PL26208B1 - Sposób wytwarzania powloki tlenkowej na glinie lub stopach glinowych. - Google Patents
Sposób wytwarzania powloki tlenkowej na glinie lub stopach glinowych. Download PDFInfo
- Publication number
- PL26208B1 PL26208B1 PL26208A PL2620836A PL26208B1 PL 26208 B1 PL26208 B1 PL 26208B1 PL 26208 A PL26208 A PL 26208A PL 2620836 A PL2620836 A PL 2620836A PL 26208 B1 PL26208 B1 PL 26208B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- aluminum
- current
- producing
- electrolyte
- oxide coating
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 18
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 8
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 5
- 235000007079 manganese sulphate Nutrition 0.000 description 5
- 239000011702 manganese sulphate Substances 0.000 description 5
- SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L manganese(II) sulfate Chemical compound [Mn+2].[O-]S([O-])(=O)=O SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- UYDPQDSKEDUNKV-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynetungsten Chemical compound [W]#P UYDPQDSKEDUNKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical class [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- -1 cobaltic Chemical compound 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 150000002696 manganese Chemical class 0.000 description 2
- 229940099596 manganese sulfate Drugs 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M chloromercury Chemical class [Hg]Cl RCTYPNKXASFOBE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- BECVLEVEVXAFSH-UHFFFAOYSA-K manganese(3+);phosphate Chemical compound [Mn+3].[O-]P([O-])([O-])=O BECVLEVEVXAFSH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- LIPWCBLWKLTNBG-UHFFFAOYSA-N molybdenum sulfuric acid Chemical compound [Mo].OS(O)(=O)=O LIPWCBLWKLTNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 1
- JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L sodium dithionite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])=O JVBXVOWTABLYPX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003657 tungsten Chemical class 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Description
Wynalazek dotyczy powlekania glinu lub stopów glinowych tlenkiem glinu.Znane jest wytwarzanie takich powlok tlenkowych za pomoca pradu elektryczne¬ go w kwasnym elektrolicie o okreslonym stezeniu. Stosowano np. kwas siarkowy o stezeniach od 10 do 20% albo od 35 do 77%. Zamiast kwasu siarkowego stosowano do tego celu równiez kwas szczawiowy lub chromowy. Do tych elektrolitów dodawano innych substancji, np. siarczanu potasu, siarczanu glinu, siarczanu sodu, podsiar- czynu sodu, chromianów, kwasu azotowe¬ go. Jesli dba sie o dostateczne chlodzenie i staranne mieszanie kapieli przy uzyciu tych znanych elektrolitów, to w ciagu procesu utleniania nastepuje zaledwie slabe obni¬ zenie sie natezenia pradu, spowodowane zwiekszeniem grubosci powloki tlenkowej.Jesli natomiast chlodzenie oraz mieszanie sa niedostateczne lub zostana przerwane, to cieplo wytwarzane podczas procesu nie moze byc usuwane we wlasciwy sposób.Temperatura kapieli wzrasta, a dzieki temu wzrasta równiez natezenie pradu. Ten rów¬ nolegly wzrost temperatury kapieli i nate¬ zenia pradu latwo powoduje zniszczenie lub powazne nadzeranie przedmiotu glino¬ wego, przeznaczonego do powleczenia war¬ stwa tlenku.Obecnie stwierdzono, ze osiaga sie do¬ bre wyniki, jezeli do elektrolitycznej kapieli utleniajacej doda sie soli manganawych, chromowych, kobaltawych, niklawych lubr* zwiazków kompleksowych molibdenu i wol¬ framu.Szczególnie odpowiednie sa zwiazki ta¬ kich metali, które moga wystepowac Jako równowartosciowe, np. zwiazki manganu, kobaltu, niiklu i t. d. Oczywiscie uzyte zwiazki metali ciezkich wprowadza sie do kapieli najlepiej w postaci najbardziej trwalej w warunkach pracy tej kapieli.Niektóre zwiazki metali ciezkich prze¬ szkadzaja wytwarzaniu jednorodnej powlo¬ ki ochronnej, np. chlorki