель-фосфор
Walker et al. High throw copper sulphate bath with chlorides
JPS5928598A (ja) 電気メツキ用Pb合金製不溶性陽極
TW201900937A (zh) 鐵鎳合金填料用電鍍液及使用此電鍍液之開口部填料方法、電路基板之製造方法
DE299792C (pl)