srebra, rteci, wo¬ bec czego nie mozna ich stosowac w wiek¬ szych ilosciach, gdyz podczas procesu utle¬ niania zostaja stracone albo pod dzialaniem pradu albo wskutek reakcji z materialem elektrody, jak zwiazki srebra, rteci i t d.Podobnie nadmanganian potasu albo dwuchromiany albo takze bezwodnik kwa¬ su chromowego wykazuja te wade, iz ze wzgledu na mozliwosc redukcji podczas elektrolizy trudno jest utrzymac staly sklad kapieli. Wskutek tego przy uzyciu tych prostych kwasów ciezkich metali nie mozna zapewnic równomiernej pracy kapieli. Na¬ tomiast wyzej wspomniane korzysci osiaga sie dodajac do elektrolitu soli manganawych lub chromowych, np. siarczanów i innych.Zwlaszcza odpowiednie sa kwasy kom¬ pleksowe, np. kwas fosforo-wolframowy, kwas molibdeno - siarkowy i t. d.W pew¬ nych warunkach jest rzecza korzystna sto¬ sowanie tych kwasów kompleksowych ra¬ zem z siarczanami, azotanami i innymi zwiazkami wymienionych metali.Ilosci zwiazków metali, uzyte zgodnie z niniejszym wynalazkiem, zaleza od wla¬ sciwosci tych zwiazków i musza byc dosto¬ sowywane do wymagan kapieli, rodzaju uzytego pradu, materialu przeznaczonego do powlekania i t d.Zastosowanie wyzej wymienionych zwiazków metali ciezkich daje te korzysc, ze wytworzone powloki ochronne maja zwykle lepszy wyglad od powlok wytwa¬ rzanych dotychczas. Na przyklad, wytwa¬ rzanie jednorodnych przezroczystych po¬ wlok na odlewach glinowych jest przewaz¬ nie .niemozliwe, gdyz poprzez taka warstwe zawsze bedzie widoczna ziarnista budowa metalu wytrawionego na powierzchni.Obecnie przy wytwarzaniu odlewów wiel¬ kosc ziarna nie zawsze jest jednakowa na calej powierzchni widzialnej. Ciensze scian¬ ki wzglednie czesci odlewu wykazuja zwykle ziarno drobniejsze, niz scianki lub czesci grubsze, a to wskutek szybszego osty- gania czesci cienszych. Ta rózna budowa ziarnista ujawnia sie poprzez przezroczy¬ sta powloke, wytworzona za pomoca zna¬ nych elektrolitów utleniajacych, wobec cze¬ go powierzchnia takiej powloki wyglada brzydko i niejednorodnie. Dalej gruboziar¬ nista budowa odlewów powoduje niepoza¬ dany wyglad utlenionego przedmiotu glino¬ wego, podobny do firnu lodowego. Tych niekorzystnych zjawisk unika sie w znacz¬ nym stopniu w razie zastosowania niniej¬ szego wynalazku. Utlenianie mozna wyko¬ nywac za pomoca pradu zmiennego lub sta¬ lego, ewentualnie obu pradów na zmiane.Przyklad I. Do utleniania odlewów glinowych i t. d. stosuje sie elektrolit, za¬ wierajacy 120 g stezonego kwasu siarko¬ wego i 50 g kwasu fosforo - wolframowego w 1 litrze wody. Utlenianie uskutecznia sie pradem stalym o napieciu 20 — 22 wolt w temperaturze 18° — 22°C. Po uplywie oko¬ lo 45 minut wytwarza sie jednorodna po¬ wloka tlenkowa o doskonalych wlasciwo¬ sciach przeciwkorozyjnych.Przyklad II. Utlenianie przedmiotów glinowych uskutecznia sie pradem zmien¬ nym o napieciu 21 wolt w elektrolicie zawie¬ rajacym 100 g stezonego kwasu siarkowe¬ go i 100 g krystalicznego siarczanu man- ganawego. Temperatura kapieli na poczat¬ ku elektrolizy wynosi 19°C. Jesli kapieli nie oziebia sie, to w przeciagu 45 minut temperatura wzrasta do 27°C. Z drugiej strony natezenie pradu w ciagu utleniania iest praktycznie biorac stale. W przeci- — 2 —wienstwie do tego, jesli pracuje sie z elek¬ trolitem, zawierajacym 100 g kwasu siarko¬ wego w 1 litrze wody, lecz nie zawieraja¬ cym siarczanu manganawego, to natezenie pradu wzrasta podczas elektrolizy od 1,42 amp; do 2,40 amp przy prawie takim samym wzroscie temperatury, jak w przypadku za¬ stosowania elektrolitu, zawierajacego sole manganu. Jesli zastosuje sie elektrolit, za¬ wierajacy sole manganu, to wyroby glino¬ we wykazuja jasna i blyszczaca powloke tlenkowa, natomiast powloka, otrzymana przy uzyciu kwasu siarkowego jako elektro¬ litu, jest ciemna i mniej twarda.Równiez jesli podczas elektrolizy utrzy¬ muje sie stala temperature kapieli, to sole metali dodanych wykazuja ten sam regu¬ lujacy wplyw na natezenie pradu, jak opi¬ sano powyzej. Na przyklad przy uzyciu sa¬ mego kwasu siarkowego natezenie pradu spada od 1,40 amp na poczatku doswiad¬ czenia do 1,30 amp, podczas gdy w razie dodania siarczanu manganawego spadek jest o wiele wiekszy, t j. od 1,62 amp na poczatku do 1,15 amp pod koniec elektro¬ lizy. Mimo wiekszego spadku natezenia pradu powloki tlenkowe, otrzymane w obecnosci siarczanu manganu, sa co naj¬ mniej o 20% grubsze, niz w nieobecnosci tej soli.Przyklad III. Zamiast elektrolitu, uzy¬ tego w przykladzie II, stosuje sie elektro¬ lit zlozony z 60 g stezonego kwasu siarko¬ wego, 100 g siarczanu manganawego i 25 g kwasu fosforo - wolframowego w 1 litrze wody. Wynik jest w przyblizeniu taki sam, jak przy uzyciu elektrolitu wedlug przy¬ kladu II.Przyklad IV. Zamiast elektrolitu, uzy¬ tego w przykladzie II, stosuje sie z takim samym w przyblizeniu wynikiem elektrolit zfozony z 50 g stezonego kwasu siarkowego i 20 g krystalicznego siarczanu kobaltu w 1 litrze wody.Przyklad V. Zamiast elektrolitu, uzy¬ tego w przykladzie II, stosuje sie prawie z takim samym wynikiem elektrolit zlozony z 60 g kwasu szczawiowego i 40 g kwasu mo- libdeno - szczawiowego w 1 litrze wody.Wyroby, powleczone wedlug niniejsze¬ go wynalazku ochronna warstwa tlenkowa, mozna barwic w jakikolwiek znany sposób.Dalej powloki te mozna obrabiac w celu na¬ dania im lepszych wlasciwosci, poddawac obróbce wrzaca woda, para wodna albo wrzacymi roztworami chromianów, albo tez mozna je zanurzac w lakierach, stopio¬ nym wosku i t. d.Zamiast soli metali wymienionych w przykladach mozna równiez stosowac octan niklu, fosforan manganu, alun chromowy, siarczan chromowy i t. d. . PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe. Sposób wytwarzania powloki tlenko¬ wej na glinie lub stopach glinowych za po¬ moca elektrolizy w kapieli kwasnej, zna¬ mienny tym, ze do kwasnej kapieli dodaje sie rozpuszczalnych soli chromowych, manganawych, niiklawych, koibaltawych lub zwiazków kompleksowych wolframu lub molibdenu. Schering-Kahlbaum A. G. Zastepca: M. Skrzypkbwski, rzecznik patentowy. Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL26208B1 true PL26208B1 (pl) | 1938-03-31 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4419905B2 (ja) | 電解リン酸塩化成処理方法 | |
| GB1580994A (en) | Material for selective absorption of solar energy and production thereof | |
| US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
| JP2004513242A (ja) | クロム合金を析出させる方法 | |
| US2990343A (en) | Chromium alloy plating | |
| US3239440A (en) | Electrolytic pickling of titanium and titanium base alloy articles | |
| US3616311A (en) | Integral hard coat anodizing system | |
| US2320773A (en) | Electrodeposition of manganese | |
| PL26208B1 (pl) | Sposób wytwarzania powloki tlenkowej na glinie lub stopach glinowych. | |
| US4356069A (en) | Stripping composition and method for preparing and using same | |
| US3717555A (en) | Method of producing an electrolytic coating on aluminum and the product thereof | |
| EP0088192B1 (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
| US4111760A (en) | Method and electrolyte for the electrodeposition of cobalt and cobalt-base alloys in the presence of an insoluble anode | |
| US2231086A (en) | Method of producing oxide coated aluminum and aluminum base alloys and electrolyte therefor | |
| US1362159A (en) | Composition for electrolytes for electrical etching | |
| US2330170A (en) | Electrolytic polishing of metal | |
| US1985308A (en) | Electroplating of articles with chromium | |
| JP2014224280A (ja) | リン酸塩化成処理浴組成物及びリン酸塩皮膜形成方法 | |
| US3213008A (en) | Electrolytic polishing of stainless steel | |
| Nielsen et al. | Cathode Films in Tungstate‐Containing Plating Baths | |
| US3738921A (en) | Anodic oxidation of aluminum and alloys thereof to form hard anodizedcoatings thereon | |
| US3755094A (en) | Anode compositions | |
| Pinner et al. | Nickel Plating | |
| JP3140584B2 (ja) | 黒色皮膜形成方法 | |
| JPS63186889A (ja) | 高速連続光沢ニツケルめつき方法 |